JP6095669B2 - 磁気共鳴イメージング装置及び方法 - Google Patents
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Description
仮にその誤差成分を計測できたとしても、傾斜磁場やRFの空間分布を局所的に変化させることは困難であり位置に依存して異なる誤差成分に対応することが難しい。
本実施形態のMRI装置は、制御部が、1回のRF励起後に収集される複数のエコーの位相特性を用いて、複数のエコーが配置されるk空間における配置順序を制御する。k空間へのエコーの配置順序の制御は、位相エンコード傾斜磁場の印加量の制御を介して行う。複数のエコーの位相特性を計測するための前計測部と、前計測部で取得した複数のエコーの位相と基準位相との差を算出し、基準位相との位相差が小さい順に複数のエコーが並ぶ配置順序を決定する位相計算部を備える。基準位相は、例えば、RF励起後の1番目に収集されるエコーの位相値を用いることができる。或いは、基準位相は、1回のRF励起後に収集される複数のエコーの位相の平均値を用いることができる。
φ=φ0+φ1r+φ2r2+・・・ ・・・(1)
式中、rは傾斜磁場中心からの距離、φ0は位置に依存しない位相誤差(0次誤差)、φ1rは距離に一次依存する位相誤差、φ2r2は距離に二次依存する位相誤差である。
FSE法のパルスシーケンスにおいて、短TE撮像を行う場合にはRF励起後の1番目に取得されるエコーをk空間の中心に配置するセントリックオーダーを採用する。また、前述の位相差は、1番目に取得されるエコーと、2番目に取得されるエコーの間の差が全エコー中最も大きくなることが多い。このため第一実施形態では、セントリックオーダーを基本として配置順序を制御する場合を説明した。しかし、本実施形態は、セントリックオーダーに限らず、それ以外の配置順序の場合にも適用することができる。その場合には、1番目のエコーの位相を基準とするのではなく、k空間の中心に配置される任意のエコーを基準とすることができる。また複数のエコーの位相の平均値を基準としてもよい。複数のエコーの位相の平均値を基準位相とする場合の手順を図9に示す。図9中、図4に示すステップと同じ処理内容のステップは同じ符号で示している。
第一実施形態では、図2のパルスシーケンスがシングルショットかマルチショットかの区別をせずに説明をしたが、この変更例2では、k空間全体を埋める複数のエコーを、1回の励起後に全て収集するのではなく、複数回の励起で収集するマルチショットの場合を説明する。マルチショットの場合には、ショット毎に位相エンコードを設定する必要があるが、前計測は1回行えばよく、この前計測によって得られたエコーの位相特性からエコーの配置順序を決定することは第一実施形態と同じである。
本実施形態では、各エコーの位相特性を前計測で得るのではなく、予め知られている位相特性或いはFSE法のパルスシーケンスに特有の位相特性を用いてk空間配置順序の制御を行う。k空間へのエコーの配置順序の制御は、位相エンコード傾斜磁場の印加量の制御を介して行う。即ち、制御部は、複数のエコーの位相特性として、RF励起後奇数番目に収集されるエコーと偶数番目に収集されるエコーの位相特性を用いて、k空間配置順序を制御する。例えば、奇数番目に収集されるエコー及び偶数番目に収集されるエコーのうち、一方をk空間の中心を含む、もしくは中心に隣接する第1の領域に配置し、他方を第1の領域の高周波側に位置する第2の領域に配置する。
本実施形態は、第一実施形態と同様の、前計測によって得たエコーの位相特性に基づく配置順序と、第二実施形態と同様の、奇数エコー及び偶数エコーの位相特性に基づく配置順序の両方を考慮した制御を行うことが特徴である。
例えば奇数エコーをk空間の中心を含む領域に配置するものとし、偶数エコーをその領域の外側(高周波側)に配置するものとする。この領域内における各奇数エコー及び偶数エコーの配置順序は、上述のとおり位相差の小さい順に中心から高周波側に並ぶようにする。
第一及び第二実施形態の説明に用いた図面(図2、図6)ではFSE法のパルスシーケンスとして、2D-パルスシーケンスを示したが、本実施形態では、ラジアルスキャンの場合を説明する。
次に、前述の本発明の各実施形態に適用できるグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)の一例を説明する。
図示するようにパルスシーケンスが設定されると、ユーザーが設定可能なパラメータの入力画面が表示される。パラメータとしては実効的なエコータイム(TE)やショット数、画質改善パラメータが含まれる。画質改善パラメータの一つとして、実効的TE優先かオーダリング制御のいずれかを選択可能にする。オーダリング(k空間配置順序)制御を行った場合には、画像に表れる実効的TEが変化する可能性があり、そのため画像のコントラスト種によっては好ましくないコントラスト変化を生じる場合がある。ユーザーは、実効的TEを優先させるかオーダリング制御による画質改善を優先させるかを決定しGUIを介して選択する。
Claims (13)
- 静磁場空間に高周波磁場を発生する高周波磁場発生部と、
前記静磁場空間に傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生部と、
前記静磁場空間に置かれた検査対象から発生する核磁気共鳴信号を受信する受信部と、
前記高周波磁場発生部、傾斜磁場発生部及び受信部を制御し、1回のRF励起後にスピンの反転を利用して複数のエコーを収集する高速スピンエコー法のパルスシーケンスを実行する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記1回のRF励起後に収集される複数のエコーの位相特性を用いて、前記複数のエコーが配置されるk空間における配置順序を制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記複数のエコーの位相特性を計測する前計測部を備える
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項2に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記前計測部で取得した複数のエコーの位相と基準位相との差を算出し、基準位相との位相差が小さい順に複数のエコーが並ぶ配置順序を決定する位相計算部を備え、
前記制御部は、前記位相計算部が決定した配置順序に従い、前記高速スピンエコー法のパルスシーケンスで計測した複数のエコーを前記k空間に配置する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項3に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御部は、前記RF励起後の1番目に収集されるエコーを前記k空間の中心または中心に近い位置に配置し、2番目以降のエコーを前記位相計算部が決定した配置順序に従い、前記k空間に配置する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項3に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記基準位相は、前記RF励起後の1番目に収集されるエコーの位相値である
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項3に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記基準位相は、前記1回のRF励起後に収集される複数のエコーの位相の平均値である
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御部は、前記複数のエコーの位相特性として、RF励起後奇数番目に収集されるエコーと偶数番目に収集されるエコーの位相特性を用いて、k空間配置順序を制御する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項7に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御部は、前記奇数番目に収集されるエコー及び偶数番目に収集されるエコーのうち、一方をk空間の中心を含む第1の領域に配置し、他方を前記第1の領域の高周波側に位置する第2の領域に配置する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記高速スピンエコー法のパルスシーケンスは、2Dパルスシーケンス、3Dパルスシーケンス、ラジアルパルスシーケンスの内の少なくとも一つを含む
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御部は、ユーザーからの指令を受け付けるユーザーインターフェイス部を備え、前記ユーザーインターフェイス部は、前記制御部によるk空間配置順序の制御を選択可能にする制御・非制御選択部を備える
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項10に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記ユーザーインターフェイス部は、前記複数のエコーの位相特性として、前計測により取得した位相特性を使用するか、規定値を使用するか、を選択する位相特性選択部を備える
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御部は、位相エンコード傾斜磁場の印加量を制御して、前記k空間へのエコーの配置順序を制御する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。 - 1回のRF励起後にスピンの反転を利用して複数のエコーを収集する高速スピンエコー法のパルスシーケンスを用いて撮像する磁気共鳴イメージング装置における磁気共鳴イメージング方法であって、
前記1回のRF励起後に収集される複数のエコーの位相特性を用いて、前記複数のエコーが配置されるk空間における配置順序を制御する
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング方法。
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