JP6076985B2 - 摺動部品 - Google Patents
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Description
この特徴によれば、極浅溝の周方向の上流側には流体導入用深溝を介して高圧流体が積極的に導入されるので、極浅溝に流入の際の減圧が抑えられ、キャビテーションの発生が防止される。また、万一、極浅溝において析出物が生成されたり、あるいは、析出物などの異物が入り込んだ場合でも、異物は極浅溝から高圧流体側に排出され、極浅溝に滞留し、漏れの原因となることはない。
この特徴によれば、極浅溝の数を適宜設定することにより、キャビテーションの発生の要因となる負の段差部(高い面から低い面に向かう際にできる段差部)の数を制御可能である。
この特徴によれば、摺動面において発生する動圧を最適な範囲に設定できると共に、キャビテーションの発生をより確実に防止できる。
この特徴によれば、動圧発生部である極浅溝と極浅溝及び流体導入用深溝より低圧流体側の摺動面Sとは分離され、該低圧流体側の摺動面に作用する流体圧力は高圧流体側の圧力とほぼ同等まで低減され、低圧流体側に漏洩する流体の量を低減することができる。
この特徴によれば、低圧流体側の摺動面に作用する流体圧力のより確実に低減し、低圧流体側に漏洩する流体の量をより確実に低減することができる。
この特徴によれば、摺動面から低圧流体側に漏洩しようとする流体を低減することができる。
この特徴によれば、ポンピング溝が摺動面より低い環状の極浅段差部の面に設けられた場合でも、ポンピング溝の高圧流体側には、低圧流体側に漏洩しようとする流体を高圧流体側に押し戻す際の障壁となる壁がないので、十分なポンピング効果を発揮することができ、低圧流体側への漏洩を防止することができる。
この特徴によれば、万一、摺動面に流体が無くなったとしても、ポンピング溝は相手側摺動面と直接接触しないため、ポンピング溝が回転トルクの増加要因となることを防止できる。
(1)摺動面の高圧流体側に面してレイリーステップ機構を構成する極浅溝を配設すると共に、極浅溝の上流側に前記高圧流体側と連通して前記高圧流体を導入するための流体導入用深溝を設けることにより、極浅溝の周方向の上流側には流体導入用深溝を介して高圧流体が積極的に導入されるので、極浅溝に流入の際の減圧が抑えられ、キャビテーションの発生が防止される。また、万一、極浅溝において析出物が生成されたり、あるいは、析出物などの異物が入り込んだ場合でも、異物は極浅溝から高圧流体側に排出され、極浅溝に滞留し、漏れの原因となることはない。
(2)極浅溝の数を適宜設定することにより、キャビテーションの発生の要因となる負の段差部(高い面から低い面に向かう際にできる段差部)の数を制御可能である。
(4)低圧流体側に面する摺動面には、高圧流体側から低圧流体側に漏洩しようとする流体を高圧流体側に押し戻す作用を有する環状のポンピング溝を設けることにより、摺動面から低圧流体側に漏洩しようとする流体を低減することができる。
(5)圧力低減用深溝の前記低圧流体側に面する摺動面には高圧流体側から低圧流体側に漏洩しようとする流体を高圧流体側に押し戻す作用を有する環状のポンピング溝を設けることにより、ポンピング溝が摺動面より低い環状の極浅段差部の面に設けられた場合でも、ポンピング溝の高圧流体側には、低圧流体側に漏洩しようとする流体を高圧流体側に押し戻す際の障壁となる壁がないので、十分なポンピング効果を発揮することができ、低圧流体側への漏洩を防止することができる。
(6)ポンピング溝を、摺動面より低い環状の極浅段差部の面に設けられていることにより、万一、摺動面に流体が無くなったとしても、ポンピング溝は相手側摺動面と直接接触しないため、ポンピング溝が回転トルクの増加要因となることを防止できる。
なお、本実施形態においてはメカニカルシールを構成する部品が摺動部品である場合を例にして説明するが、本発明はこれに限定されて解釈されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々の変更、修正、改良を加えうるものである。
本発明の実施形態1に係る摺動部品について図1ないし3を参照しながら説明する。
図1は、一般産業機械用のメカニカルシールの一例を示す正面断面図である。
図1のメカニカルシールは摺動面の外周から内周の方向に向かって漏れようとする高圧流体(被密封流体)を密封する形式のインサイド形式のものであって、高圧流体側(被密封流体側)のポンプインペラ(図示省略)を駆動させる回転軸1側にスリーブ2を介してこの回転軸1と一体的に回転可能な状態に設けられた一方の摺動部品を構成する円環状の回転環3と、ポンプのハウジング4に固定されたシールカバー5に非回転状態かつ軸方向移動可能な状態で設けられた他方の摺動部品を構成する円環状の固定環6とが、この固定環6を軸方向に付勢するベローズ7によって、ラッピング等によって鏡面仕上げされた摺動面S同士で密接摺動するようになっている。すなわち、このメカニカルシールは、回転環3と固定環6との互いの摺動面Sにおいて、高圧流体(被密封流体)が回転軸1の外周から内周側へ流出するのを防止するものである。
通常、摺動部品の摺動面Sの内外周の一方側に高圧流体(被密封流体)が存在し、他方側は低圧流体(大気)であるが、図2及び3においては、説明の都合上、外周側に高圧流体が存在し、内周側に低圧流体(大気)が存在する場合について説明する。
なお、極浅溝10は、必ずしも周方向に複数設けられる必要はなく、少なくとも1個設けられていればよく、また、半径方向の幅bも被密封流体の種類、圧力などに基づいて適宜設定されるものであり、例えば、摺動面の径方向の幅の1/2〜1/10の範囲が好ましい。
なお、本発明において、微細周期溝とは、相互に平行で一定のピッチの複数の微細な線状の凹凸をいい、線状の凹凸には、直線状の凹凸、直線状の凹凸形成の過程で出現される多少湾曲された凹凸、または、円弧状の凹凸など曲線状の凹凸も包含される。
極浅溝10、流体導入用深溝11及び微細周期溝12の形成は、例えば、エッチング、フェムト秒レーザ、ピコ秒レーザなどにより行われる。
なお、本発明の実施形態1においては、極浅溝10の上流側に高圧流体側と連通して極浅溝10に高圧流体を導入するための流体導入用深溝11が設けられる関係上、固定環6(または回転環3)は片回転方向仕様となり、両回転方向には不適切である。
本発明の実施形態2に係る摺動部品について図4及び5を参照しながら説明する。
実施形態2は、圧力低減用深溝が付加されている点において実施形態1と相違するが、その他の構成は実施形態1と同じであり、実施形態1と同じ部材には同じ符号を付し、重複する説明は省略する。
また、圧力低減用深溝15は極浅溝10及び流体導入用深溝11の低圧流体側に面して全周にわたって設けられている。さらに、圧力低減用深溝15の摺動面Sからの深さH’は、10μm以上に設定されるのが好ましい。この場合、深さH’の上限は固定環6の軸方向の長さにより自ずと有限な値に限定されるものであって、無限大ではない。 圧力低減用深溝15の形成は、例えば、エッチング、フェムト秒レーザ、ピコ秒レーザなどにより行われる。
本発明の実施形態3に係る摺動部品について図6及び7を参照しながら説明する。
実施形態3は、環状のポンピング溝が圧力低減用深溝の低圧流体側に面する摺動面に設けられている点において実施形態2と相違するが、その他の構成は実施形態2と同じであり、実施形態2と同じ部材には同じ符号を付し、重複する説明は省略する。
本発明の実施形態1及び2に係る摺動部品を備えた図1に示すようなメカニカルシールにおいて、固定環3及び回転環6の摺動面Sには高圧の被密封流体が入り込み極浅溝10で発生される動圧により隙間を広げようとするが、該隙間を広げようとする力と、回転環6を背部から押す流体圧及びベローズ7による力とがバランスして狭い隙間を保持することで摺動面Sは流体潤滑状態を維持する。この際、本発明においては、極浅溝10に高圧流体を導入するための流体導入用深溝11が設けられているため、極浅溝10の周方向の上流側には流体導入用深溝11を介して高圧流体が積極的に導入されるので、極浅溝10に流入の際の減圧が抑えられ、キャビテーションの発生が防止されるものである。また、万一、極浅溝10において析出物が生成されたり、あるいは、析出物などの異物が入り込んだ場合でも、異物は極浅溝から高圧流体側に排出され、極浅溝に滞留することがないため、漏れの原因となることはない。
さらに、本発明の実施形態3に係る摺動部品においては、ポンピング溝14が圧力低減用深溝15の低圧流体側に面する摺動面Sに設けられているため、該ポンピング溝14が摺動面Sより低い環状の極浅段差部13の面に設けられた場合でも、ポンピング溝14の高圧流体側には、低圧流体側に漏洩しようとする流体を高圧流体側に押し戻す際の障壁となる壁がないので、十分なポンピング効果を発揮することができ、低圧流体側への漏洩を防止することができる。
さらに、本発明の実施形態1ないし3に係る摺動部品においては、ポンピング溝14が摺動面Sより低い環状の極浅段差部13の面に設けられているため、摺動面Sに直接形成された従来技術1及び2の溝と異なり、万一、摺動面Sに流体が無くなったとしても、ポンピング溝14は相手側摺動面と直接接触しないため、ポンピング溝14が回転トルクの増加要因とはならない。
2 スリーブ
3 回転環
4 ハウジング
5 シールカバー
6 固定環
7 ベローズ
10 極浅溝
11 流体導入用深溝
12 微細周期溝
13 極浅段差部
14 ポンピング溝
15 圧力低減用深溝
S 摺動面
B 摺動面の径方向の幅(極浅段差部を含む)
b 極浅溝の径方向の幅
b’ 極浅段差部の径方向の幅
h 極浅溝の摺動面からの深さ
h’ 極浅段差部の摺動面からの深さ
Claims (8)
- 一対の摺動部品の互いに相対摺動する一方側の摺動面には、該摺動面の高圧流体側に面してレイリーステップ機構を構成する極浅溝が配設されると共に、前記極浅溝の上流側に前記高圧流体側と連通して前記高圧流体を導入するための流体導入用深溝が設けられ、前記極浅溝は、該極浅溝の周方向の全長にわたって、径方向に開口し前記高圧流体側と連通していることを特徴とする摺動部品。
- 前記極浅溝は、環状に少なくとも1つ以上設けられることを特徴とする請求項1記載の摺動部品。
- 前記極浅溝の前記摺動面からの深さは、0.1〜0.6μmであり、前記流体導入用深溝の前記摺動面からの深さは、10μm以上であることを特徴とする請求項1または2記載の摺動部品。
- 前記極浅溝及び前記流体導入用深溝の低圧流体側に面する前記摺動面には前記極浅溝及び前記流体導入用深溝と前記低圧流体側の摺動面とを分離して前記低圧流体側の摺動面に作用する圧力を低減するための環状の圧力低減用深溝を設けることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の摺動部品。
- 前記圧力低減用深溝の前記摺動面からの深さは、10μm以上であることを特徴とする請求項4記載の摺動部品。
- 前記極浅溝及び前記流体導入用深溝の低圧流体側に面する前記摺動面には前記高圧流体側から前記低圧流体側に漏洩しようとする流体を前記高圧流体側に押し戻す作用を有する環状のポンピング溝を設けることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の摺動部品。
- 前記圧力低減用深溝の前記低圧流体側に面する前記摺動面には前記高圧流体側から前記低圧流体側に漏洩しようとする流体を前記高圧流体側に押し戻す作用を有する環状のポンピング溝を設けることを特徴とする請求項4または5に記載の摺動部品。
- 前記ポンピング溝は、前記摺動面より低い環状の極浅段差部の面に設けられていることを特徴とする請求項6または7に記載の摺動部品。
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