JP5934932B2 - 光導波路、光電気複合配線板、及び光導波路の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光導波路、前記光導波路を備える光電気複合配線板、及び光導波路の製造方法に関する。

中長距離通信の分野、具体的には、ＦＴＴＨ（Ｆｉｂｅｒ Ｔｏ Ｔｈｅ Ｈｏｍｅ）や車載用の分野等では、高速伝送が求められており、これを実現するために、伝送媒体として光ファイバケーブルが用いられてきた。

そして、短距離通信、例えば、１ｍ以内の通信においても、高速伝送が求められるようになってきている。また、このような短距離通信の分野では、光ファイバケーブルでは実現困難な性能も求められる。この求められる性能としては、具体的には、狭ピッチ、分岐、交差、及び多層化等の高密度配線、表面実装性、電気回路基板との一体化が可能であること、及び曲率半径の小さな曲げが可能であること等が挙げられる。これらの要求を満たすもとのとして、光導波路を備えた光配線板を用いることが考えられる。

また、このような光配線板には、光導波路から入出力された光を利用するために、垂直共振器面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）等の発光素子、フォトダイオード（ＰＤ）等の受光素子、及び集積回路（ＩＣ）等の半導体素子等が実装されていることが好ましい。そして、これらの素子を駆動させるために、光配線板上等に、電気回路が設けられている必要がある。このことから、光導波路だけではなく、電気回路も設けられた光電気複合配線板であることが好ましい。

また、このような光電気複合配線板においては、光導波路内を導波させる光を所望の角度に曲げて、例えば、光導波路への光の入力や光導波路からの光の出力等を目的として、光導波路のコア部等に、光を反射可能な傾斜面が形成されている。そして、その傾斜面での光の反射率を高めるために、傾斜面に金属層を形成することがある。

光導波路において、傾斜面に金属層を形成する方法としては、例えば、特許文献１に記載の、ミラー付き光導波路の製造方法等が挙げられる。

特許文献１には、光導波路のコアに斜面を有し、該斜面に金属膜を有するミラー付き光導波路の製造方法であって、金属膜転写用治具に金属を蒸着し、上記斜面に上記コアと同じ屈折率を有する接着剤を付着させ、該接着剤付きの斜面に上記金属膜転写用治具の上記金属を当てることにより、上記金属を転写させて上記斜面に金属膜を形成するミラー付き光導波路の製造方法が記載されている。

特開２００８−３０４６１５号公報

光導波路を製造する際、コア部の傾斜面に金属層を貼り付ける、いわゆる、転写法により金属層を形成する場合、コア部の傾斜面を超えて、コア部の側面に金属層が回り込んで形成される場合があった。このようにコア部の側面に金属層が回り込んだ場合、傾斜面に金属層を貼り付ける際に加える圧力が、傾斜面全体に均一にかけにくくなる。そうなると、金属層での光の反射における損失が大きくなってしまうことがあった。また、この金属層の回り込みは、隣り合うコア部間の距離が広いと、発生しやすい傾向があった。このため、コア部間の距離を縮めることが考えられる。しかしながら、コア部間の距離を縮めようとすれば、コア部の形成が困難になったり、コア部間に存在するクラッド層が薄くなり、コア部とクラッド層との間での光の反射率が低下するおそれ等があった。

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、光の反射における損失が低減された金属層を傾斜面に形成することができる光導波路の製造方法を提供することを目的とする。また、光の反射における損失が低減された金属層を傾斜面に形成することができる光導波路を提供することを目的とする。また、前記光導波路を備えた光電気複合配線板を提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る光導波路の製造方法は、長尺状のコア部と、前記コア部の幅方向に所定の間隔をあけて並設する補助部とを、第１クラッド層の表面上に形成するコア部形成工程と、前記コア部に、光を反射させるための傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、前記傾斜面上に、転写法により金属層を形成する金属層形成工程と、前記第１クラッド層上に形成されたコア部及び補助部を埋設するように第２クラッド層を形成することによって、前記コア部を被うクラッド層を形成するクラッド層形成工程とを備え、前記傾斜面形成工程が、前記コア部に前記傾斜面を形成するとともに、前記補助部の一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように加工する工程であることを特徴とする光導波路の製造方法である。

また、前記光導波路の製造方法において、前記傾斜面形成工程は、前記補助部の一端面が、前記傾斜面と略同一面上に存在する傾斜面を形成する工程であることが好ましい。

また、前記光導波路の製造方法において、前記コア部と前記補助部との間隔が、１０〜５０μｍであることが好ましい。

また、前記光導波路の製造方法において、前記傾斜面形成工程が、前記コア部に前記傾斜面を形成するとともに、前記コア部の前記傾斜面に対向し、前記コア部と離間して設けられる対向部を形成する工程であり、前記対向部の高さが、前記コア部の高さの半分以上であることが好ましい。

また、前記光導波路の製造方法において、前記対向部の、前記傾斜面と対向する面が、前記傾斜面の傾斜とは反対方向に傾斜した面であって、前記コア部と前記対向部との間隔が、最も近いところで、１０〜１００μｍであることが好ましい。

また、本発明の他の一態様に係る光導波路は、長尺状のコア部と、前記コア部を被うクラッド層とを備え、前記各コア部が、光を反射させるための傾斜面を有し、一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように、前記コア部の幅方向に所定の間隔をあけて並設する補助部をさらに備えることを特徴とする光導波路である。

また、前記光導波路において、前記補助部の、前記傾斜面と隣り合うように位置する一端面が、前記傾斜面と略同一面上に存在することが好ましい。

また、前記光導波路において、前記傾斜面上に、金属層を備えることが好ましい。

また、前記光導波路において、前記コア部の前記傾斜面に対向し、前記コア部と離間して設けられる対向部をさらに備え、前記対向部の高さが、前記コア部の高さの半分以上であることが好ましい。

また、本発明の他の一態様に係る光電気複合配線板は、前記光導波路と電気配線板とを備える光電気複合配線板である。

本発明によれば、光の反射における損失が低減された金属層を傾斜面に形成することができる光導波路を提供することができる。また、前記光導波路を備えた光電気複合配線板が提供される。また、光の反射における損失が低減された金属層を傾斜面に形成することができる光導波路の製造方法を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る製造方法により製造される光導波路の一部を示す概略図である。 図１における破線１５で囲まれた部分の拡大図である。 本発明の実施形態で用いる積層フィルムの一例の断面図を示す。 本発明の他の一実施形態に係る製造方法により製造される光導波路の一部を示す概略図である。 従来の光導波路の一部を示す概略図である。 実施例１に係る光導波路の製造方法を説明するための模式図である。 実施例１における、コア部への傾斜面形成の開始時を説明するための図面である。 実施例１における、コア部への傾斜面の形成後を説明するための図面である。 実施例２に係る光導波路の製造方法を説明するための模式図である。 比較例に係る光導波路の製造方法を説明するための模式図である。 比較例における、コア部への傾斜面形成の開始時を説明するための図面である。 比較例における、コア部への傾斜面の形成後を説明するための図面である。

以下、本発明に係る実施形態について説明する。

本発明の一実施形態に係る光導波路の製造方法は、長尺状のコア部と、前記コア部の幅方向に所定の間隔をあけて並設する補助部とを、第１クラッド層の表面上に形成するコア部形成工程と、前記コア部に、光を反射させるための傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、前記傾斜面上に、転写法により金属層を形成する金属層形成工程と、前記第１クラッド層上に形成されたコア部及び補助部を埋設するように第２クラッド層を形成することによって、前記コア部を被うクラッド層を形成するクラッド層形成工程とを備え、前記傾斜面形成工程が、前記コア部に前記傾斜面を形成するとともに、前記補助部の一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように加工する工程であることを特徴とする光導波路の製造方法である。具体的には、図１に示すような光導波路を製造する方法が挙げられる。すなわち、ここで製造される光導波路は、長尺状のコア部と、前記コア部を被うクラッド層とを備え、前記各コア部が、光を反射させるための傾斜面を有し、一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように、前記コア部の幅方向に所定の間隔をあけて並設する補助部をさらに備える光導波路である。また、光導波路の製造方法は、上記の各工程を備えていれば、特に限定されず、具体的な製造方法は、下記実施例で詳細に説明する。なお、図１は、本発明の一実施形態に係る製造方法により製造される光導波路の一部を示す概略図である。図１（ａ）は、長尺状のコア部の側面側から見た光導波路の一部を示す側面図である。図１（ｂ）は、コア部側から見た光導波路の一部を示す平面図である。

本発明の一実施形態に係る製造方法により製造される光導波路１０は、まず、図１に示すように、長尺状のコア部１１を備える。そして、光導波路１０は、コア部１１を被うクラッド層を備える。なお、光導波路は、実際には、このように、コア部と、コア部を被うクラッド層とを備えるものである。クラッド層としては、例えば、表面上にコア部が形成された第１クラッド層（下部クラッド層）と、そのコア部を埋設するように形成された第２クラッド層（上部クラッド層）とからなるもの等が挙げられる。しかしながら、図１には、本実施形態の特徴を説明するために、クラッド層の一部を省略し、コア部がクラッド層で覆われていないものを示す。具体的には、図１には、クラッド層として、第１クラッド層１２のみを示し、第２クラッド層を省略したものを示す。

また、光導波路１０としては、図１には、コア部が２本のものを例示したが、上記構成を備えるものであれば、特に限定されず、１本のものでも、３本以上のものであってもよい。

また、光導波路１０は、長尺状のコア部１１が、光を反射させるための傾斜面１１ａを有する。そして、光導波路１０には、コア部１１及びクラッド層以外に、コア部１１の幅方向に所定の間隔をあけて並設する補助部１３を備える。補助部１３は、その一端面１３ａが、コア部１１の傾斜面１１ａと隣り合う位置になるように設けられる。そして、補助部１３は、コア部１１との間に、所定の間隔Ｄ１をあけて設けられる。また、コア部１１が２本以上ある場合は、補助部１３は、隣り合うコア部１１の間に間在する。そして、補助部１３は、隣り合うコア部１１のいずれとも、所定の間隔Ｄ１をあけて設けられる。

また、コア部１１の傾斜面１１ａ上には、図２に示すように、金属層１７を備える。そうすることで、光の反射率を高めることができ、傾斜面での光の反射による、光の損失を抑制することができる。なお、図２は、図１における破線１５で囲まれた部分の拡大図である。また、金属層１７は、コア部１１の傾斜面１１ａ上に直接形成されていてもよいし、図２に示すように、接着剤層１６を介して形成されていてもよい。そうすることによって、金属層１７の密着性の向上を図れる。また、金属層１７は、光の反射率を高めることができれば、特に限定されない。例えば、銅からなる層等が挙げられる。

また、この金属層１７の形成方法は、例えば、転写法が挙げられる。より具体的には、図３に示すような、接着剤層１６、金属層１７、及び基材１８の順に積層された積層フィルム１９を用いて形成する方法が挙げられる。なお、図３は、本発明の実施形態に係る光導波路において、コア部の傾斜面に金属層を形成する際に用いる積層フィルムの一例の断面図を示す。この積層フィルム１９の接着剤層１６を、コア部１１の傾斜面１１ａに接触するように載置した後、積層フィルム１９の基材１８側から、傾斜面１１ａに向かって押圧する。その際、積層フィルム１９の基材１８側に、先端部が弾性材からなる加圧ヘッドをあてて、加圧する方法が挙がられる。また、弾性材としては、例えば、シリコーンゴム等が挙げられる。また、積層フィルムは、金属層１７と基材１８との間に、金属層の離型性を高めるために、離型層を備えるものであってもよい。また、積層フィルムとしては、特に限定されないが、例えば、株式会社サーマルプリンタ研究所製のＴＣＵ３０００等が挙げられる。

このような光導波路を製造する方法であれば、得られた光導波路は、コア部の傾斜面に、光の反射における損失が低減された金属層が形成されたものである。このことは、光を反射させるための傾斜面をコア部に形成し、その傾斜面上に、例えば、上述したような、コア部の傾斜面に金属層を貼り付けて、金属層を形成する際に発生しうる、コア部の側面への金属層の回りこみを、コア部に並設された補助部によって、抑制することができることによると考えられる。このことにより、金属層は、傾斜面に貼り付けられる際に、均一に加圧することができると考えられる。よって、光の反射における損失が低減された金属層を形成することができると考えられる。

また、補助部１３は、その一端面１３ａが、コア部１１の傾斜面１１ａと隣り合う位置に配置されていれば、特に限定されない。このような補助部１３であれば、コア部の側面への金属層の回りこみを抑制することができると考えられる。また、補助部１３の、傾斜面１１ａと隣り合うように位置する一端面が、コア部１１の傾斜面１１ａと略同一面上に存在することが好ましい。すなわち、補助部１３の、傾斜面１１ａと隣り合うように位置する一端面１３ａが、コア部１１の傾斜面１１ａと略同一の角度で傾斜した傾斜面であることが好ましい。そうすることによって、上述した、金属層の回りこみをより抑制することができると考えられ、光の反射における損失がより低減された金属層を形成することができる。

また、補助部１３の材質は、コア部１１を構成する材質と同じであってもよいし、異なっていてもよい。異なる場合、コア部１１より屈折率の低い材料であれば、それ自体がクラッドとして機能しうる。補助部１３とコア部１１との間の間隔Ｄ１が狭くても、コア部１１を導波される光の、コア部１１とクラッド層との界面における反射率の低下を抑制することができる。よって、光の損失の低下を抑制することができる。また、補助部１３とコア部１１との間の間隔Ｄ１は、狭いほど好ましい。コア部１１の傾斜面１１ａと補助部１３の傾斜面１３ａとが、連続面に近似してきて、金属層の回りこみをより抑制することができると考えられ、光の反射における損失がより低減された金属層を形成することができる。

また、補助部１３とコア部１１との間の間隔Ｄ１は、１０〜５０μｍであることが好ましく、１５〜４０μｍであることがより好ましく、２０〜３０μｍであることがさらに好ましい。この間隔Ｄ１が小さすぎると、コア部１１を導波される光が、コア部１１とクラッド層との界面での反射率が低下し、クラッド層を通過する傾向がある。すなわち、コア部１１を導波される光の、補助部１３側への放射による損失が生じる傾向がある。このことにより、補助部１３の材質は、コア部１１を構成する材質と同じであっても、コア部１１を導波される光の、コア部１１とクラッド層との界面における反射率の低下を抑制することができると考えられる。また、間隔Ｄ１が大きすぎると、コア部側面への金属層の回りこみを抑制する効果が低減する傾向がある。

また、光導波路の製造方法は、上述した製造方法において、コア部に傾斜面を形成する際に、コア部の傾斜面に対向し、コア部と離間して設けられる対向部も形成する方法であってもよく、この対向部を形成する方法が好ましい。具体的には、図４に示すような光導波路を製造する方法が挙げられる。すなわち、ここで製造される光導波路２０は、光導波路１０と同様の光導波路において、図４に示すように、コア部１１の傾斜面１１ａに対向し、コア部１１と離間して設けられる対向部２４をさらに備えるものである。なお、図４は、本発明の他の一実施形態に係る製造方法により製造される光導波路の一部を示す概略図である。図４（ａ）は、長尺状のコア部の側面側から見た光導波路の一部を示す側面図である。図４（ｂ）は、コア部側から見た光導波路の一部を示す平面図である。

このような対向部を形成することによって、コア部の傾斜面に、光の反射における損失がより低減された金属層が形成された光導波路が得られる。このことは、コア部１１の傾斜面１１ａに金属層１７を貼り付けるために、金属層１７を加圧する際、加圧に供した部材が、クラッド層の面方向等にずれることを抑制することができることによると考えられる。すなわち、金属層１７の形成の際に、均一に加圧することができることによると考えられる。

また、対向部２４の高さが、コア部１１の高さの半分以上であることが好ましい。そうすることによって、金属層１７を加圧する際における、加圧に供した部材の、クラッド層の面方向等のずれの発生を好適に抑制することができ、金属層１７の形成の際に、より均一に加圧することができると考えられる。対向部２４が低すぎると、対向部が存在することによる、前記ずれの発生の抑制を発揮しにくくなる傾向がある。

また、対向部２４の、コア部１１の傾斜面１１ａと対向する面が、傾斜面１１ａの傾斜とは反対方向に傾斜した面２４ａであることが好ましい。そして、コア部１１と対向部２４との間隔Ｄ２が、最も近いところで、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜６０μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることがさらに好ましい。この間隔Ｄが狭すぎると、金属層１７を加圧する際における、加圧に供した部材が、第１クラッド層１２まで到達しにくくなる傾向がある。よって、コア部１１の傾斜面の第１クラッド層１２に近いところを加圧しにくくなり、金属層１７を均一に加圧しにくくなる傾向がある。また、間隔Ｄ２が大きすぎると、対向部が存在することによる、前記ずれの発生の抑制を発揮しにくくなる傾向がある。

また、この対向部２４の材質は、コア部１１を構成する材質と同じであってもよいし、異なっていてもよい。

次に、本発明に係る実施形態と比較するための比較用の実施形態として、従来の光導波路について説明する。

この比較用の実施形態は、補助部１３を備えないこと以外は、本発明に係る実施形態と同様である。具体的には、図５に示すような光導波路３０が挙げられる。なお、図５は、従来の光導波路の一部を示す概略図である。図５（ａ）は、長尺状のコア部の側面側から見た光導波路の一部を示す側面図である。図５（ｂ）は、コア部側から見た光導波路の一部を示す平面図である。

このような光導波路３０であれば、隣り合うコア部１１間の距離が長く、コア部１１の傾斜面１１ａに、金属層を貼り付ける際、コア部１１の側面に金属層が回りこみ、それが原因となって、傾斜面１１ａに均一な金属層を形成できない。また、コア部１１間の距離を単に短くすれば、コア部１１を導波される光の、コア部１１とクラッド層との界面における反射率の低下を抑制することが困難になる。

これに対して、本発明の実施形態に係る上記光導波路であれば、コア部間の距離を変更しなくても、上述したように、光の反射における損失が低減された金属層を傾斜面に形成することができる。

また、本発明の他の一実施形態に係る光電気複合配線板は、前記光導波路と電気配線板とを備えるものである。この光電気複合配線板は、前記光導波路と電気配線板とを備えるものであれば、特に限定されない。具体的には、前記光導波路を、電気回路が予め形成された電気配線板上に形成させることによって、光電気複合配線板が得られる。また、前記光導波路と、電気回路が予め形成された電気配線板とを貼り付けることによっても、光電気複合配線板が得られる。

また、電気配線板としては、電気回路が形成された基板であれば、特に限定されない。その基板が、フレキシブル基板であっても、リジッド基板であってもよい。

以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。なお、本発明の範囲は、実施例により何ら限定されるものではない。

はじめに、本実施例で用いた樹脂フィルムの製造方法について説明する。

（下部クラッド層用樹脂フィルムの製造）
ポリプロピレングリコールグリシジルエーテル（新日鐵化学株式会社製の「ＰＧ２０７」）７質量部、液状の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学株式会社製の「ＹＸ８０００」）２５質量部、固形の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学株式会社製の「ＹＬ７１７０」）２０質量部、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（株式会社ダイセル製の「ＥＨＰＥ３１５０」）８質量部、固形ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学株式会社製の「エピコート１００６ＦＳ」）２質量部、フェノキシ樹脂（新日鐵化学株式会社製の「ＹＰ５０」）２０質量部、光カチオン硬化開始剤（株式会社ＡＤＥＫＡ製の「ＳＰ１７０」）０．５質量部、熱カチオン硬化開始剤（三新化学工業株式会社製の「ＳＩ−１５０Ｌ」）０．５質量部、表面調整剤（ＤＩＣ株式会社製の「Ｆ４７０」）０．１質量部の各配合成分を、トルエン３０質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量部の溶剤に溶解し、孔径１μｍのメンブランフィルタで濾過した後、減圧脱泡することによって、エポキシ樹脂ワニスを調製した。このエポキシ樹脂ワニスを、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製の「Ａ４１００」）の上に、株式会社ヒラノテクノシード製のコンマコータヘッドのマルチコータを用いて塗布し、その塗布膜を乾燥させた。そうすることによって、所定の厚みの下部クラッド層用樹脂フィルムが得られた。このようにして得られた下部クラッド層用樹脂フィルムは、膜厚１５μｍであった。また、下部クラッド層用樹脂フィルムの、波長５７９ｎｍの光に対する屈折率は、１．５４であった。なお、この下部クラッド層用樹脂フィルムは、保護フィルムとしてＯＰＰフィルムで被覆した。

（コア部用樹脂フィルムの製造）
３、４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’、４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート（株式会社ダイセル製の「セロキサイド２０２１Ｐ（ＣＥＬ２０２１Ｐとも称する）」）８質量部、エポキシ樹脂（株式会社ダイセル製の「ＥＨＰＥ３１５０」、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロセキサン付加物）１２質量部、固形ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学株式会社製の「エピコート１００６ＦＳ」）３７質量部、３官能エポキシ樹脂（三井化学株式会社製の「ＶＧ−３１０１」）１５質量部、固形ノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬株式会社製の「ＥＰＰＮ２０１」）１８質量部、液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ株式会社製の「エピクロン８５０ｓ」）１０質量部、光カチオン硬化開始剤（株式会社ＡＤＥＫＡ製の「ＳＰ−１７０」）１質量部、表面調整剤（ＤＩＣ株式会社製の「Ｆ４７０」）０．１質量部の各配合成分を、トルエン３０質量部とＭＥＫ７０質量部との混合溶剤に溶解させた。そして、その溶液を、孔径１μｍのメンブランフィルタで濾過した後、減圧脱泡することによって、エポキシ樹脂ワニスを調製した。このエポキシ樹脂ワニスを、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製の「Ａ４１００」）の上に、株式会社ヒラノテクノシード製のコンマコータヘッドのマルチコータを用いて塗布し、その塗布膜を乾燥させた。そうすることによって、所定の厚みのコア部用樹脂フィルムが得られた。このようにして得られたコア部用樹脂フィルムは、膜厚４０μｍであった。また、コア部用樹脂フィルムの、波長５７９ｎｍの光に対する屈折率は、１．５９であった。また、コア部用樹脂フィルムの、波長８５０ｎｍの光に対する透過率は、０．０６ｄＢ／ｃｍであり、コア部用樹脂フィルムは、充分な透明性を有したものであった。

（上部クラッド層用樹脂フィルムの製造）
厚みが４０μｍとなるように変更したこと以外、上部クラッド層用樹脂フィルムと同様にして、上部クラッド層用樹脂フィルムを製造した。

（転写フィルムの製造）
光カチオン硬化開始剤（株式会社ＡＤＥＫＡ製の「ＳＰ−１７０」）１質量部の代わりに、熱カチオン硬化開始剤（三新化学工業株式会社製の「ＳＩ−１５０Ｌ」）１質量部に変更した以外、コア部用樹脂フィルム際に用いたエポキシ樹脂ワニスの調製方法と同様の方法で、接着層用の樹脂ワニスを調製した。なお、この樹脂ワニスを用いて、コア部用樹脂フィルムと同様の方法でフィルム化したものの、波長５７９ｎｍの光に対する屈折率は、１．５９であり、波長８５０ｎｍの光に対する透過率は、０．０６ｄＢ／ｃｍであった。この接着層用の樹脂ワニスを用いて得られたフィルムは、コア部と同様の屈折率及び透過率が得られることがわかった。

次に、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（東レ・デュポン株式会社製の「カプトン１００Ｈ」）を準備し、１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切断した。この切断して得られたポリイミドフィルムの片面に、真空スパッタにより、銅の薄膜を形成することによって、２層構造のフィルムが得られた。この形成した薄膜の厚みは、１５００Åである。この得られたフィルムの薄層側の表面上に、前記接着層用の樹脂ワニスを、バーコータで塗工し、８０℃で１０分間、１次乾燥をした後、１２０℃で１０分間、２次乾燥をした。そうすることによって、接着剤層が形成され、図３に示すような積層フィルムが得られた。

（実施例１）
図６を参照して、実施例１を説明する。なお、図６は、実施例１に係る光導波路の製造方法を説明するための模式図である。

まず、図６（ａ）に示すように、基板６１として、１４０ｍｍ×１４０ｍｍ×厚み１ｍｍのポリカーボネート基板を用意した。

次に、下部クラッド層用樹脂フィルムからＯＰＰフィルムを剥離し、その下部クラッド層用樹脂フィルムを、図６（ｂ）に示すように、基板６１上に載置し、６０℃、０．２ＭＰａの加圧条件で、１２０秒間加圧することによって、基板６１上に、下部クラッド層用樹脂フィルムを積層した。その後、下部クラッド層用樹脂フィルムの表面を、超高圧水銀灯で、波長３６５ｎｍの紫外光を、２０００ｍＪ照射した。そうすることによって、図６（ｂ）に示すように、下部クラッド層用樹脂フィルムが硬化し、基板６１上に第１クラッド層（下部クラッド層）６２が形成された。

次に、図６（ｃ）に示すように、コア部用樹脂フィルムを、下部クラッド層６２の表面上に載置し、６０℃、０．２ＭＰａの加圧条件で、１２０秒間加圧することによって、下部クラッド層６２上に、コア部用樹脂フィルムを積層することにより、コア材料層を形成した。

そして、図６（ｃ）に示すように、直線パターンのスリットを有するフォトマスク６４を用い、そのマスクを介して、コア材料層に、照射光が略平行光になるように調整された超高圧水銀灯で、波長３６５ｎｍの紫外光を、２０００ｍＪの光量で照射した。そうすることによって、コア材料層のコア部に相当する箇所が硬化された。ここで用いるフォトマスク６４としては、図７に示すコア部６５及び補助部７６を形成できるようなフォトマスクを用いた。具体的には、コア部形成用スリットと、補助部形成用スリットを備えたものを用いた。また、コア部形成用スリットは、２０本配置されているものであった。補助部形成用スリットは、各コア部形成用スリット間とコア部形成用スリットの両外側に配置され、コア部形成用スリットの両端部に配置したものであった。よって、補助部形成用スリットは、４２箇所配置したものであった。そして、コア部形成用スリットとしては、幅４０μｍ、長さ１１０ｍｍの直線パターンのスリットであった。補助部形成用スリットは、幅１５０μｍのスリットであった。また、コア部形成用スリットと補助部形成用スリットの距離は、３０μｍのものであった。

次に、フレオン代替の洗浄液である、水系洗浄剤（花王株式会社製の「クリーンスルー」）を用い、現象処理を行った。そうすることによって、図６（ｄ）及び図７（ａ）に示すような、コア部６５を、下部クラッド層６２上に形成した。また、その際、図７（ａ）に示すように、コア部６５とともに、補助部７６も形成した。

次に、図６（ｅ）に示すように、刃先の面が、刃の面方向に対する角度が４５°である刃、すなわち、頂角が９０°であって、先端幅が２０μｍである刃６８（メタルボンドブレード（粒度５０００番））を用い、回転数１５０００ｒｐｍで、コア部６５を切り込んだ。具体的には、図７（ａ）に示すように、最外部に配置されたコア部６５に対して、刃６８を、回転させながら、移動速度０．０３ｍｍ／秒の条件で降下させて、コア部６５を切り込んだ。その際、コア部６５を通り越し、下部クラッド層６２を５μｍ程度切り込まれるようにした。その後、図８（ａ）に示すように、その状態で、刃６８を下部クラッド層６２の面方向に、コア部６５を順次切り込むように、移動速度５ｍｍ／秒の条件で移動させた。そうすることによって、図６（ｅ）及び図８（ｂ）に示すように、４５°傾斜面６６ａを備えたコア部６６が形成された。その際、補助部７８にも、４５°傾斜面７８ａが形成された。さらに、４５°傾斜面６６ａに対向し、４５°傾斜面６６ａとは反対側に傾斜する傾斜面６７ａを備える対向部６７も形成された。また、先端幅が２０μｍである刃６８を用いて、コア部を切り込んでいることから、４５°傾斜面６６ａを備えたコア部６６と傾斜面６７ａを備える対向部６７との傾斜面の距離は、２０μｍであった。なお、図７は、コア部への傾斜面形成の開始時を説明するための図面である。図８は、コア部への傾斜面の形成後を説明するための図面である。図７及び図８は、図６（ｅ）で示す下部クラッド層６２の面方向に垂直上方からみた図である。また、図７（ｂ）は、図７（ａ）における破線７３で囲まれた部分の拡大図である。図８（ｂ）は、図８（ａ）における破線７７で囲まれた部分の拡大図である。

次に、下部クラッド層用樹脂フィルムの製造する際に用いた樹脂ワニスを、トルエンとＭＥＫとを、質量比で３：７で混合した混合溶剤で５０倍に希釈した溶液を、得られた各傾斜面にブラシで薄く塗布した。その後、１００℃で３０分間乾燥した後に、超高圧水銀灯で１Ｊ／ｃｍ^２の条件で紫外光を照射して露光した。その後、さらに１２０℃で１０分間熱処理を行なった。そうすることによって、各傾斜面が平滑化された。

次に、顕微鏡で観察しながら、図６（ｆ）に示すように、転写フィルム１９の接着剤層が、コア部６６の傾斜面６６ａに接触するように、転写フィルム１９を載置した。その後、先端部に、厚み１５μｍのシリコーンゴムを被覆し、さらに、熱電対をつけた、温度制御タイプのはんだごて６９を、２ｋｇの力で、５秒間押し付けた。その際、熱電対によって、シリコーンゴムの表面が１７０度程度になるように加熱した。そうすることによって、転写フィルム１９の接着剤層が硬化した。その後、転写フィルム１９の、ポリイミドフィルムを剥離することによって、図６（ｇ）に示すように、コア部６６の傾斜面６６ａ上に、金属層７０が形成された。この金属層７０が、マイクロミラーとして働く。

次に、図６（ｈ）に示すように、下部クラッド層６２及びコア部６６を被覆するようにして、上部クラッド層用樹脂フィルムを載置し、８０℃、０．２ＭＰａの加圧条件で、１２０秒間加圧することによって、上部クラッド層用樹脂フィルムを積層した。その後、上部クラッド層用樹脂フィルムの表面を、超高圧水銀灯で、波長３６５ｎｍの紫外光を、２０００ｍＪ照射した。そうすることによって、図６（ｈ）に示すように、上部クラッド層用樹脂フィルムが硬化し、第２クラッド層（上部クラッド層）７１が形成された。

最後に、図６（ｉ）に示すように、基板６１を剥離することによって、光導波路が得られた。なお、光導波路に入射して出射される導波光の光路は、矢符で示す。

（実施例２）
図９を参照して、実施例２を説明する。なお、図９は、実施例２に係る光導波路の製造方法を説明するための模式図である。

まず、図９（ａ）に示すように、図フレキシブル両面銅張積層板（パナソニック電工株式会社製のＦＥＬＩＯＳ（Ｒ−Ｆ７７５））を用い、その一方の面を、パターニングすることで、実装用の電気回路９１ａを形成し、もう一方の面を、全て銅箔をエッチオフした。そうすることによって、外形サイズが１３０ｍｍ×１３０ｍｍであって、厚み２５μｍのフレキシブルプリント配線基板（フレキシブル基板）９１を得た。

次に、１４０ｍｍ×１４０ｍｍ×厚み２ｍｍのガラス板の一方の面の全面に、再剥離タイプ両面粘着テープ（株式会社寺岡製作所製のＮｏ．７６９２）の強粘着面を、加圧式真空ラミネータ（ニチゴー・モートン株式会社製のＶ−１３０、以下、単に、「真空ラミネータＶ−１３０」とも称する。）を用いて８０℃、０．２ＭＰａの条件で積層した。さらに、両面粘着テープの弱粘着面に、上述したフレキシブル基板の、各パターンが形成されている方の面を真空ラミネータＶ−１３０を用いて同条件で積層した。そうすることによって、図９（ｂ）に示すように、仮基板としてのガラス板９３に、フレキシブル基板９１が両面粘着テープ９２を介して仮接着した。

この図９（ｂ）に示すような、ガラス板９３に仮接着させたフレキシブル基板９１を、基板６１の代わりに用いること以外、実施例１と同様の方法で、光導波路を形成した。具体的には、図９（ｃ）〜図９（ｉ）に示す工程で、形成した。なお、ガラス板９３に仮接着させたフレキシブル基板９１の、ガラス板９３側ではなく、フレキシブル基板９１側の表面上に光導波路を形成した。

そうすることによって、図９（ｉ）に示すような、光導波路が形成された。

次に、図９（ｊ）に示すように、カバーレイフィルム（パナソニック電工株式会社製のハロゲンフリーカバーレイフィルムＲ−ＣＡＥＳ、厚み１２．５μｍのポリイミド製のフィルム９５の一方の面上に、１５μｍ厚の接着層９４を有する積層フィルム）を、上部クラッド層７１上に、真空ラミネータＶ−１３０を用いて、１２０℃、０．３ＭＰａの条件で、積層した。その後、１６０℃で１時間加熱した。そうすることによって、カバーレイフィルムの接着層を硬化させた。

最後に、フレキシブル基板９１から、ガラス板９３を、両面粘着テープ９２ともに、剥離した。そうすることによって、図９（ｋ）に示すような、光導波路を備えた光電気複合配線板が得られた。なお、光導波路に入射して出射される導波光の光路は、矢符で示す。

（比較例）
図１０を参照して、比較例を説明する。なお、図１０は、比較例に係る光導波路の製造方法を説明するための模式図である。

まず、図１０（ａ）に示すように、基板２０１として、１４０ｍｍ×１４０ｍｍ×厚み１ｍｍのポリカーボネート基板を用意した。

次に、下部クラッド層用樹脂フィルムからＯＰＰフィルムを剥離し、その下部クラッド層用樹脂フィルムを、図１０（ｂ）に示すように、基板２０１上に載置し、６０℃、０．２ＭＰａの加圧条件で、１２０秒間加圧することによって、基板２０１上に、下部クラッド層用樹脂フィルムを積層した。その後、下部クラッド層用樹脂フィルムの表面を、超高圧水銀灯で、波長３６５ｎｍの紫外光を、２０００ｍＪ照射した。そうすることによって、図１０（ｂ）に示すように、下部クラッド層用樹脂フィルムが硬化し、基板２０１上に第１クラッド層（下部クラッド層）２０２が形成された。

次に、図１０（ｃ）に示すように、コア部用樹脂フィルムを、下部クラッド層２０２の表面上に載置し、６０℃、０．２ＭＰａの加圧条件で、１２０秒間加圧することによって、下部クラッド層２０２上に、コア部用樹脂フィルムを積層することにより、コア材料層を形成した。

そして、図１０（ｃ）に示すように、直線パターンのスリットを有するフォトマスク２０４を用い、そのマスクを介して、コア材料層に、照射光が略平行光になるように調整された超高圧水銀灯で、波長３６５ｎｍの紫外光を、２０００ｍＪの光量で照射した。そうすることによって、コア材料層のコア部に相当する箇所が硬化された。ここで用いるフォトマスク２０４としては、図１１に示すコア部２０５を形成できるようなフォトマスクを用いた。具体的には、幅４０μｍ、長さ１１０ｍｍの直線パターンのスリットを２５０μｍピッチで２０本配置したものであった。

次に、フレオン代替の洗浄液である、水系洗浄剤（花王株式会社製の「クリーンスルー」）を用い、現象処理を行った。そうすることによって、図１０（ｄ）及び図１１（ａ）に示すような、コア部２０５を、下部クラッド層２０２上に形成した。

次に、図１０（ｅ）に示すように、刃先の面が、刃の面方向に対する角度が４５°である刃、すなわち、頂角が９０°であって、先端幅が２０μｍである刃２０６（メタルボンドブレード（粒度５０００番））を用い、回転数１５０００ｒｐｍで、コア部２０５の端部を切り込んだ。具体的には、図１０（ａ）に示すように、最外部に配置されたコア部２０５に対して、刃２０６を、回転させながら、移動速度０．０３ｍｍ／秒の条件で降下させて、コア部２０５を切り込んだ。その際、コア部２０５を通り越し、下部クラッド層２０２を５μｍ程度切り込まれるようにした。その後、図１２（ａ）に示すように、その状態で、刃６８を下部クラッド層６２の面方向に、コア部６５を順次切り込むように、移動速度５ｍｍ／秒の条件で移動させた。そうすることによって、図１０（ｅ）及び図１２（ｂ）に示すように、４５°傾斜面２０５ａを備えたコア部２０５が形成された。なお、図１１は、コア部への傾斜面形成の開始時を説明するための図面である。図１２は、コア部への傾斜面の形成後を説明するための図面である。図１１及び図１２は、図１０（ｅ）で示す下部クラッド層２０２の面方向に垂直上方からみた図である。また、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）における破線２１０で囲まれた部分の拡大図である。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）における破線２１３で囲まれた部分の拡大図である。

次に、下部クラッド層用樹脂フィルムの製造する際に用いた樹脂ワニスを、トルエンとＭＥＫとを、質量比で３：７で混合した混合溶剤で５０倍に希釈した溶液を、得られた各傾斜面にブラシで薄く塗布した。その後、１００℃で３０分間乾燥した後に、超高圧水銀灯で１Ｊ／ｃｍ^２の条件で紫外光を照射して露光した。その後、さらに１２０℃で１０分間熱処理を行なった。そうすることによって、各傾斜面が平滑化された。

次に、顕微鏡で観察しながら、図１０（ｆ）に示すように、転写フィルム１９の接着剤層が、コア部２０５の傾斜面２０５ａに接触するように、転写フィルム１９を載置した。その後、先端部に、厚み１５μｍのシリコーンゴムを被覆し、さらに、熱電対をつけた、温度制御タイプのはんだごて６９を、２ｋｇの力で、５秒間押し付けた。その際、熱電対によって、シリコーンゴムの表面が１７０度程度になるように加熱した。そうすることによって、転写フィルム１９の接着剤層が硬化した。その後、転写フィルム１９の、ポリイミドフィルムを剥離することによって、図１０（ｇ）に示すように、コア部２０５の傾斜面２０５ａ上に、金属層２０８が形成された。

次に、図１０（ｈ）に示すように、下部クラッド層２０２及びコア部２０５を被覆するようにして、上部クラッド層用樹脂フィルムを載置し、８０℃、０．２ＭＰａの加圧条件で、１２０秒間加圧することによって、上部クラッド層用樹脂フィルムを積層した。その後、上部クラッド層用樹脂フィルムの表面を、超高圧水銀灯で、波長３６５ｎｍの紫外光を、２０００ｍＪ照射した。そうすることによって、図１０（ｈ）に示すように、上部クラッド層用樹脂フィルムが硬化し、第２クラッド層（上部クラッド層）２０９が形成された。

最後に、図１０（ｉ）に示すように、基板６１を剥離することによって、光導波路が得られた。なお、光導波路に入射して出射される導波光の光路は、矢符で示す。

（評価）
形成された光導波路について、以下に示す評価を行った。

（導波路損失測定）
光導波路の一方の端部（入射側端部）に、コア径１０μｍのＮＡＯ．２１の光ファイバの端部を、マッチングオイル（シリコーンオイル）を介して、接続した。そして、他方の端部（出力側端部）に、コア径２００μｍのＮＡＯ．４の光ファイバの端部を、マッチングオイルを介して、接続した。８５０ｎｍ波長のＬＥＤ光源からの光を、入力側端部に接続された光ファイバを介して、光導波路に入射させた。そして、光導波路からの出射光を、出力側端部に接続された光ファイバを介してパワーメータに入射させ、その出射光の光量Ｐ１を測定した。

一方、入力側端部に接続された光ファイバと出力側端部に接続された光ファイバとを光導波路を介さずに直接接続した場合における、出力側端部に接続された光ファイバからの出射光の光量Ｐ０を、上記と同様、測定した。

そして、下記式（１）により、マイクロミラー付きの光導波路の挿入損失（導波路損失）Ｌ１を求めた。

Ｌ１＝−１０ｌｏｇ（Ｐ１／Ｐ０） （１）
（ミラー損失測定）
上記導波路損失測定と同様にして、まず、挿入損失Ｌ１を測定した。その後、マイクロミラー部分を切断し、端部を研磨することによって、長さが１００ｍｍで、両端部に４０μｍ×４０μｍのコア部の端面が露出した光導波路が露出したものを作製した。この両端にコア部が露出した光導波路を、上記導波路損失測定と同様にして、光導波路のみ（マイクロミラーなし）の挿入損失Ｌ２を測定した。そして、Ｌ１とＬ２との差分を、ミラー損失とした。入力側と出力側とに２つマイクロミラーがある場合は、得られた値を２で割ることによって、マイクロミラー１つあたりのミラー損失とした。

その結果、実施例１で得られた光導波路について、上記評価を行うと、２０本の平均で、Ｌ１が、３．２ｄＢであり、Ｌ２が、２．２ｄＢであった。よって、ミラー損失が、平均で、０．５ｄＢであった。

また、実施例２で得られた光導波路について、上記評価を行うと、２０本の平均で、Ｌ１が、３．８ｄＢであり、Ｌ２が、２．２ｄＢであった。よって、ミラー損失が、平均で、０．８ｄＢであった。

また、比較例で得られた光導波路について、上記評価を行うと、２０本の平均で、Ｌ１が、４．８ｄＢであり、Ｌ２が、２．４ｄＢであった。よって、ミラー損失が、平均で、１．２ｄＢであった。

これらのことから、補助部を形成した実施例１及び実施例２は、補助部を形成していない比較例よりも、ミラー損失が抑えられたことがわかった。よって、本発明に係る光導波路であれば、光の反射における損失が低減された金属層を傾斜面に形成することができることがわかった。

本明細書は、上述したように様々な態様の技術を開示しているが、そのうち主な技術を以下に纏める。

本発明の一態様に係る光導波路の製造方法は、長尺状のコア部と、前記コア部の幅方向に所定の間隔をあけて並設する補助部とを、第１クラッド層の表面上に形成するコア部形成工程と、前記コア部に、光を反射させるための傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、前記傾斜面上に、転写法により金属層を形成する金属層形成工程と、前記第１クラッド層上に形成されたコア部及び補助部を埋設するように第２クラッド層を形成することによって、前記コア部を被うクラッド層を形成するクラッド層形成工程とを備え、前記傾斜面形成工程が、前記コア部に前記傾斜面を形成するとともに、前記補助部の一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように加工する工程であることを特徴とする光導波路の製造方法である。

このような構成によれば、光の反射における損失が低減された金属層を、コア部の傾斜面上に形成することができる。よって、光の反射における損失が低減された光導波路が得られる。このことは、光を反射させるための傾斜面をコア部に形成し、その傾斜面上に、例えば、上述したような、コア部の傾斜面に金属層を貼り付けて、金属層を形成する際に発生しうる、コア部の側面への金属層の回りこみを、コア部に並設された補助部によって、抑制することができることによると考えられる。このことにより、金属層は、傾斜面に貼り付けられる際に、均一に加圧することができると考えられる。よって、光の反射における損失が低減された金属層を形成することができると考えられる。

また、前記光導波路の製造方法において、前記傾斜面形成工程は、前記補助部の一端面が、前記傾斜面と略同一面上に存在する傾斜面を形成する工程であることが好ましい。

このような構成によれば、光の反射における損失がより低減された金属層を傾斜面に形成することができる。このことは、金属層を形成する際、より均一に加圧することができることによると考えられる。

また、前記光導波路の製造方法において、前記コア部と前記補助部との間隔が、１０〜５０μｍであることが好ましい。

このような構成によれば、光の反射における損失がより低減された金属層を傾斜面に形成することができる。このことは、コア部の側面への金属層の回りこみをより抑制できることによると考えられる。

また、前記光導波路の製造方法において、前記傾斜面形成工程が、前記コア部に前記傾斜面を形成するとともに、前記コア部の前記傾斜面に対向し、前記コア部と離間して設けられる対向部を形成する工程であり、前記対向部の高さが、前記コア部の高さの半分以上であることが好ましい。

このような構成によれば、光の反射における損失がより低減された金属層を傾斜面に形成することができる。このことは、金属層を形成する際、より均一に加圧することができることによると考えられる。

また、前記光導波路の製造方法において、前記対向部の、前記傾斜面と対向する面が、前記傾斜面の傾斜とは反対方向に傾斜した面であって、前記コア部と前記対向部との間隔が、最も近いところで、１０〜１００μｍであることが好ましい。

このような構成によれば、光の反射における損失がより低減された金属層を傾斜面に形成することができる。このことは、金属層を形成する際、より均一に加圧することができることによると考えられる。

また、本発明の他の一態様に係る光導波路は、長尺状のコア部と、前記コア部を被うクラッド層とを備え、前記各コア部が、光を反射させるための傾斜面を有し、一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように、前記コア部の幅方向に所定の間隔をあけて並設する補助部をさらに備えることを特徴とする光導波路である。

このような構成によれば、光の反射における損失が低減された金属層を傾斜面に形成することができるものである。このことは、例えば、コア部の傾斜面に金属層を貼り付ける場合であっても、コア部の側面に金属層が回りこむことを、コア部に並設された補助部によって、抑制することができることによると考えられる。このことにより、金属層は、傾斜面に貼り付けられる際に、均一に加圧することができると考えられる。よって、光の反射における損失が低減された金属箔を形成することができると考えられる。

また、前記光導波路において、前記補助部の、前記傾斜面と隣り合うように位置する一端面が、前記傾斜面と略同一面上に存在することが好ましい。

このような構成によれば、光の反射における損失がより低減された金属層を傾斜面に形成することができるものである。このことは、金属層を形成する際、より均一に加圧することができることによると考えられる。

また、前記光導波路において、前記傾斜面上に、金属層を備えることが好ましい。

また、前記光導波路において、前記コア部の前記傾斜面に対向し、前記コア部と離間して設けられる対向部をさらに備え、前記対向部の高さが、前記コア部の高さの半分以上であることが好ましい。

このような構成によれば、光の反射における損失がより低減された金属層を傾斜面に形成することができるものである。このことは、金属層を形成する際、より均一に加圧することができることによると考えられる。

また、本発明の他の一態様に係る光電気複合配線板は、前記光導波路と電気配線板とを備える光電気複合配線板である。

１０，２０，３０ 光導波路
１１ コア部
１１ａ 傾斜面
１２ 第１クラッド層（下部クラッド層）
１３ 補助部
１３ａ 傾斜面
１６ 接着剤層
１７ 金属層
１８ 基材
１９ 転写フィルム（積層フィルム）
２４ 対向部

Claims (9)

1. ２本以上の長尺状のコア部と、隣り合う前記コア部の幅方向の間に所定の間隔をあけて間在する補助部とを、第１クラッド層の表面上に形成するコア部形成工程と、
   前記各コア部に、光を反射させるための傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、
   前記傾斜面上に、転写法により金属層を形成する金属層形成工程と、
   前記第１クラッド層上に形成された各コア部及び補助部を埋設するように第２クラッド層を形成することによって、前記各コア部を被うクラッド層を形成するクラッド層形成工程とを備え、
   前記傾斜面形成工程が、前記各コア部に前記傾斜面を形成するとともに、前記補助部の一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように加工する工程であることを特徴とする光導波路の製造方法。
2. 前記傾斜面形成工程は、前記補助部の一端面が、前記傾斜面と略同一面上に存在する傾斜面を形成する工程である請求項１に記載の光導波路の製造方法。
3. 前記コア部と前記補助部との間隔が、１０〜５０μｍである請求項１又は請求項２に記載の光導波路の製造方法。
4. 前記傾斜面形成工程が、前記各コア部に前記傾斜面を形成するとともに、前記各コア部の前記傾斜面に対向し、前記各コア部と離間して設けられる対向部を形成する工程であり、
   前記対向部の高さが、前記コア部の高さの半分以上である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
5. 前記対向部の、前記傾斜面と対向する面が、前記傾斜面の傾斜とは反対方向に傾斜した面であって、
   前記コア部と前記対向部との間隔が、最も近いところで、１０〜１００μｍである請求項４に記載の光導波路の製造方法。
6. ２本以上の長尺状のコア部と、前記各コア部を被うクラッド層とを備え、
   前記各コア部が、光を反射させるための傾斜面を有し、
   前記傾斜面上に、金属層を備え、
   一端面が、前記傾斜面と隣り合う位置になるように、隣り合う前記コア部の幅方向の間に所定の間隔をあけて間在する補助部をさらに備えることを特徴とする光導波路。
7. 前記補助部の、前記傾斜面と隣り合うように位置する一端面が、前記傾斜面と略同一面上に存在する請求項６に記載の光導波路。
8. 前記各コア部の前記傾斜面に対向し、前記各コア部と離間して設けられる対向部をさらに備え、
   前記対向部の高さが、前記コア部の高さの半分以上である請求項６又は請求項７に記載の光導波路。
9. 請求項６〜８のいずれか１項に記載の光導波路と電気配線板とを備える光電気複合配線板。

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