JP6098917B2 - 光電気複合フレキシブル配線板 - Google Patents
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Description
ポリプロピレングリコールグリシジルエーテル(新日鐵化学株式会社製の「PG207」)7質量部、液状の水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製の「YX8000」)25質量部、固形の水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製の「YL7170」)20質量部、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物(株式会社ダイセル製の「EHPE3150」)8質量部、固形ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製の「エピコート1006FS」)2質量部、フェノキシ樹脂(新日鐵化学株式会社製の「YP50」)20質量部、光カチオン硬化開始剤(株式会社ADEKA製の「SP170」)1質量部、表面調整剤(DIC株式会社製の「F470」)0.1質量部の各配合成分を、トルエン30質量部、メチルエチルケトン(MEK)70質量部の溶剤に溶解し、孔径1μmのメンブランフィルタで濾過した後、減圧脱泡することによって、エポキシ樹脂ワニスを調製した。このエポキシ樹脂ワニスを、離型フィルムのとしてPETフィルム(東洋紡績株式会社製の「A4100」)の上に、株式会社ヒラノテクノシード製のコンマコータヘッドのマルチコータを用いて塗布し、その塗布膜を乾燥させた。そうすることによって、所定の厚みの第1クラッド(下部クラッド層)用樹脂フィルムが得られた。このようにして得られた第1クラッド用樹脂フィルムは、膜厚10μmであった。
3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(株式会社ダイセル製の「セロキサイド2021P(CEL2021Pとも称する)」)8質量部、エポキシ樹脂(株式会社ダイセル製の「EHPE3150」、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロセキサン付加物)12質量部、固形ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製の「エピコート1006FS」)37質量部、3官能エポキシ樹脂(三井化学株式会社製の「VG−3101」)15質量部、固形ノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製の「EPPN201」)18質量部、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製の「エピクロン850s」)10質量部、光カチオン硬化開始剤(株式会社ADEKA製の「SP−170」)0.5質量部、熱カチオン硬化開始剤(三新化学工業株式会社製の「SI−150L」)0.5質量部、表面調整剤(DIC株式会社製の「F470」)0.1質量部の各配合成分を、トルエン30質量部とMEK70質量部との混合溶剤に溶解させた。そして、その溶液を、孔径1μmのメンブランフィルタで濾過した後、減圧脱泡することによって、エポキシ樹脂ワニスを調製した。このエポキシ樹脂ワニスを、PETフィルム(東洋紡績株式会社製の「A4100」)の上に、株式会社ヒラノテクノシード製のコンマコータヘッドのマルチコータを用いて塗布し、その塗布膜を乾燥した。これにより、所定の厚みのコア部用樹脂フィルムが得られた。このようにして得られたコア部用樹脂フィルムは、膜厚30μmであった。
厚みが50μmとなるように変更したこと以外、第2クラッド層(上部クラッド層)用樹脂フィルムと同様にして、第2クラッド層用樹脂フィルムを製造した。
図4を参照して、実施例1を説明する。なお、図4は、実施例1に係る光導波路を製造する方法を説明するための模式図である。
図5を参照して、実施例2を説明する。なお、図5は、実施例2に係る光電気複合フレキシブル配線板を製造する方法を説明するための模式図である。
第1クラッド層を形成する際に、マスクを用いないこと以外、実施例1と同様にして、光導波路を製造した。得られた光導波路は、図2に示す光導波路20に相当する。
形成された光導波路及び光電気複合フレキシブル配線板について、以下に示す評価を行った。
光導波路及び光電気複合フレキシブル配線板に対して、スライド式の携帯電話機の屈曲試験としてIPCで標準化されている周動試験(IPC規格TM−650)を行った。この屈曲試験における屈曲は、具体的には、株式会社東洋精機製作所製のIPC−02を用い、曲げ半径(曲率半径)を1mmとし、曲げ周波数を120回/分とした屈曲である。この屈曲を、20万回繰り返した際に、光導波路及び光電気複合フレキシブル配線板が破断するまでの回数を測定した。
実施例2と同様の方法で図5(j)に相当する形状までのものを作成したが、寸法条件面において、得られた光導波路の幅を、3mmとし、電気回路間の距離dは、2.2mmであり、電気回路とコア部との距離d1,d3は、0.7mmとなるように変更した。
得られた光導波路の幅を、4mmとし、電気回路間の距離dは、3.2mmであり、電気回路とコア部との距離d1,d3は、1.2mmとなるように変更したこと以外、実施例3と同様である。
得られた光導波路の幅を、5mmとし、電気回路間の距離dは、4.2mmであり、電気回路とコア部との距離d1,d3は、1.7mmとなるように変更したこと以外、実施例3と同様である。
形成された光電気複合フレキシブル配線板について、以下に示す評価を行った。
まず、得られた光電気複合フレキシブル配線板の、導波路損失を測定した。その後、プレッシャークッカー試験を施した。そして、プレッシャークッカー試験後の光電気複合フレキシブル配線板の、導波路損失を測定した。そして、プレッシャークッカー試験の前後の、導波路損失の変化を算出した。なお、プレッシャークッカー試験や、導波路損失の測定方法は、次のとおりである。
楠本化成株式会社製の、「PLAMOUNT HAST CHMBER PM220」を用いて、温度を120℃とし、湿度を、約100RH%の不飽和状態とした条件下で、100時間処理することによって、光電気複合フレキシブル配線板に対して、プレッシャークッカー試験(PCT)を行った。
まず、光電気複合フレキシブル配線板の両端を研磨することによって、長さ110mmの、端部に光導波路が露出したものを作成した。
(熱時信頼性)
上記のように、PCTの前後の、光電気複合フレキシブル配線板の導波路損失をそれぞれ測定した。そして、PCT前の導波路損失とPCT後の導波路損失との差分を算出し、その値を、PCTによる損失とした。このPCTによる損失により、熱時信頼性を評価した。
11,21 コア部
12,22 第1クラッド層
13,23 第2クラッド層
14,24 クラッド層
15 電気回路
16 基材
17 回路基板
30 光電気複合フレキシブル配線板
Claims (1)
- 電気回路が形成された基板と、
前記基板上に形成された光導波路とを備え、
前記光導波路が、前記基板上に形成された第1クラッド層と、前記第1クラッド層上に形成されたコア部と、前記コア部を埋設するように、第1クラッド層上に形成された第2クラッド層とを備え、
前記基板が、ポリイミドからなり、
前記電気回路は、前記第1クラッド層から離間し、
前記第2クラッド層が、前記第1クラッド層の上面から側面に亘って被覆し、さらに、前記基板の、前記電気回路が形成されている表面側の縁部までを被覆しており、
前記光導波路の側面は、前記第2クラッド層で覆われており、
前記電気回路と、前記コア部との間隔が、0.5mm以上であることを特徴とする光電気複合フレキシブル配線板。
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