JP5861494B2 - レーザ加工装置およびレーザ加工方法 - Google Patents
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Description
レーザ光を層状に走査することによって傾斜面を加工する方法について、走査するビームの形状や走査方法については様々な検討がなされている。しかしながら、層状に加工して傾斜面をより平滑に加工するためには、レーザビームのパルス痕等によって充分な面粗さを得る方法がなかった。また、傾斜面を加工するための方法ではないが、楕円ビームを用いた加工方法として、特許文献1に記載のレーザ加工装置のように、2つの楕円ビームを重ね合わせて回転させマスクパターンに投入する方法も提案されているが、この方法は均質なビームを得ることを目的としているため、加工面の面粗さを低減する効果が得られない。
すなわち、本発明に係るレーザ加工装置およびレーザ加工方法によれば、加工対象物の加工領域において設計上の加工後形状の表面における法線ベクトルを求め、該法線ベクトルの楕円ビームの照射方向に垂直な面への正射影ベクトルの方向に前記楕円形状の短軸を向けるので、傾斜した加工面において表面粗さを小さくすることが可能になる。
したがって、本発明のレーザ加工装置およびレーザ加工方法は、例えば、切削工具等の3次元的で面精度の高い形状加工に好適である。
また、レーザ照射機構2は、レーザビームL1のビーム断面形状を楕円形状に整形して楕円ビームL2とする楕円ビーム整形光学部6と、楕円ビームL2を回転させ前記楕円形状の短軸を所定の方向に向ける楕円ビーム回転光学部7とを有している。
また、レーザ照射機構2は、回転させた楕円ビームL2は反射して光路を変更するミラー8と、照射する楕円ビームL2を走査させるガルバノスキャナ9と、楕円ビームL2を集光するf−θレンズの集光レンズ10とを有している。
また、この楕円ビーム回転光学部7は、回転させた楕円ビームL2は反射して光路を変更するミラー8と、照射する楕円ビームL2を走査させるガルバノスキャナ9と、楕円ビームL2を集光するf−θレンズの集光レンズ10とを備えている。
上記ガルバノスキャナ9及び集光レンズ10は、Z軸ステージ部10zの直上に配置されている。
上記レーザ光源5は、190〜550nmのいずれかの波長のレーザ光を照射できるものが使用可能であり、例えば本実施形態では、波長355nmのレーザ光を発振して出射できるものを用いている。
また、制御部4は、図5に示すように、楕円ビームL2の走査を行う際に、加工プログラムにおいて、加工領域を楕円ビームL2の照射方向に複数の加工レイヤーLYを積み重ねたものとして設定し、各加工レイヤーLYに対して楕円ビームL2を照射し、加工レイヤーLY毎に所定部分を除去して、三次元形状の加工面を形成するように各機構を制御する。
例えば、図5の(a)(b)に示すように、隣接する2つの加工レイヤーLYにおいて設計上の加工後形状を決定する走査の終点位置P1,P2,P3の座標に基づいてこれら3点で構成される面に対する法線ベクトルHを算出する。さらに、制御部4は、求めた法線ベクトルHの楕円ビームL2の照射方向であるZ方向に垂直な面、すなわちX−Y面への正射影ベクトルの方向に前記楕円形状の短軸を向けるように楕円ビーム回転光学部7を制御し、楕円ビームL2を回転させる。
また、隣接する2つの加工レイヤーLYにおいて設計上の加工後形状を決定する走査の開始点又は終点の座標から法線ベクトルHを演算するので、簡易な演算で法線ベクトルHを算出することができ、容易に楕円ビームL2の短軸方向を決定することができる。
この実施例では、波長355nm,繰り返し周波数166kHzのレーザビームL1及び楕円ビームL2を用いた。また、加工対象物Wには、セラミックス焼結体(SiC,cBN等)を用いた。
まず、制御部4が、図9に示すように、4つの傾斜面のうち1つの指定面のZ方向の範囲、すなわち加工深さを求め(ステップS1)、Z方向範囲内の2層分(n層目と(n+1)層目の2つの加工レイヤーLY分)のプログラム(例えば、Z方向の中間点前後の2層分のプログラム)を求める(ステップS2)。
なお、規定値は、n層目の加工レイヤーLYの加工プログラムにおいてn層目に対応するz座標での傾斜面の位置を表す座標となる。法線ベクトルHを求めるための傾斜面の位置を設定する数値となる。
なお、本実施例において、2つの傾斜面をレーザ加工した状態を示す拡大写真画像を図12に示す。この写真画像からわかるように、非常に表面粗さが小さく面精度の高い傾斜面が得られている。
Claims (4)
- 加工対象物にレーザビームを照射して加工する装置であって、
レーザビームを発振して前記加工対象物に一定の繰り返し周波数で照射すると共に走査可能なレーザ照射機構と、
前記加工対象物を保持して該加工対象物と前記レーザビームとの相対的な位置関係を調整可能な位置調整機構と、
これらの機構を制御する制御部とを備え、
前記レーザ照射機構が、前記レーザビームのビーム断面形状を楕円形状に整形して楕円ビームとする楕円ビーム整形光学部と、
前記楕円ビームを回転させ前記楕円形状の短軸を所定の方向に向ける楕円ビーム回転光学部とを有し、
前記制御部が、前記加工対象物の加工領域において設計上の加工後形状の表面における法線ベクトルを求め、該法線ベクトルの前記楕円ビームの照射方向に垂直な面への正射影ベクトルの方向に前記楕円形状の短軸を向ける制御を行うことを特徴とするレーザ加工装置。 - 請求項1に記載のレーザ加工装置において、
前記制御部が、前記楕円ビームの走査を行う際に、前記加工領域を前記楕円ビームの照射方向に複数の加工レイヤーを積み重ねたものとして設定し、各加工レイヤーに対して前記楕円ビームを照射し、前記加工レイヤー毎に所定部分を除去して、三次元形状の加工面を形成する制御を行い、隣接する2つの前記加工レイヤーにおいて前記設計上の加工後形状を決定する前記走査の開始点又は終点の座標から前記法線ベクトルを演算することを特徴とするレーザ加工装置。 - 加工対象物にレーザビームを照射して加工する方法であって、
レーザビームを発振して前記加工対象物に一定の繰り返し周波数で照射すると共に走査するレーザ照射工程と、
前記加工対象物を保持して該加工対象物と前記レーザビームとの相対的な位置関係を調整する位置調整工程とを有し、
前記レーザ照射工程が、前記レーザビームのビーム断面形状を楕円形状に整形して楕円ビームとする楕円ビーム整形工程と、
前記楕円ビームを回転させ前記楕円形状の短軸を所定の方向に向ける楕円ビーム回転工程とを有し、
前記加工対象物の加工領域において設計上の加工後形状の表面における法線ベクトルを求め、該法線ベクトルの前記楕円ビームの照射方向に垂直な面への正射影ベクトルの方向に前記楕円形状の短軸を向けることを特徴とするレーザ加工方法。 - 請求項3に記載のレーザ加工方法において、
請求項1に記載のレーザ加工装置を用い、
前記制御部が、前記楕円ビームの走査を行う際に、前記加工領域を前記楕円ビームの照射方向に複数の加工レイヤーを積み重ねたものとして設定し、各加工レイヤーに対して前記楕円ビームを照射し、前記加工レイヤー毎に所定部分を除去して、三次元形状の加工面を形成し、隣接する2つの前記加工レイヤーにおいて前記設計上の加工後形状を決定する前記走査の開始点又は終点の座標から前記法線ベクトルを演算することを特徴とするレーザ加工方法。
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