JP5843431B2 - 花弁状酸化セリウム粉体及びその製造方法並びに化粧料 - Google Patents
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Description
平均粒子径が20μm未満で、平均アスペクト比(平均一次粒子径/平均厚み)が2〜80である板状の酸化セリウム粒子の集合体により形成されることを特徴とするものである。
R1Si(OR2)3 ・・・(2)
(式中、R1及びR2は炭素数が1以上の飽和炭化水素基である。)
(R1COO)aTi(OR2)b ・・・(3)
(式中、R1及びR2は炭素数が1以上の飽和炭化水素基である。また、a及びbはそれぞれ1〜3の整数であり、a+b=4の関係を有する。なお、ここで示されるアルキル基は直鎖状あるいは分岐状であって、単一鎖長のものであっても複合鎖長のものであってもよい。)
CF3(CF2)n CH2CH2Si(OR1)3・・・(4)
(式中、R1は炭素数が1以上の飽和炭化水素基であり、nは1以上の整数である。)
また、本発明の板状酸化セリウム及びその集合体である花弁状酸化セリウム粉体の平均厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)にて、板状、及び、その集合体である花弁状粒子を観察して、任意の20個の板状粒子、又はその集合体の花弁状粒子を構成する板状粒子の厚みを計測し、その平均値を算出することにより測定することができる。
炭酸水素ナトリウム54.6質量部を水1200質量部に溶解させ、スリーワンモーター200回転で撹拌した。その溶液に、塩化セリウム水溶液(セリウム濃度18.7質量%)197.7質量部を添加した。セリウムイオンと炭酸イオンのモル比は1:4.3である。混合液を温度18℃で1時間撹拌し、板状炭酸セリウム八水和物粒子を含有する水和物溶液を得た。得られた水和物溶液から板状炭酸セリウム八水和物粒子をろ過により回収し、洗浄した後に乾燥させ、その後、板状炭酸セリウム八水和物粒子を大気中にて温度400℃で1時間焼成して板状酸化セリウム粉体を得た。
混合液の温度を7℃とした以外は実施例1と同様にして板状粒子の集合体である花弁状酸化セリウム粉体を得た。
水1200質量部の代わりに水1200質量部とポリエチレングリコール(平均分子量:200)60質量部の混合溶液とした以外は実施例1と同様にして酸化セリウム粉体を得た。
スリーワンモーター200回転の代わりに、塩化セリウム溶液を添加した後は撹拌せずに静置させた以外は実施例1と同様にして酸化セリウム粉体を得た。
混合液の温度を43℃とした以外は実施例1と同様にして酸化セリウム粉体を得た。
炭酸水素ナトリウム54.6質量部の代わりに炭酸水素ナトリウム16.8質量部とした以外は実施例1と同様にして酸化セリウム粉体を得た。調製した水溶液のセリウムイオンと炭酸イオンのモル比は1:1.33である。
炭酸水素ナトリウム54.6質量部の代わりに炭酸水素ナトリウム67.2質量部とした以外は実施例1と同様にして酸化セリウム粉体を得た。調製した水溶液のセリウムイオンと炭酸イオンのモル比は1:5.33である。
ヘンシェルミキサーに実施例1で得られた板状酸化セリウム1000質量部を入れ、続いてメチルハイドロジェンポリシロキサン20.4質量部をイソプロピルアルコール125質量部に溶解させた溶液を滴下混合し、板状酸化セリウムとよく混合した。その後、ヘンシェルミキサー内を加熱及び減圧し、イソプロピルアルコールを除去した。顔料粉体をヘンシェルミキサーから取り出し、粉砕して加熱処理を行い、シリコン化合物が2質量%処理された酸化セリウムを得た。同様の工程にて、酸化チタン、セリサイト、タルク、マイカ、ベンガラ、黄酸化鉄、黒酸化鉄をそれぞれ同様の表面被覆処理を施し、それぞれのサンプルを得た。
製造実施例のメチルハイドロジェンポリシロキサンの代わりに、n−オクチルトリエトキシシランを用いた以外は全て製造実施例1と同様にしてサンプルを得た。
製造実施例のメチルハイドロジェンポリシロキサンの代わりに、イソプロピルトリイソステアロイルチタネートを用いた以外は全て製造実施例1と同様にしてサンプルを得た。
製造実施例のメチルハイドロジェンポリシロキサンの代わりに、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランを用いた以外は全て製造実施例1と同様にしてサンプルを得た。
表2に示される処方と下記製造方法に従って、パウダーファンデーションを得た。なお、表中の配合量の単位は質量%である。
製造実施例1で製造したシリコン処理板状酸化セリウムの代わりに、シリコン処理微粒子酸化チタンを用いた以外は全て実施例5と同様にして製品を得た。
製造実施例1で製造したシリコン処理板状酸化セリウムの代わりに、シリコン処理微粒子酸化亜鉛を用いた以外全て実施例5と同様にして製品を得た。
製造実施例1で製造したシリコン処理板状酸化セリウムの代わりに、シリコン処理微粒子酸化セリウムを用いた以外は全て実施例5と同様にして製品を得た。なお、比較例6で用いた微粒子酸化セリウムは、大東化成工業社製セリガードSC−6832である。
表4に示される処方と下記製造方法に従いW/O型リキッドファンデーションを製造した。なお、表中の配合量の単位は質量%である。
表5に示される処方と下記製造方法に従ってW/O型日焼け止め化粧料を試作した。なお、表中の配合量の単位は質量%である。
表6に示される処方と下記製造方法に従ってO/W型リキッドファンデーションを試作した。なお、表中の配合量の単位は質量%である。
Claims (5)
- 平均粒子径が20μm未満で、平均アスペクト比が2〜80である板状の酸化セリウム粒子の集合体により形成されることを特徴とする花弁状酸化セリウム粉体。
- 請求項1に記載の花弁状酸化セリウム粉体の表面を、下記一般式(1)で示されるポリシロキサン、下記一般式(2)で示されるアルキルアルコキシシラン化合物、下記一般式(3)で示されるアルキルチタネート化合物、下記一般式(4)及び下記一般式(5)及び下記一般式(6)で示されるフッ素化合物から選ばれる1種又は2種以上の化合物で被覆処理したことを特徴とする花弁状酸化セリウム粉体。
R1Si(OR2)3 ・・・(2)
(式中、R1及びR2は炭素数が1以上の飽和炭化水素基である。)
(R1COO)aTi(OR2)b ・・・(3)
(式中、R1及びR2は炭素数が1以上の飽和炭化水素基である。また、a及びbはそれぞれ1〜3の整数であり、a+b=4の関係を有する。なお、ここで示されるアルキル基は直鎖状あるいは分岐状であって、単一鎖長のものであっても複合鎖長のものであってもよい。)
CF3(CF2)n CH2CH2Si(OR1)3・・・(4)
(式中、R1は炭素数が1以上の飽和炭化水素基であり、nは1以上の整数である。)
- 請求項1に記載の花弁状酸化セリウム粉体の製造方法であって、
硝酸セリウムもしくは塩化セリウムと、炭酸水素ナトリウムもしくは炭酸ナトリウムと、水を含有する水溶液を、セリウムイオンに対する炭酸イオンのモル比が1.5〜5の範囲内になるように調製し、前記水溶液の温度を0〜10℃の範囲内で維持し、前記水溶液から炭酸セリウム粒子を析出させ、更に焼成することを特徴とする花弁状酸化セリウム粉体の製造方法。 - 前記水溶液中にアルコール系化合物を含有させることを特徴とする請求項3に記載の花弁状酸化セリウム粉体の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の花弁状酸化セリウム粉体を配合したことを特徴とする化粧料。
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