JP5798709B2

JP5798709B2 - 光フィルター及びそれを備えた光モジュール

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Publication number: JP5798709B2
Application number: JP2009050791A
Authority: JP
Inventors: 舩坂　司; 司舩坂
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2009-03-04
Filing date: 2009-03-04
Publication date: 2015-10-21
Anticipated expiration: 2029-03-04
Also published as: US8618463B2; US20130037703A1; US20150085366A1; JP2010204457A; US8937276B2; US8319169B2; US9459387B2; US20100226029A1; US20140078588A1

Description

本発明は、光フィルター及びそれを備えた光モジュールに関するものである。

従来、入射光の全波長の中から目的とする波長の光を選択して射出させる光フィルターとして、一対の基板を対向配置し、これら基板の対向する面のそれぞれにミラーを設け、これらのミラーの周囲にそれぞれ電極を設けるとともに、一方のミラーの周囲にダイアフラム部を設け、これら電極間の静電力によりダイアフラム部を変位させてこれらのミラー間のギャップ（エアーギャップ）を変化させることで、所望の波長の光を取り出すエアギャップ型かつ静電駆動型の光フィルターが知られている。（例えば特許文献１、特許文献２参照）。
この種の光フィルターでは、ミラー間のギャップを変化させることによりミラー間ギャップに対応した波長の光を選択的に取り出すことができる。

特開２００３−５７４３８号公報特開２００８−１１６６６９号公報

ところで、従来のエアギャップ型かつ静電駆動型の光フィルターでは、ミラー間の平行度やミラーの平坦度が低下すると、取り出した光の分光特性が低下するために、一対のミラーを平行かつ平坦に保持することが光フィルターの特性を維持する上で重要となる。そして、このような光フィルターから一度に取り出すことができる波長は単一波長であり、例えば光センサーの分光部として使用した場合には、測定すべき波長領域全体を順次走査することとなり、測定に時間がかかるという問題点があった。

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、一度に複数の波長を個別かつ同時に分光できる光フィルター及びそれを備えた光モジュールを提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本発明の光フィルターは、互いに対向配置された第１の基板および第２の基板と、前記第２の基板の前記第１の基板に対向する面に形成された高さの異なる複数の段部からなる複数の光透過部と、前記複数の光透過部の各々における前記第１の基板および前記第２の基板の対向する面に異なる大きさのギャップを介してそれぞれ設けられた複数対のミラーと、前記複数対のミラーの周囲に設けられた一対の電極と、前記複数対のミラーの中で前記第１の基板に設けられた複数のミラーの周囲に設けられたダイアフラム部と、を備え、前記第１の基板に設けられた複数のミラーが、前記第２の基板に対して変位可能な前記第１の基板の同一平面上に設けられていることを特徴とする。

本発明に係る光フィルターでは、第１の基板および第２の基板の対向する面の少なくとも一方に高さの異なる段部からなる複数の光透過部を設けることにより、第１の基板および第２の基板間で異なる大きさのギャップを複数個形成できる。そして、これらのギャップを介して複数対のミラーを各光透過部の第１の基板および第２の基板の対向する面に設けることで、互いに異なる大きさのギャップを介在した複数対のミラーを備えた光フィルターとすることができる。
エアギャップ型の光フィルターにおいては、対になったミラー間のギャップの大きさによりミラー間を透過できる光の波長が決まるので、互いに異なる大きさのギャップを介在した複数対のミラーを備えることにより、各対のミラーで互いに異なる波長の光を個別かつ同時に取り出すことができる。このように、一つの光フィルターに複数対のミラーを設けることで、互いに干渉することなく、複数個の波長を個別かつ同時に分光できる光フィルターを提供することができる。

本発明の光フィルターは、前記第１の基板および前記第２の基板が、光透過性を有する材料からなることが望ましい。
この光フィルターによれば、第１の基板および第２の基板が光透過性を有する材料で構成されているため、基板における光の透過率が向上し、取り出した光の強度が高くなる。よって、光の取り出し効率が向上する。

本発明の光フィルターは、前記第１の基板および前記第２の基板のいずれか一方が半導体材料である構成としても良い。
この光フィルターによれば、第１の基板および第２の基板のいずれか一方が半導体材料であるため、入射光として、この半導体材料を透過可能な波長の電磁波、例えば近赤外線を用いることが可能となる。よって、入射光の波長の幅が増大する。

本発明の光モジュールは、上記本発明の光フィルターと、前記光フィルターを透過した光を受光する受光素子と、を備えてなることを特徴とする。
この光モジュールでは、本発明の光フィルターを備えたことにより、互いに干渉することなく、一度に複数個の波長を個別かつ同時に分光できる光モジュールを提供することができる。
よって、一つの光モジュールで幅広い波長領域をセンシングできることとなり、従来、複数個の光フィルターが必要であった場合に比べて、装置の小型化が可能となる。
また、本発明に係る光モジュールを例えば光センサーの分光部として使用した場合には、測定すべき全波長領域を複数の小領域に分割し、この各小領域をそれぞれのミラー対に割り当て、この小領域を各ミラー対で同時に走査できる。よって、一時に複数の波長領域のセンシングが可能となることで、測定および検知に要する処理時間を短くすることができる。

本発明の光モジュールにおいて、前記受光素子が、前記複数の光透過部の各々に対応して複数個設けられた構成であることが望ましい。
複数の光透過部の各々に対応して複数個の受光素子が設けられたことにより、１つの受光素子が受け持つ波長域を狭くすることができる。

本発明の一実施形態の光フィルターを示す概略平面図である。本発明の一実施形態の光フィルターを示す概略断面図である。本発明の一実施形態の光フィルターにおける波長と透過率との関係を示す図である。本発明の一実施形態の光センサーを示す概略断面図である。本発明の光モジュールの一実施形態を示す概略構成図である。

本発明の光フィルター及びそれを備えた光モジュールを実施するための最良の形態について説明する。
ここでは、光フィルターとして、エアギャップ型かつ静電駆動型の光フィルターについて説明する。
なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、必要に応じて、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明することとする。その場合に、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内かつＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向と直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。

図１は、本実施形態の光フィルターを示す平面図、図２は同光フィルターを示す断面図である。図１および図２において、符号１はエアギャップ型で静電駆動型のエタロン素子からなる光フィルターである。
本実施形態の光フィルター１は、第１の基板２と、第１の基板２に対向した状態で接合（または接着）された第２の基板３と、第１の基板２及び第２の基板３のそれぞれ対向する側の面２ａ、３ａの中央部に設けられた円形状の第１のミラー対４と、この第１のミラー対４の周囲に設けられた円環状の第２のミラー対５と、第２のミラー対５の周囲に設けられた円環状の電極対６と、ダイアフラム部７とを、備えている。

第１のミラー対４および第２のミラー対５は、それぞれ互いに対向する一対のミラーからなり、第１のミラー対４及び第２のミラー対５のうち、変形可能な第１の基板２に配置されたものを可動ミラー４Ａ、５Ａと称し、変形しない第２の基板３に配置されたものを固定ミラー４Ｂ、５Ｂと称する。

第１の基板２の対向面２ａの周縁部には段部２１が形成されており、この段部２１によって、凹部からなる可動部２２が形成され、この可動部２２内に第１の可動ミラー４Ａと第２のミラー可動５Ａと電極６Ａとが収容されている。

第２の基板３の対向面３ａの中央部には円形をなす第１の段部３１が形成されており、この第１の段部３１による凹部からなる第１の段差部３２（光透過部）が形成されている。また、第２の基板３の対向面３ａの周縁部には、第１の段差部３２と同心円環状の第２の段部３３が形成されており、この第２の段部３３による凹部からなる第２の段差部３４が形成されている。
対向面３ａに設けられた上記二つの凹部に挟まれた部分、すなわち第１の段差部３２と第２の段差部３４との境界部には自ずと円環状の凸部からなる第３の段部３５が形成され、第３の段差部３６（光透過部）が設けられている。

可動段差部２２、第１の段差部３２、第２の段差部３４、第３の段差部３６の底面および天井面は、互いに平行になっており、各段差部に配置された第１のミラー対４、第２のミラー対５および電極対６がそれぞれのギャップを介して互いに平行に保持されている。

第１の段差部３２の底部には、第１の可動ミラー４Ａと対向して対をなすように第１の固定ミラー４Ｂが第１のギャップＧ１を介して配置されている。これと同様に、第３の段差部３６の天井面には、第２の可動ミラー５Ａに対向して対をなすように第２の固定ミラー５Ｂが第２のギャップＧ２を介して配置されている。また、第２の段差部３４の底部には、可動電極６Ａに対向して対をなすように固定電極６Ｂが第３のギャップＧ３を介してそれぞれ配置されている。

第１の基板の外側面２ｂには、可動電極６Ａの外周部とほぼ対応する位置にエッチング（選択除去）により形成された薄肉の円環状のダイアフラム部７が形成されており、第３のギャップＧ３を介して対向して設けられた電極対６と、ダイアフラム部７とにより、静電アクチュエータが構成されている。

第１の基板２および第２の基板３は、共に光透過性を有するとともに絶縁性を有する材料からなる矩形状（正方形状）のもので、特にガラス等の透明材料により構成されていることが好ましい。
このガラスとしては、具体的には、ソーダガラス、結晶化ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ナトリウムガラス、無アルカリガラス等が好適に用いられる。
このように、第１の基板２および第２の基板３を共に光透過性を有する材料とすることにより、電磁波のうち所望の波長帯域の電磁波や可視光線を入射光として用いることができる。また、第１の基板２及び第２の基板３を半導体材料、例えばシリコンで形成すれば、入射光として近赤外線を用いることができる。

第１の可動ミラー４Ａと、第１の固定ミラー４Ｂと、第２の可動ミラー５Ａと、第２の固定ミラー５Ｂとは、いずれも高屈折率層と低屈折率層とが交互に複数積層された誘電体多層膜により構成されており、これらミラーは互いに同一の構成であっても良いし、異なる構成であっても良い。また、これら第１のミラー対４と第２のミラー対５とは、誘電体多層膜に限定されることなく、例えば、炭素を含有する銀の合金膜等を用いることもできる。

この光フィルター１を可視光領域あるいは赤外領域で用いる場合、誘電体多層膜における高屈折率層を形成する材料としては、例えば、酸化チタン（Ｔｉ_２Ｏ）、酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）等が用いられる。また、光フィルター１を紫外領域で用いる場合、高屈折率層を形成する材料としては、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化トリウム（ＴｈＯ_２）等が用いられる。一方、誘電体多層膜における低屈折率層を形成する材料としては、例えば、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）等が用いられる。

この高屈折率層及び低屈折率層の層数及び厚みについては、必要とする光学特性に基づいて適宜に設定される。一般に、誘電体多層膜により反射膜（ミラー）を形成する場合、その光学特性を得るために必要な層数は１２層以上である。

電極対６は、入力される駆動電圧に応じて電極６Ａ、６Ｂ間に静電力を発生させ、第１のミラー対４および第２のミラー対５を、それぞれ互いに対向した状態で相対移動させる静電アクチュエータを構成するものである。
電極対６は、ダイアフラム部７を、図２中の上下方向に変位させて、第１のミラー対４の間の第１のギャップＧ１と第２のミラー対５の間の第２のギャップＧ２とをそれぞれ変化させ、第１のギャップＧ１と第２のギャップＧ２とに対応する波長の光をそれぞれ別個に射出するようになっている。

電極対６を形成する材料としては導電性材料であればよく、特に限定はされないが、例えば、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ａｕ等の金属、あるいはカーボン、チタン等を分散した樹脂、多結晶シリコン（ポリシリコン）、アモルファスシリコン等のシリコン、窒化シリコン、ＩＴＯ等の透明導電材料等が用いられる。

電極６Ａ、６Ｂには、図１に示すように、配線１１Ａ、１１Ｂが接続されており、これら電極６Ａ、６Ｂは、これら配線１１Ａ、１１Ｂを介して電源（図示せず）に接続されている。
なお、これら配線１１Ａ、１１Ｂは、第１の基板２に形成された配線溝１２Ａ、あるいは第２の基板３に形成された配線溝１２Ｂに形成されている。したがって、第１の基板２と第２の基板３との接合に干渉しないようになっている。

電源は、駆動信号として、電極６Ａ、６Ｂに電圧を印加することにより、電極６Ａ、６Ｂを駆動させ、これらの間に所望の静電力を発生させるものである。なお、この電源には制御装置（図示せず）が接続されており、この制御装置によって電源を制御することにより、電極６Ａ、６Ｂ間の電位差を調整することができるようになっている。

ダイアフラム部７は、このダイアフラム部７が形成されていない第１の基板２の箇所に比べて厚さが薄くなっている。このように、第１の基板２のうち、他の箇所に比べて厚さが薄い箇所は、弾性（可撓性）を有して変形可能（変位可能）になっている。この構成により、このダイアフラム部７は、第１のギャップＧ１および第２のギャップＧ２を変化させて第１のミラー対４及び第２のミラー対５のギャップ間隔を所望の波長の光に対応する間隔に変化させる。このようにして、光フィルター１には、所望の波長の光をそれぞれ射出させる波長選択機能が生じる。

これらダイアフラム部７の形状や厚みは、所望の波長の範囲の光を射出させることができればよく、具体的には、第１のミラー対４及び第２のミラー対５の各ギャップＧ１、Ｇ２の間隔の変化量や変化の速さ等を勘案し、この光フィルター１に求められる射出光の波長の範囲に対応して設定される。

なお、本実施形態においては、第１の基板２に円形状の段部２１を形成して可動段差部２２を設けたが、第２の基板３と同様に、各ミラー及び電極毎に区分された複数個の可動段差部を対向面２ａに形成してもよい。逆に、第１の基板２に段部を全く設けずに、対向面２ａを直に可動部としてもよい。
第２の基板３の各段部の形状とその高さも本実施例に限定されるものではなく、各ミラー対に介在させるギャップＧ１、Ｇ２の大きさを異ならしめることができるものであればよく、例えば第１の段差部３２を凸部とし、第３の段差部３６を凹部としてもよい。

また、本実施形態においては、第１の固定ミラー４Ｂ、第２の固定ミラー５Ｂ、固定電極６Ｂが、それぞれ異なる大きさのギャップＧ１、Ｇ２、Ｇ３を介して対向面３ａに配置されているが、第１の固定ミラー４Ｂもしくは第２の固定ミラー５Ｂのいずれか一方が固定電極６Ｂと同一平面に位置し、ギャップＧ１もしくはギャップＧ２の一方の大きさとギャップＧ３の大きさとを等しくしてもよい。

加えて、光フィルター１に備えられるミラー対の個数は本実施形態に限定されるものではなく、より多くのミラーを備えていてもよいが、あまり多くするのは実用的ではない。基板表面にミラーの個数分だけ段部を形成するためのコスト増加や、多数のミラーを並列させるための広さが必要となるためである。

以下に、本実施形態の光フィルター１を用いた分光について説明する。
本実施形態の光フィルター１では、電極６Ａと電極６Ｂとの間に電圧が印加されていない場合、第１の可動ミラー４Ａと第１の固定ミラー４Ｂとは第１のギャップＧ１を介して対向している。同様に第２の可動ミラー５Ａと第２の固定ミラー５Ｂとは第２のギャップＧ２を介して対向している。
そこで、この光フィルター１に光が入射すると、第１のミラー対４では、図３に実線で示したように、第１のギャップＧ１に対応した波長の光、例えば４８０ｎｍの波長の光が射出される。一方、第２のミラー対５では、図３に破線で示したように、第２のギャップＧ２に対応した波長の光、例えば６３０ｎｍの波長の光が射出される。
第１のミラー対４と第２のミラー対５とは、それぞれが独立した状態で並列配置されているので、各ミラー対毎のギャップＧ１、Ｇ２に対応した光が干渉することなく、同時に分光される。よって、光フィルター１において、同時に二つの異なる波長の光を個別に干渉することなく分波して射出させることができる。

次に、制御装置および電源を駆動して電極６Ａと電極６Ｂとの間に電圧を印加すると、これら電極６Ａと電極６Ｂとの間には、電圧（電位差）の大きさに対応した静電力が発生する。このように、制御装置が電源を制御することにより、電極６Ａ、６Ｂ間に所望の電圧を印加し、電極６Ａと電極６Ｂとの間に所望の静電力を発生させることができる。
電極６Ａ、６Ｂ間に所望の静電力が発生すると、この静電力により電極６Ａ、６Ｂが相互に引きつけられて第１の基板２が第２の基板３側に向かって撓むように変形する。すると、第１のミラー対４の第１のギャップＧ１と第２のミラー対５の第２のギャップＧ２とは、電圧が印加されていない場合と比べて狭いギャップＧ１’、Ｇ２’となった状態で保持される。

この状態で光フィルター１に光を入射すると、共に間隔が狭くなった第１のギャップＧ１’と第２のギャップＧ２’とに対応して、透過波長がいずれも短波長側にシフトする。
図３中に一点破線で示したように、例えば第１のミラー対４では４００ｎｍの波長の光が射出され、図３中に二点破線で示したように、例えば第２のミラー対５では５５０ｎｍの波長の光が射出される。
このように、光フィルター１において、二つの異なる波長を同時にシフトさせて、個別に射出することができる。

以上説明したように、本実施形態の光フィルター１によれば、第２の基板３の対向面３ａに互いに高さの異なる段部３１、３３からなる複数個の段差部３２、３５を設けることにより、第１の基板２と第２の基板３との間で異なる大きさのギャップＧ１、Ｇ２を形成し、このギャップＧ１、Ｇ２を介して二つのミラー対４、５を各段差部に配置することで、複数個の波長を個別かつ同時に分光できる光フィルターを提供することができる。

次に、本実施形態に係る光フィルター１の応用例として、光フィルター１を備えた光センサーの一実施形態について説明する。
図４は本実施形態の光センサーの構成を示す概略断面図であって、符号１０は本実施形態の光センサーである。なお、図４における各部材に付された各符号は、図１および図２に示した光フィルター１のものと同一部材には同一符号を付しており、各部材についての説明は省略する。
この光センサー１０は、光フィルター１の射出側に受光部９を備えたもので、光フィルター１の各ミラー対４、５で分光されて射出される光を個別に検出する複数個の受光素子９４、９５を備えている。受光素子９４、９５は例えばフォトダイオード等からなり、各ミラー対４、５の射出面に対して対向して配設されており、光フィルター１からの射出光を受光して電気信号として変換するものである。
このように、光フィルター１に備えられたミラー対の設置個数に対応して受光素子を複数個備えることにより、光フィルター１で同時かつ個別に射出される波長の異なる光をそれぞれ独立して検知することができる。

図５は、この光センサー１０を備えた本発明の光学フィルター装置モジュールの一実施形態を示す図であり、図５中、符号５０は光学フィルター装置モジュールである。
この光学フィルター装置モジュール５０は、本実施形態の光フィルター１からなるフィルター部５１と、同じく本実施形態の受光部９からなる検出素子５５とを、共に備えたもので、検体Ｗに対して特定の帯域の光を照射し、この検体Ｗの反射光から予め設定した波長の光を選択的に取り出し（分光し）、その強度を測定するようにしたものである。

すなわち、この光学フィルター装置モジュール５０は、光源５２とレンズ５３とを有し、検体Ｗに対して所定の光、例えば可視光線や赤外線を照射する光源光学系５４と、フィルター部５１と検出素子５５とを有し、検体Ｗからの反射光を検出する検出部光学系５６と、光源５２の照度等を制御する光源制御回路５７と、フィルター部５１を制御するフィルター制御回路５８と、検出素子５５で検出された検出信号を受信し、さらに光源制御回路５７、フィルター制御回路５８に接続するプロセッサー５９と、を備えたものである。

このような光学フィルター装置モジュール５０では、検体Ｗに対して可視光線や赤外線などの特定の帯域の光を照射する。すると、例えば検体Ｗの表面状態などに対応して反射光が生じ、これがフィルター部５１に入射する。フィルター部５１では、電極６Ａ、６Ｂへの電圧印加（あるいは無印加）により、予め設定した波長の光を選択的に取り出す（分光する）ようにしておく。これにより、反射光から特定の波長域のみが選択的に取り出され、検出素子５５で検出されるようになる。したがって、例えば検出素子５５としてフィルター部５１で取り出される光を選択的に検出するものを用いることにより、感度良く反射光を検出することが可能になる。よって、この光学フィルター装置モジュール５０によれば、検体Ｗの表面状態等を感度良く検出することができる。

このような光学フィルター装置モジュール５０では、フィルター部５１において光フィルター１を備えたものであるので、光フィルター１の分光特性をそのまま利用することができる。
例えば、光フィルター１は既述したように、図３に示したような分光特性を有するので、４００〜７００ｎｍの波長領域の光を順次走査して検体Ｗに照射した際の反射光を検出する場合を説明する。
図３中にそれぞれ示したような透過波長シフトによって、第１のミラー対４では概ね４００〜５５０ｎｍの波長の光を、第２のミラー対５では概ね５５０〜７００ｎｍの波長の光を分光できる。この分光は各ミラー対においてそれぞれ独立して同時に行うことができるので、測定すべき全波長領域を、４００〜５５０ｎｍの短波長領域と５５０〜７００ｎｍの長波長領域とに二分割することができる。

このように、短波長領域を第１のミラー対４と受光素子９４とで順次走査して検知すると同時に、長波長領域を第２のミラー対５と受光素子９５とで順次走査して検知することによって、全波長領域を順次走査して検知する場合に比べて、走査すべき波長領域をほぼ半減することができ、検体測定の所要時間を大きく減少することができる。
加えて、本実施形態の光学フィルター１では、分光特性が異なるミラー対４、５を有しているにも関わらず、従来のものと略同じ大きさを保つことができるので、従来の光フィルターをモジュール内に並列して配置した場合に比べて省スペース型となっており、小型化された光学フィルター装置モジュール５０を提供することができる。

１…光フィルター、２…第１の基板、２１…段部、２２…可動段差部、３…第２の基板、３１…第１の段部、３２…第１の段差部、３３…第２の段部、３４…第２の段差部、３５…凸部、３６…第３の段差部、４…第１のミラー対、４Ａ…第１の可動ミラー、４Ｂ…第１の固定ミラー、５…第２のミラー対、５Ａ…第２の可動ミラー、５Ｂ…第２の固定ミラー、６…電極対、６Ａ、６Ｂ…電極、７…ダイアフラム部、Ｇ１…第１のギャップ、Ｇ２…第２のギャップ、Ｇ３…第３のギャップ、５０…光学フィルター装置モジュール、５１…フィルター部（光フィルター）

Claims

互いに対向配置された第１の基板および第２の基板と、
前記第２の基板の前記第１の基板に対向する面に形成された高さの異なる複数の段部からなる複数の光透過部と、
前記複数の光透過部の各々における前記第１の基板および前記第２の基板の対向する面に異なる大きさのギャップを介してそれぞれ設けられた複数対のミラーと、
前記複数対のミラーの周囲に設けられた一対の電極と、
前記複数対のミラーの中で前記第１の基板に設けられた複数のミラーの周囲に設けられたダイアフラム部と、を備え、
前記第１の基板に設けられた複数のミラーが、前記第２の基板に対して変位可能な前記第１の基板の同一平面上に設けられていることを特徴とする光フィルター。
前記第１の基板および前記第２の基板は、光透過性を有する材料からなることを特徴とする請求項１に記載の光フィルター。
前記第１の基板および前記第２の基板の少なくともいずれか一方は、半導体材料からなることを特徴とする請求項１記載の光フィルター。
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の光フィルターと、前記光フィルターを透過した光を受光する受光素子と、を備えてなることを特徴とする光モジュール。
前記受光素子が、前記複数の光透過部の各々に対応して複数個設けられたことを特徴とする請求項４に記載の光モジュール。