JP5734278B2 - キャリア基板から基板を分離するための装置及び方法 - Google Patents
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Description
− 基板ホルダの基板保持面と、キャリア基板ホルダの保持面との間に、キャリア基板、相互結合層、及び基板からなる基板/キャリア基板結合体を保持するステップであり、その後者の面が、基板保持面に対して平行に配置されうるステップと、
− 基板及びキャリア基板が相互に結合された状態で、キャリア基板に対して基板を平行移動させることにより、基板をキャリア基板から分離するステップと
を有する。
2 キャリア基板
3 相互結合層
4 基板ホルダ
4a 基板保持面
5 キャリア基板ホルダ
5a 保持面
6 基板固定手段
7 キャリア基板固定手段
8 案内往復台
9 ベースプレート
10 保持手段
12 Z−案内往復台
Claims (17)
- 相互結合層(3)により基板(1)に結合されたキャリア基板(2)から前記基板(1)を分離するための装置であって、
前記キャリア基板(2)を保持するための保持面(5a)を備えるキャリア基板ホルダ(5)と、
前記基板(1)を収容するための基板ホルダ(4)であって、前記保持面(5a)に対して平行に位置することができる基板保持面(4a)を備える、前記キャリア基板ホルダ(5)に対向して配置された基板ホルダ(4)と、
を備える前記装置において、
前記基板(1)及び前記キャリア基板(2)が相互に結合された状態において、前記基板(1)を前記キャリア基板(2)に対して平行移動させるための分離手段が設けられており、
前記分離手段は、前記キャリア基板(2)に結合された前記基板(1)を上昇させるように前記基板ホルダ(4)を上昇させる上昇手段を有し、
前記分離手段は、前記基板ホルダ(4)を上昇させ、前記キャリア基板(2)が浮いた状態で前記キャリア基板(2)に対して前記基板(1)を平行移動させて前記基板(1)を前記キャリア基板(2)から分離することを特徴とする装置。 - 前記相互結合層(3)によって生じた結合力を低下させるための手段が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記分離手段が、前記キャリア基板(2)に対して前記基板(1)を平行移動させるための直線駆動装置によって駆動可能な案内往復台(8)を備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
- 前記分離手段は、前記キャリア基板(2)が当接すべき保持手段(10)をさらに有し、
前記案内往復台(8)は、前記基板ホルダ(4)の上昇後、前記基板ホルダ(4)を移動させ、前記キャリア基板(2)が前記保持手段(10)に当接後も前記基板ホルダ(4)を更に移動させることにより、前記キャリア基板(2)に対して前記基板(1)を平行移動させて前記基板(1)を前記キャリア基板(2)から分離することを特徴とする請求項3に記載の装置。 - 前記分離手段が、前記案内往復台(8)を上昇させることによって前記キャリア基板(2)に結合された前記基板(1)を上昇させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記キャリア基板ホルダ(5)が、前記保持面(5a)上に前記キャリア基板(2)を固定するためのキャリア基板固定手段(7)を備えていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
- 前記基板ホルダ(4)が、前記基板保持面(4a)上に前記基板(2)を固定するための基板固定手段(6)を備えていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の装置。
- 前記分離手段が、前記キャリア基板ホルダ(5)又は前記基板ホルダ(4)に取り付けられたストッパを前記保持手段(10)として備えていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の装置。
- 直線駆動装置が、案内往復台(8)によって、剥離中に剥離力を測定するための検力手段によって、平行移動の速度を制御可能な駆動制御を有していることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置。
- 相互結合層によって基板に結合されたキャリア基板から前記基板を分離するための方法において、
基板ホルダの基板保持面と前記基板保持面に対して平行に配置可能なキャリア基板ホルダの保持面との間に、前記キャリア基板、前記相互結合層、及び前記基板から成る基板/キャリア基板結合体を保持するステップと、
前記基板/キャリア基板結合体を上昇させるステップと、
前記基板/キャリア基板結合体を前記基板保持面に対して平行に移動させ、前記キャリア基板(2)が浮いた状態で前記キャリア基板に対して前記基板を平行移動させて前記基板を前記キャリア基板から分離するステップと、
を備えていることを特徴とする方法。 - 前記基板/キャリア基板結合体を前記基板保持面に対して平行に移動させ、前記キャリア基板が保持手段に当接後も前記基板/キャリア基板結合体を更に移動させることにより、前記キャリア基板に対して前記基板を平行移動させて前記基板を前記キャリア基板から分離することを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記相互結合層によって生じる結合力が、保持された後且つ分離の前に低減されることを特徴とする請求項10又は11に記載の方法。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置を用いることを特徴とする請求項10〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 分離が、前記キャリア基板に対して前記基板を平行移動させるための直線駆動装置によって駆動可能な案内往復台によって行われることを特徴とする請求項10〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 分離前に、前記キャリア基板の前記キャリア基板ホルダ上に対する固定を解除にした後に、前記基板/キャリア基板結合体の上昇が行われることを特徴とする請求項10〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板が、平行移動のみによって前記キャリア基板から分離されることを特徴とする請求項10〜15のいずれか一項に記載の方法。
- 速度を制御するための駆動制御が設けられており、
前記速度が、平行移動に抗する剥離力に従って、分離中に大きくなることを特徴とする請求項10〜16のいずれか一項に記載の方法。
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KR102075994B1 (ko) * | 2014-03-25 | 2020-02-12 | 삼성전자주식회사 | 기판 분리 장치 및 기판 분리 시스템 |
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DE102016106351A1 (de) | 2016-04-07 | 2017-10-12 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Bonden zweier Substrate |
US10879094B2 (en) | 2016-11-23 | 2020-12-29 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chucking force measurement tool for process chamber carriers |
CN106783709B (zh) * | 2016-12-30 | 2023-09-29 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 太阳能电池组件层压工艺中玻璃片上料机构 |
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Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3929192A1 (de) * | 1989-09-02 | 1991-03-14 | Mero Werke Kg | Geraet zum abtrennen von deckbelaegen an doppelbodenplatten oder dgl. |
US5269868A (en) | 1989-10-12 | 1993-12-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for separating bonded substrates, in particular disassembling a liquid crystal display device |
JP3191827B2 (ja) * | 1991-04-26 | 2001-07-23 | 住友電気工業株式会社 | 半導体基板の剥離装置 |
US5240546A (en) * | 1991-04-26 | 1993-08-31 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Apparatus for peeling semiconductor substrate |
DE4127724A1 (de) * | 1991-08-22 | 1993-02-25 | Hoechst Ag | Vorrichtung zum trennen und abziehen einer auf einem traegermaterial auflaminierten folie |
US5256599A (en) * | 1992-06-01 | 1993-10-26 | Motorola, Inc. | Semiconductor wafer wax mounting and thinning process |
JP2707189B2 (ja) * | 1992-08-26 | 1998-01-28 | 株式会社日立製作所 | 電子部品の基板からの取外し方法及び装置 |
US5466325A (en) * | 1993-06-02 | 1995-11-14 | Nitto Denko Corporation | Resist removing method, and curable pressure-sensitive adhesive, adhesive sheets and apparatus used for the method |
JPH07169723A (ja) | 1993-12-16 | 1995-07-04 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ剥がし装置,及びウエハ剥がし方法 |
JPH0869723A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-03-12 | Nissei Denki Kk | ラミネートケーブルの製造方法 |
JP4220580B2 (ja) | 1995-02-10 | 2009-02-04 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
KR100543024B1 (ko) * | 1998-01-21 | 2006-05-25 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치의 편광판 제거장치 |
US6068727A (en) * | 1998-05-13 | 2000-05-30 | Lsi Logic Corporation | Apparatus and method for separating a stiffener member from a flip chip integrated circuit package substrate |
DE19958803C1 (de) | 1999-12-07 | 2001-08-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zum Handhaben von Halbleitersubstraten bei der Prozessierung und/oder Bearbeitung |
JP2002184315A (ja) * | 2000-12-11 | 2002-06-28 | Sony Corp | フイルム剥離装置及び剥離方法 |
JP4218785B2 (ja) * | 2001-08-31 | 2009-02-04 | 株式会社村田製作所 | 電子部品取扱い装置及び取扱い方法 |
JP2003288028A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-10-10 | Canon Inc | 画像表示装置の分解方法、画像表示装置の製造方法、支持体の製造方法、画像表示部の製造方法、加工材料の製造方法、および画像表示装置 |
JP2004063645A (ja) | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Enzan Seisakusho:Kk | 半導体ウェハの保護部材剥離装置 |
WO2006129458A1 (ja) | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Jsr Corporation | 固定剤付きウエハ及び固定剤付きウエハの製造方法 |
JP4668833B2 (ja) | 2006-04-26 | 2011-04-13 | 三菱電機株式会社 | 半導体ウエハ分離装置及び分離方法 |
DE102006031434B4 (de) | 2006-07-07 | 2019-11-14 | Erich Thallner | Handhabungsvorrichtung sowie Handhabungsverfahren für Wafer |
DE102006056339A1 (de) | 2006-11-29 | 2008-09-11 | Bernhard Brain | Vorrichtung zum Trennen von zwei aufeinander angeordneten scheibenförmigen Elementen bei der Entnahme |
WO2008088560A2 (en) * | 2007-01-18 | 2008-07-24 | Silicon Genesis Corporation | Controlled substrate cleave process and apparatus |
JP2008192982A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Nikon Corp | ウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置 |
JP5305604B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2013-10-02 | 株式会社東芝 | 粘着フィルムの剥離装置及び液晶パネルの製造方法 |
JP4964070B2 (ja) * | 2007-09-10 | 2012-06-27 | 日東電工株式会社 | 保護テープ剥離方法および保護テープ剥離装置 |
US8211270B2 (en) * | 2008-11-21 | 2012-07-03 | Nitto Denko Corporation | Method of detaching attached boards from each other |
JP5439583B2 (ja) * | 2009-04-16 | 2014-03-12 | スス マイクロテク リソグラフィー,ゲーエムベーハー | 一時的なウェハーボンディング及びデボンディングのための改善された装置 |
US8366873B2 (en) * | 2010-04-15 | 2013-02-05 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Debonding equipment and methods for debonding temporary bonded wafers |
JP2013147621A (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | Nitto Denko Corp | 貼り合わされた2枚の板の分離方法 |
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