JP5697021B2 - 複合型ターゲット、複合型ターゲットを用いる中性子発生方法、及び複合型ターゲットを用いる中性子発生装置 - Google Patents
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Neutron Capture Therapy)のための中性子の発生方法及び装置の研究開発が盛んに行わ
れている。これらは、例えば、特許文献1、2、3、4、5、6、及び7に開示されている。
)反応を起こさせ中性子を発生させ、中性子減速材を介して治療用の熱中性子・熱外中性子を発生させることを特徴としている。
あることが開示されている。そして、特許文献6は、該ターゲットの厚みが同ターゲット中における陽子線の飛程と略同等又はそれよりもわずかに大きくし、又、ターゲットを冷却するためにターゲットの伝熱面積と同程度以上の伝熱面積を有する金属板を介して冷却することを特徴としている。
以上の問題を解決するためには、従来よりも加速エネルギーの低い低放射化能の陽子線を用いて有害性の低い低エネルギーの熱中性子・熱外中性子を効率的に発生させるためのターゲットの開発が切望されていたが、これまで上記問題を解決するようなターゲットは知られていないのが現状である。
1.陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットが、放射化を低減させる非金属材料及びベリリウムから構成されることを特徴とする複合型ターゲット。
2.ターゲットが非金属材料製の基板及び該基板の片面に付着された厚さ0.01mm以上1mm未満のベリリウムから構成されることを特徴とする上記1に記載の複合型ターゲット。
3.放射化を低減させる非金属材料が、かさ密度1.5g/cm3〜3.5g/cm3の範囲にあ
る等方性黒鉛であることを特徴とする上記1及び2のいずれか一つに記載の複合型ターゲット。
4.ターゲットの側部及び又は内部に冷媒の流路を設けた冷却機構を付帯することを特徴とする上記1〜3のいずれか一つに記載の複合型ターゲット。
5.陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットが、かさ密度1.5g/cm3〜3.5g/cm3の範囲にある等方性黒鉛製の基板及び該基板の片面に付着された厚さ0.0
1mm以上1mm未満のベリリウムから構成されており、ターゲットの側部及び又は内部に冷媒の流路を設けた冷却機構を付帯することを特徴とする複合型ターゲット。
6.陽子をターゲットに衝突させて中性子を発生させるための中性子発生方法において、陽子が4MeV以上11MeV未満の陽子であり、ターゲットが上記5の複合型ターゲットであり、該ターゲットに前記陽子を真空下で衝突させることによって、核反応による中性子を発生させると共に核反応に伴って発生する熱を該ターゲットの冷却機構によって除熱することを特徴とする中性子発生方法。
7.複合型ターゲットのベリリウム面が陽子線の進行方向に対面していることを特徴とする上記6に記載の中性子発生方法。
8.陽子発生のための水素イオン発生部、水素イオン発生部で発生する陽子を加速するための加速器、加速器によって加速された陽子を照射するための陽子照射部、照射部の陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットを備える中性子発生装置において、前記加速器が線形加速器であり、前記ターゲットが上記5の複合型ターゲットであり、該ターゲットのベリリウム表面が陽子の進行方向に対面するように前記陽子照射部の端部に配置されていることを特徴とする中性子発生装置。
9.線形加速器が陽子を4MeV以上11MeV未満の範囲に加速することができる線形加速器であることを特徴とする上記8に記載の中性子発生装置に関する。
飛躍的に小型の加速器である線形加速器、及び線形加速器によって発生させる従来よりも低エネルギー・大電流の陽子線を用いて有害性の低い医療用中性子を効率的に発生可能な新規の複合型ターゲットを用いている。これにより、本発明の中性子発生装置は、有害且つ放射化能の高い速中性子(高速中性子)を防除するための大がかりな減速装置や大がかりな放射化防止装置を必ずしも必要としないという特長を有する。そのため、本発明の中性子発生装置は、小規模の医療機関に設置可能である。
では、非金属材料が炭素である場合には、12C(p,n)反応が起きる。
mm未満である。さらに好ましくは、ベリリウムの厚さは、0.1mm以上であり0.5mm以下である。ベリリウムの厚さが0.01mm未満であると耐熱性が著しく低下するので0.01m
m以上であることが好ましい。また、陽子の衝突による核反応の一部をベリリウムで分担させるためには、ベリリウムの厚さは1mm未満であることが好ましい。
用いた場合には、ベリリウム表面の水冷による直接冷却法が困難であるために、ベリリウムよりも表面積の大きい熱伝導板を介した直接冷却法が提案されている(特許文献6)。しかし、本発明では、二種類の材料から構成される複合型ターゲットを用いることでベリリウムの熱負荷を軽減できるので、ベリリウムの表面積の限定を必要としない。
る。図2に示されるとおり、本実施形態に係る冷却機構を付帯した複合型ターゲット7は、ベリリウム1、非金属材料2、複合型ターゲットの側部に設けられた冷却機構4、複合型ターゲットの内部に設けられた冷却機構5、及び伝熱板6を備える。
陽子の進行方向に対面するように設けるのは、陽子との核反応の多くの部分を最初の反応で発生させる上でベリリウムが好ましいからである。非金属材料の表面を陽子の進行方向に向けることも可能ではあるが、非金属材料は密度が低いので照射陽子の減速のためには肉厚の材料が必要となり、ベリリウムの表面を陽子の進行方向に向ける場合と比べて好ましくない。
られている。また、複合型ターゲット7に付帯される冷却機構は、図2に示すように複合型ターゲットの側部及び又は内部に冷媒の流路を設けた冷却機構である。前記記載のように、複合型ターゲット7は、ターゲットと冷却機構とが一体化したカートリッジ型構造とすることが可能である。本実施形態に係る中性子発生装置は、これを半自動脱着構造を有する真空フランジを介して加速器の先端部分に設けるので、ターゲットの劣化に際して、新品との着脱交換を遠隔操作によって簡易に行うことができるという特長を持っている。
[実施例1]
図1〜4に示す方法及び装置を用いて中性子発生実験を行った。水素イオン発生器によって発生させた水素イオンを長さ約6.5mの常伝導線形加速器に導入し、10−6パスカルの真空下、4MeVに加速し、照射部に送り、複合型ターゲットに衝突させることによって中性子を発生させた。複合型ターゲットとしては、直径165mm、厚さ30mmの等方性黒鉛(東洋炭素株式会社製造品:IG15、かさ密度1.90g/cm 3 )の片面に厚さ0.1mmのベリリウムを付着させた複合型ターゲットを用い、これをベリリウム面が陽子の進行方向に対して垂直になるように陽子照射部の先端部分にフランジを介して取り付けた。冷却は、複合型ターゲットの側面に厚さ1mmの銅板を巻き付けその上に環状の水冷ジャケットを取り付け、ターゲット全体を水冷した。100時間運転後に中性子発生装置全体の放射化の程度をサーベイメーターによって測定した。また、発生した中性子のエネルギー分布を特開2008−243634号公報に成るガス放射線検出器を用いて測定した。
照射陽子の加速エネルギーを8MeVとし、複合型ターゲットにおけるベリリウムの厚みを0.5mmとした以外には、実施例1と同様の方法で中性子を発生させ、放射化の程度及び中性子のエネルギー分布を測定した。
照射陽子の加速エネルギーを10MeVとし、複合型ターゲットにおけるベリリウムの厚みを0.6mmとした以外には、実施例1と同様の方法で中性子を発生させ、放射化の程度及び中性子のエネルギー分布を測定した。
比較のために、実施例1の線形加速器を用いて加速した12MeVの陽子をターゲットに照射して中性子を発生させた。ターゲットとして、直径165mm厚さ2mmのベリリウム製ターゲットを用いた。該ベリリウム製ターゲットは、ベリリウムの片面に直径165mm厚さ1mmの銅板を張り付け、該銅板の上に水冷ジャケットを取り付けて水冷した。このターゲットを陽子照射部の先端部分にフランジを介して取り付けた。放射化の程度及び中性子のエネルギー分布を実施例1と同様の測定器を用いて測定した。
2 非金属材料
3 複合型ターゲット
4 側部に設けた冷却機構
5 内部に設けた冷却機構
6 伝熱板
7 冷却機構を付帯した複合型ターゲット
8 陽子の流れ
9 中性子の流れ
10 水素イオンの流れ
11 加速陽子の流れ
12 照射陽子の流れ
13 水素イオン発生器
14 線形加速器
15 陽子照射部
Claims (9)
- 陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットが、等方性黒鉛、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、グラッシーカーボン、炭化ケイ素、窒化ケイ素のいずれか、またはこれらの複合材料からなる放射化を低減させる非金属材料及びベリリウムから構成されることを特徴とする複合型ターゲット。
- 前記ターゲットが前記放射化を低減させる非金属材料製の基板及び該基板の片面に付着された厚さ0.01mm以上1mm未満のベリリウムから構成されることを特徴とする請求項1に記載の複合型ターゲット。
- 前記放射化を低減させる非金属材料が、かさ密度1.5g/cm3〜3.5g/cm3の範囲に
ある等方性黒鉛であることを特徴とする請求項1及び2のいずれか1項に記載の複合型ターゲット。 - 前記ターゲットの側部及び又は内部に冷媒の流路を設けた冷却機構を付帯することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の複合型ターゲット。
- 陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットが、かさ密度1.5g/cm3〜3.5g/cm3の範囲にある等方性黒鉛製の基板及び該基板の片面に付着された厚さ0.01m
m以上1mm未満のベリリウムから構成されており、少なくともターゲットの側部又は内部のうちのどちらか一方に冷媒の流路を設けた冷却機構を付帯することを特徴とする複合型ターゲット。 - 陽子をターゲットに衝突させて中性子を発生させるための中性子発生方法において、
陽子が4MeV以上11MeV未満の陽子であり、
ターゲットが請求項5の複合型ターゲットであり、
該ターゲットに前記陽子を真空下で衝突させることによって、核反応による中性子を発生させると共に核反応に伴って発生する熱を該ターゲットの冷却機構によって除熱することを特徴とする中性子発生方法。 - 複合型ターゲットのベリリウム面が陽子の進行方向に対面していることを特徴とする請
求項6に記載の中性子発生方法。 - 陽子発生のための水素イオン発生部と、
水素イオン発生部で発生する陽子を加速するための加速器と、
加速器によって加速された陽子を照射するための陽子照射部と、
照射部の陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットと、を備え、
前記加速器が線形加速器であり、
前記ターゲットが請求項5の複合型ターゲットであり、
該ターゲットのベリリウム表面が陽子の進行方向に対面するように前記陽子照射部の端部に配置されていることを特徴とする中性子発生装置。 - 線形加速器が陽子を4MeV以上11MeV未満の範囲に加速することができる線形加速器であることを特徴とする請求項8に記載の中性子発生装置。
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