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JP5690742B2 - ディーゼル燃料を製造するためのサワー運転水素処理 - Google Patents

ディーゼル燃料を製造するためのサワー運転水素処理 Download PDF

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Description

本発明は、高硫黄および/または窒素含有量のディーゼル沸点範囲燃料を処理するための触媒、およびこれらの触媒を使用する方法を提供する。
多様な地域標準が、ディーゼル燃料の性状に対して存在する。特に、ディーゼル燃料の低温流動性に対する要件は、地理的および季節的な両基準に基づいて異なり得る。
ディーゼル燃料の低温流動性を向上するための一つの方法は、ディーゼル燃料を接触脱ロウへ付すことである。脱ロウプロセスの目標は、ディーゼル燃料のくもり点および流動点を向上し、一方収率および/またはセタンの減損を最小にすることである。原料のくもり点および/または流動点を向上することによって、元原料のより多くの部分を、ディーゼル燃料として用いることができる。これは、より低価値のプロセス(ガソリンを作製するためのFCC分解など)へ迂回される原料の量を減少する。結果として、より大きなくもり点変化を同じ過酷度でもたらすプロセス向上が望ましい。より広範囲の原料群を、ディーゼルを製造するのに使用可能にする向上などである。
ディーゼル燃料の接触脱ロウに対する一つの問題は、脱ロウ触媒が、典型的には、硫黄または窒素などの汚染物に敏感であることである。これは、安定な統合ディーゼル製造プロセスを開発する際に、種々の問題を提起しうる。典型的なディーゼル燃料は、しばしば水素化されて、硫黄が、低レベル(10wppm以下など)へ除去される。これらのディーゼル燃料は、しばしば、脱ロウ触媒へ、触媒を激しく損傷することなく曝露されるのに十分にクリーンである。しかし、プロセスの不調が生じ、硫黄汚染物がディーゼル中に残存する場合には、触媒は被毒され、活性のいくらかの減損が永久的になるかもしれない。加えて、より重質の原料の水素化分解を含むディーゼル燃料製造プロセスにおいては、実質量の硫黄および/または窒素が、水素化分解された原料中に残存するかもしれない。これらの汚染物は、水素化によって除去することができる。しかし、脱ロウ工程が含まれるためには、従来の脱ロウ触媒は、別の反応器へ移されなければならないかもしれない。
米国特許第5,332,566号明細書
Johnson、M.F.L.著「Jour.Catal.」(第52巻、第425頁、1978年)
ある実施形態において、ディーゼル沸点範囲燃料を製造するための方法が提供される。方法は、硫黄少なくとも500vppmを含むディーゼル沸点範囲原料材を、効果的な水素化条件下に水素化する工程を含む。水素化された原料材の少なくとも一部は、次いで、脱ロウ触媒の存在の下、効果的な接触脱ロウ条件下に脱ロウされる。水素化された原料材を脱ロウするための脱ロウ触媒は、100以下のSiO:Al比を有するモレキュラーシーブ、および金属酸化物結合剤を含み、かつ脱ロウ触媒は、ゼオライト表面積対外表面積の比率少なくとも80:100を有する。
比較触媒の活性を示す。 比較触媒の活性を示す。 種々の触媒について、水素処理温度および流動点の間の関係を示す。 種々の触媒について、老化速度を示す。 種々の触媒について、水素処理生成物の収率を示す。 ディーゼル燃料を製造するためのシステムを概略的に示す。
概要
種々の実施形態において、ディーゼル燃料を製造するためのプロセスが提供される。これには、原料の接触脱ロウが含まれる。脱ロウには、従来の脱ロウ触媒に比較して、硫黄および窒素などの汚染物に対してより耐性のある触媒の使用が含まれる。脱ロウ触媒は、汚染物に対してより耐性があることから、汚染物による触媒被毒の危険性が、非常に低減される。更に、汚染物に対する触媒の耐性は、触媒が、反応システム内の好都合な場所で用いられることを可能にする。例えば、従来の脱ロウ触媒は、水素化列の終端部に位置されなければならない。そのために、硫黄および窒素は、脱ロウ触媒を原料へ曝露する前に、適切なレベルへ除去される。汚染物耐性脱ロウ触媒を用いると、脱ロウ触媒は、全ての汚染物を原料ストリームから除去する前に、用いることができる。これには、脱ロウ触媒を、脱ロウ触媒への曝露前にガスを流出物から分離することなく、水素化段と同じ反応器内で用いる工程が含まれるであろう。他の選択肢は、水素化の前に、ディーゼル原料を接触脱ロウすることであろう。
汚染物耐性触媒は、汚染物が存在する場合には、より活性を保持し、汚染物が周囲から除去される場合には、より早く活性を回復する。この利点は、シリカ対アルミナの低い比率を有し、かつ微細孔(ゼオライト)表面積対外表面積比の高い比率を有するゼオライトを用いることによって達成される。或いは、この利点は、シリカ対アルミナの低い比率を有し、かつ低表面積を有する結合剤を用いて処方されたゼオライトを用いることによって達成される。脱ロウ触媒には、更に、金属水素添加機能が含まれる。第VIII族金属、好ましくは第VIII族貴金属などである。好ましくは、脱ロウ触媒は、一次元10員環触媒である。ZSM−48またはZSM−23などである。
外表面積、および微細孔または「ゼオライト」表面積とは、触媒の全表面積を特徴付ける一方法をいう。これらの表面積は、表面積測定に関するBET法を用いる窒素多孔度分析法データの分析に基づいて計算される(例えば、非特許文献1を参照されたい)。「ゼオライト」表面積とは、触媒中の微細孔による表面積をいう。触媒中のゼオライトのみが、表面積のこの部分に寄与する。外表面積は、触媒中のゼオライトまたは結合剤のいずれかによるものであることができる。
原料材
米国のディーゼル燃料について、種々の地域に基づく要件および規格は、ASTM D975に提供される。他の類似の規定が、ヨーロッパ、カナダ、および他の国々に対して存在する。これらの規格には、典型的には、硫黄は、ディーゼル生成物中で、15wppm以下へ低減されるという要件が含まれる。加えて、くもり点規格は、幅広く異なるが、冬季月の規格は、日常的に、0℃を十分に下回るくもり点を必要とする。
本発明で用いるのに適切なディーゼル沸点範囲の原料ストリームは、約215°F(約102℃)〜約800°F(約427℃)の範囲内で沸騰する。好ましくは、ディーゼル沸点範囲の原料ストリームは、初留点少なくとも250°F(121℃)、または少なくとも300°F(149℃)、または少なくとも350°F(117℃)、または少なくとも400°F(205℃)、または少なくとも451°F(233℃)を有する。好ましくは、ディーゼル沸点範囲の原料ストリームは、終点800°F(427℃)以下、または775°F(413℃)以下、または750°F(399℃)以下を有する。ある実施形態においては、ディーゼル沸点範囲の原料ストリームは、沸点範囲451°F(233℃)〜約800°F(約427℃)を有する。他の実施形態においては、ディーゼル沸点範囲の原料ストリームにはまた、灯油範囲の化合物が含まれて、沸点範囲約250°F(約121℃)〜約800°F(約427℃)を有する原料ストリームが提供される。これらの原料ストリームは、窒素約50〜約2000wppm、好ましくは窒素約50〜約1500wppm、より好ましくは窒素約75〜約1000wppmの窒素含有量を有することができる。ある実施形態においては、本明細書で用いるのに適切な原料ストリームは、硫黄約100〜約40,000wppm、好ましくは約200〜約30,000wppm、より好ましくは約350〜約25,000wppmの硫黄含有量を有する。用いるのに適切な原料ストリームには、合成素材(フィッシャー−トロプシュ炭化水素など)から誘導される原料ストリーム、またはバイオ成分素材(動物性または植物性油肪、または脂肪酸など)から誘導される原料ストリームを含むことができる。
原料の水素化
水素化の主な目的は、典型的には、原料の硫黄、窒素、および芳香族含有量を低減することであり、本質的には、原料の沸点変換とは関係がない。触媒は、通常、第VIA族および/または第VIII族金属の少なくとも一種を、担体(アルミナまたはシリカなど)上に担持して含む。例には、Ni/Mo、Co/Mo、およびNi/W触媒が含まれる。水素化条件には、典型的には、温度315〜425℃、圧力300〜3000psig(2.1〜20.7MPag)、液空間速度(LHSV)0.2〜10h−1、および水素処理速度500〜10000scf/バレル(85〜1690Nm/m)が含まれる。
規制要件を満足するためには、ディーゼル生成物中に存在する硫黄は、15wppm未満でなければならない。この規格を満足するためには、プロセス内の変動値が規格を越えることのないように、より低い硫黄目標値を有することが望ましい。これはまた、ディーゼル燃料のその後の汚染が生じる場合(移送中など)に、誤差の余地を提供する。
水素化は、典型的には、脱ロウの前に生じるものの、種々の実施形態においては、脱ロウプロセスは、水素化の前、水素化段の間、または水素化の後(水素化段からの全流出物を、分離なしに、脱ロウ段へカスケードすることを含む)に生じることができることに注目されたい。
脱ロウプロセス
一実施形態においては、水素化段からの生成物は、直接、接触脱ロウ反応域にカスケードされる。従来のプロセスとは異なって、分離は、水素化段および接触脱ロウ段の間には必要でない。分離工程の省略は、種々の結果を有する。分離自体に関しては、更なる装置が不要である。いくつかの実施形態においては、接触脱ロウ段および水素化段は、同じ反応器内に配置されてもよい。別に、水素化および接触脱ロウプロセスは、別個の反応器内で行なわれてもよい。分離工程の省略はまた、原料を再加圧するいかなる必要性も回避する。代わって、水素化段からの流出物は、該流出物が脱ロウ段へ送られる処理圧力で保持されることができる。
水素化および接触脱ロウの間の分離工程の省略はまた、水素化工程への原料中のいかなる硫黄もが、依然として、水素化工程から接触脱ロウ工程へ送られる流出物中に存在するであろうことを意味する。水素化工程への原料中の有機硫黄の一部は、水素化中に、HSへ転化されるであろう。同様に、原料中の有機窒素は、アンモニアへ転化されるであろう。しかし、分離工程を用いることなく、水素化中に形成されるHSおよびNHは、接触脱ロウ段への流出物と共に移動するであろう。分離工程の欠如はまた、水素化中に形成されるいかなる軽質ガス(C〜C)もが、依然として、流出物中に存在するであろうことを意味する。
水素化および接触脱ロウの間の分離工程の省略は、ある程度、触媒活性を高いレベルの窒素および硫黄の存在下に維持する脱ロウ触媒の能力によって、可能にされる。従来の触媒は、しばしば、原料ストリームの予備処理を必要として、窒素含有量が数ppmへ、および硫黄含有量が数百ppm未満へ低減される。対照的に、原料ストリームを基準として、窒素0.2wt%以下および硫黄3.0wt%以下を含む炭化水素原料ストリームは、本発明の触媒を用いて効果的に処理されることができる。実施形態においては、原料ストリームの硫黄含有量は、硫黄少なくとも0.05wt%、または少なくとも0.1wt%、または少なくとも0.5wt%、または少なくとも1wt%、または少なくとも2wt%、または少なくとも3wt%であることができる。他の実施形態においては、原料ストリームの窒素含有量は、少なくとも25wppm、または少なくとも50wppm、または少なくとも100wppm、または少なくとも250wppm、または少なくとも500wppmであることができる。硫黄および窒素含有量は、それぞれ、標準ASTM法D2622およびD4629によって測定されてもよい。
別の実施形態においては、接触脱ロウは、少なくとも一つの水素化段の前に行われることができる。これらの実施形態においては、有機硫黄および窒素は、脱ロウ中の原料に存在するであろう。
更に他の実施形態においては、接触脱ロウは、水素化後および分離後に行われて、水素化された原料から汚染物ガスが、除去されることができる。これらの実施形態においては、本発明のプロセスは、更に、従来の方法を越える利点を提供する。
好ましくは、本発明の脱ロウ触媒は、ゼオライトである。これは、主に炭化水素原料材を異性化することによって脱ロウを行う。より好ましくは、触媒は、一次元細孔構造を有するゼオライトである。適切な触媒には、10員環ゼオライトが含まれる。EU−1、ZSM−35(またはフェリエライト)、ZSM−11、ZSM−57、NU−87、SAPO−11、およびZSM−22などである。好ましい物質は、EU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、またはZSM−23である。ZSM−48およびZSM−23が、より好ましい。シリカ対アルミナ比約20:1〜約40:1を有するZSM−23構造を有するゼオライトは、時には、SSZ−32と呼ばれることができることを注目されたい。上記物質と親近構造である他のモレキュラーシーブには、θ−1、NU−10、EU−13、KZ−1、およびNU−23が含まれる。
種々の実施形態においては、本発明の触媒には、更に、金属水素添加成分が含まれる。金属水素添加成分は、典型的には、第VIおよび/または第VIII族金属である。好ましくは、金属水素添加成分は、第VIII族貴金属である。より好ましくは、金属水素添加成分は、Pt、Pd、またはそれらの混合物である。
金属水素添加成分は、いかなる好都合な方法でも、触媒へ添加されてもよい。金属水素添加成分を添加するための一技術は、初期湿潤によるものである。例えば、ゼオライトおよび結合剤を組み合わせた後に、組合されたゼオライトおよび結合剤は、触媒粒子に押出し成形されることができる。これらの触媒粒子は、次いで、適切な金属前駆体を含む溶液へ曝露されることができる。別に、金属は、イオン交換によって触媒へ添加されることができる。その際、金属前駆体は、押出し成形の前に、ゼオライトの混合物(またはゼオライトおよび結合剤)へ添加される。
触媒中の金属の量は、触媒を基準として、少なくとも0.05wt%、または少なくとも0.1wt%、または少なくとも0.25wt%、または少なくとも0.5wt%であることができる。触媒中の金属の量は、触媒を基準として、5wt%以下、または2.5wt%以下、または1wt%以下、または0.75wt%以下であることができる。金属がPt、Pd、他の第VIII族貴金属、またはそれらの組み合わせである実施形態については、金属の量は、好ましくは0.1〜2wt%、より好ましくは0.25〜1wt%である。
好ましくは、本発明のプロセスで用いられる脱ロウ触媒は、シリカ対アルミナの低い比率を有する触媒である。例えば、ZSM−48については、ゼオライト中のシリカ対アルミナ比は、110:1未満、または100:1未満、または90:1未満、または80:1未満であることができる。好ましい実施形態においては、ZSM−48ゼオライト中のシリカ対アルミナ比は、60:1〜110:1、または70:1〜100:1であることができる。他のゼオライトを含む実施形態においては、低い値に対応するシリカ/アルミナ比は、変動することができる。例えば、ゼオライトがZSM−23(または構造的同等物)である実施形態においては、シリカ対アルミナ比は、75:1以下、または50:1以下、または40:1以下であることができる。別の実施形態においては、脱ロウ触媒がシリカ対アルミナの低い比率を有するかどうかを決定する他の方法は、触媒中の水素添加金属対アルミナの比を決定することによるものである。
本発明のプロセスで有用な脱ロウ触媒にはまた、結合剤が含まれることができる。いくつかの実施形態においては、本発明のプロセスで用いられる脱ロウ触媒は、低表面積の結合剤を用いて処方される。低表面積の結合剤とは、表面積100m/g以下、または80m/g以下、または60m/g以下を有する結合剤を表す。
別に、結合剤は、所望の微細孔表面積/外表面積比を有する触媒を提供するように選択されることができる。本発明に従って用いられる脱ロウ触媒においては、微細孔表面積は、脱ロウ触媒中のゼオライトの細孔からの表面積に対応する。触媒中で用いられるいかなる結合剤も、微細孔表面積に寄与しないであろう。従って、微細孔表面積はまた、ゼオライト表面積と呼ぶことができるであろう。外表面積は、全触媒の表面積の残りを表す。結合剤およびゼオライトはいずれも、この値に寄与することができる。
好ましくは、脱ロウ触媒の微細孔(またはゼオライト)表面積は、外表面積と概略等しいか、またはそれよりも大きいであろう。実施形態においては、微細孔表面積対外表面積の比は、少なくとも80:100、または少なくとも90:100、または少なくとも95:100である。好ましくは、微細孔表面積対/外表面積比は、少なくとも100:100(または1:1)、または少なくとも105:100、または少なくとも110:100、または少なくとも115:100である。
ゼオライトは、いかなる好都合な方法でも、結合剤と組合されることができる。例えば、結合触媒は、次によって製造されることができる。即ち、ゼオライトおよび結合剤の両粉末から出発して、該粉末を添加水と組み合わせおよび混和して混合物が形成され、次いで混合物を押出し成形して、所望サイズの結合触媒が製造されることによる。押出し成形助剤がまた、ゼオライトおよび結合剤混合物の押出し成形流動特性を修正するのに用いられることができる。触媒中の結合剤の量は、触媒を基準として、5〜95wt%、好ましくは10〜90wt%、より好ましくは20〜80wt%、更により好ましくは30〜70wt%であることができる。他の好ましい実施形態においては、ゼオライトの量は、触媒を基準として少なくとも50wt%である。
更に他の実施形態においては、二種以上の金属酸化物からなる結合剤がまた、用いられることができる。これらの実施形態においては、低表面積の結合剤の重量%は、好ましくは、より高い表面積の結合剤の重量%より大きい。例えば、ゼオライト65wt%、および二種以上の金属酸化物からなる結合剤35wt%からなる触媒においては、より低い表面積の結合剤少なくとも20wt%を有することが好ましい。別に、混合金属酸化物結合剤を形成するのに用いられる両金属酸化物が、十分に低い表面積を有する場合には、結合剤中の各金属酸化物の比率は、あまり重要でない。二種以上の金属酸化物が、結合剤を形成するのに用いられる場合には、二種の金属酸化物は、いかなる好都合な方法によっても、触媒に組込まれることができる。例えば、一種の結合剤は、ゼオライト粉末の形成中(噴霧乾燥中など)に、ゼオライトと混合されることができる。噴霧乾燥されたゼオライト/結合剤粉末は、次いで、押出し成形の前に、第二の金属酸化物結合剤と混合されることができる。
接触脱ロウ域におけるプロセス条件には、温度280〜380℃、圧力300〜3000psig(2.1〜20.7MPag)、LHSV0.1〜5.0h−1、および処理ガス速度500〜5000scf/バレル(85〜850Nm/m)が含まれる。
プロセスは、更に、図1に示される代表的なプロセスに関連して記載される。新規原料は、ライン15を通って水素化装置20へ送られて、水素化生成物、硫化水素、アンモニア、および軽質炭化水素ガスが製造される。第一の水素処理域の水素は、例えば、ライン35を経て、リサイクル装置70から提供されることができる。別に、第一の水素処理域は、新規水素ストリームと共に供給されることができる。水素化装置からの生成物は、任意の分離域30を通過される。任意の分離域30が存在する場合には、液体の水素化生成物は、ライン25を経て、任意の分離域30へ送られるメイクアップ水素ガスを用いてストリッピングされる。軽質炭化水素、硫化水素、およびアンモニアは、水素化生成物から分離され、例えば、汚染物を水素から実質的に分離するための第二の分離域40へ送られることができ、そのために水素がリサイクルされることができる。ストリッピングされた水素化生成物は、第二の接触脱ロウ装置50へ送られる。別に、任意の分離域30が存在しない場合には、水素化装置20からの全流出物は、接触脱ロウ装置50へ送られる。この後者の実施形態においては、水素化および接触脱ロウ段は、同じ反応器内に配置されることができることを注目されたい。
接触脱ロウ装置は、ワックス質パラフィンを、選択的水素化分解、異性化、またはそれらのある種の組み合わせによって、水素化生成物から除去および/または修正する。接触脱ロウプロセスのための水素は、接触脱ロウ装置50に直接提供されることができるか、または図6に示されるように、接触脱ロウ装置50のための水素は、第一の分離域30で用いられるメイクアップ水素流、およびリサイクル装置からの更なる水素によって提供されることができる。反応システムで必要とされる水素を提供するための更なる他の方法は、当業者に明らかであろう。得られる脱ロウ生成物およびいかなるガスも、次いで、分離域60へ送られる。分離域60を含む分離装置は、液体生成物をガスから分離する。液体生成物(脱ロウ生成物)は、ディーゼル燃料生成物として用いるために、ライン65を通って送られる。分離装置60からのガス状生成物は、分離装置40からのガス相生成物に対して用いられるものと同じリサイクルループへ送られる。
更に他の実施形態においては、図6の水素化装置および接触脱ロウ装置の配置を入れ替えることができる。例えば、水素化装置20を有する代わりに、その位置にある反応器を、接触脱ロウのために用いることができ、一方後方の反応器を、水素化のために用いる。更に他の実施形態においては、接触脱ロウ段を、少なくとも一つの水素化段の前に配置することができる。
処理の実施例
次の実施例は、本発明の脱ロウ触媒および比較触媒の存在の下になわれたパイロットプラント運転を表す。次の実施例に用いられた初期原料は、硫黄10wppm未満および窒素5wppm未満を有するディーゼル範囲で沸騰する原料であった。いくつかの実施例においては、更なる汚染物が、原料へ添加されて、触媒の活性に対する窒素および硫黄の影響が決定された。脱ロウ反応器における空間速度を約3〜約6の間で変更することは、より高い温度が6LHSVで必要とされて、3LHSVにおけるのと同じくもり点変化が達成されたものの、定性的には、結果を変えなかったことを注目されたい。例えば、次の処理の実施例1においては、温度が、6LHSVでは630゜F(332℃)へ増大されて、3LHSVに対して610゜F(321℃)で観察されたのと同じくもり点変化が達成された。
実施例においては、本発明の触媒は、0.6wt%Pt担持チタニア結合ZSM−48であった。ZSM−48のシリカ対アルミナ比は、70:1であった。ゼオライト対チタニア比は、65:35であった。比較触媒は、0.6wt%Pt担持アルミナ結合ZSM−48(シリカ対アルミナ比180:1)であった。ゼオライト対アルミナ比はまた、65:35であった。
処理の実施例1−クリーン運転
比較触媒について、くもり点変化(減少)55℃を、推定内部温度610゜F(321℃)で得た。本発明の触媒については、くもり点変化50℃を、590゜F(310℃)で得た。従って、本発明の触媒は、類似のくもり点変化を、比較触媒より約20゜F(約11℃)低い温度でもたらすことが可能であった。
処理の実施例2−NH汚染
比較触媒は、推定内部温度610゜F(321℃)で、NH50および250ppmvに対して、それぞれ、43℃および12℃のくもり点変化を有する全液体生成物を製造した。本発明の触媒は、NH50ppmvに対しては、590゜F(310℃)でくもり点変化18℃を、およびNH250ppmvに対しては、600゜F(316℃)でくもり点変化9℃を有する全液体生成物を製造した。これらの結果に基づいて、比較触媒および本発明の触媒の性能は、汚染物としてのNHの存在下に同等と思われる。しかし、本発明の触媒は、NHへの曝露の後に、より早い回復時間を有した。汚染物が除去された場合には、本発明の触媒は、そのクリーン運転の活性へ殆ど同時に戻り、一方比較触媒は、クリーン運転中に示される活性へ戻るのに、610゜F(321℃)で6日間を要した。
処理の実施例3−HS汚染
比較触媒は、HSを添加した際に、活性の実質的な損失を経験した。HS=5000ppmvの場合には、わずか5℃のくもり点変化が、630゜F(332℃)で得られた。触媒は、くもり点変化34℃を得るのに、温度の更なる増加50゜F(28℃)を必要とした。本発明の触媒については、くもり点変化19℃を、620゜F(327℃)で得た。これは、HSに対する許容性の実質的な増大を強調する。
処理の実施例4−有機窒素汚染
有機窒素(アニリン)50ppmを、原料へ添加し、原料を、推定内部温度630゜F(332℃)で処理し、比較触媒に対して、くもり点変化17℃がもたらされた。本発明の触媒に対しては、くもり点変化32℃を、温度630゜F(332℃)で得た。本発明の触媒は、比較触媒を超えて適度の活性の利点を示した。しかし、本発明の触媒に対する回復時間は、ずっとより短かった。クリーン原料へ曝露した際には、本発明の触媒は、クリーン運転の活性レベルへ約1日で戻った。一方、比較触媒は、クリーン原料を630゜F(332℃)で処理して10日後まで、クリーン運転の活性レベルに戻らなかった。
処理の実施例5−窒素+硫黄
有機窒素56ppmでスパイクされ、かつHS/H=5000ppmvを用いて処理された原料は、本発明の触媒を用いて、くもり点変化34℃を有する生成物を、推定内部温度670゜F(354℃)でもたらした。比較触媒は、HS=5000ppmvのみを用いて、680゜F(360℃、かつ窒素なし)で運転された場合に、単に、くもり点変化34℃を有する全液体生成物もたらすことができたことから、本データは、更に、汚染物に対する本発明の触媒の許容性を示す。
脱ロウ触媒の合成
請求発明で用いるのに適切なモレキュラーシーブの一実施例は、SiO:Al比110未満、好ましくは約70〜約110を有するZSM−48である。次の実施形態においては、ZSM−48結晶は、「合成されたまま」の結晶(依然として、有機テンプレートを含む)、焼成された結晶(Na型ZSM−48結晶など)、または焼成およびイオン交換された結晶(H型ZSM−48結晶など)として、種々に記載されるであろう。
構造指向剤を除去した後のZSM−48結晶は、特定の組織、および次の一般式のモル組成を有する。
(n)SiO:Al
式中、nは、70〜110、好ましくは80〜100、より好ましくは85〜95である。他の実施形態においては、nは、少なくとも70、または少なくとも80、または少なくとも85である。更に他の実施形態においては、nは、110以下、または100以下、または95以下である。更に他の実施形態においては、Siは、Geによって置換されてもよく、およびAlは、Ga、B、Fe、Ti、V、およびZrによって置換されてもよい。
合成されたままの形態のZSM−48結晶を、シリカ、アルミナ、塩基、およびヘキサメトニウム塩指向剤を有する混合物から調製した。実施形態においては、混合物中の構造指向剤:シリカのモル比は、0.05未満、または0.025未満、または0.022未満である。他の実施形態においては、混合物中の構造指向剤:シリカのモル比は、少なくとも0.01、または少なくとも0.015、または少なくとも0.016である。更に他の実施形態においては、混合物中の構造指向剤:シリカのモル比は、0.015〜0.025、好ましくは0.016〜0.022である。実施形態においては、合成されたままの形態のZSM−48結晶は、シリカ:アルミナのモル比70〜110を有する。更に他の実施形態においては、合成されたままの形態のZSM−48結晶は、シリカ:アルミナのモル比少なくとも70、または少なくとも80、または少なくとも85を有する。更に他の実施形態においては、合成されたままの形態のZSM−48結晶は、シリカ:アルミナのモル比110以下、または100以下、少なくとも95以下を有する。合成されたままの形態のZSM−48結晶のいかなる所定の調製についても、モル組成は、シリカ、アルミナ、および指向剤を含むであろう。合成されたままの形態のZSM−48結晶が、合成されたままの形態を調製するのに用いられる反応混合物の反応体のモル比から若干異なるモル比を有してもよいことは、注目されるべきである。この結果は、反応混合物の反応体100%を、(反応混合物から)形成される結晶中に不完全に組込むことにより、生じてもよい。
ZSM−48の組成物を、シリカまたはシリケート塩、アルミナまたは可溶性アルミナ塩、塩基、および指向剤を含む水性反応混合物から調製した。所望の結晶組織を得るためには、反応混合物中の反応体は、次のモル比を有する。即ち、
SiO:Al =70〜110
O:SiO =1〜500
OH:SiO =0.1〜0.3
OH:SiO(好ましい範囲) =0.14〜0.18
テンプレート:SiO =0.01〜0.05
テンプレート:SiO(好ましい範囲) =0.015〜0.025
上記の比率においては、二つの範囲が、塩基:シリカ、および構造指向剤:シリカの両比について提供される。これらの比率のより広い範囲には、いくらかの量のKenyaiteおよび/または針状組織を有するZSM−48結晶の形成をもたらす混合物が含まれる。Kenyaiteおよび/または針状組織が望まれない場合については、好ましい範囲が用いられるべきである。これは、更に、次に実施例で示される。
シリカ素材は、好ましくは沈殿シリカであり、Degussaから商業的に入手可能である。他のシリカ素材には、沈澱シリカ(Zeosil(登録商標)およびシリカゲルなど)を含む粉末シリカ、ケイ酸コロイドシリカ(Ludox(登録商標)など)、または溶解シリカが含まれる。塩基の存在下では、これらの他のシリカ素材は、シリケートを形成してもよい。アルミナは、可溶性塩、好ましくはナトリウム塩の形態であってもよく、US Aluminateから商業的に入手可能である。他の適切なアルミニウム素材には、他のアルミニウム塩(塩化物など)、アルミニウムアルコレート、または水和アルミナ(ガンマアルミナ、プソイドベーマイト、およびコロイドアルミナなど)が含まれる。金属酸化物を溶解するのに用いられる塩基は、いかなるアルカリ金属水酸化物でもあることができる。好ましくは水酸化ナトリウムまたはカリウム、水酸化アンモニウム、ジ第四級水酸化物などである。指向剤は、ヘキサメトニウム塩である。二塩化ヘキサメトニウムまたは水酸化ヘキサメトニウムなどである。アニオン(塩化物以外)は、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、他のハロゲン化物等などの他のアニオンであることができるであろう。二塩化ヘキサメトニウムは、二塩化N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,6−ヘキサンジアンモニウムである。
実施形態においては、本発明の合成から得られる結晶は、繊維状組織を含まない組織を有する。繊維状組織は、この結晶の組織がZSM−48の接触脱ロウ活性を阻害することから、望ましくない。他の実施形態においては、本発明の合成から得られる結晶は、低い比率の針状組織を含む組織を有する。ZSM−48結晶中に存在する針状組織の量は、10%以下、または5%以下、または1%以下であることができる。別の実施形態においては、ZSM−48結晶は、針状組織を含まないことができる。少量の針状結晶は、針状結晶がいくつかのタイプの反応に対してZSM−48の活性を低減すると考えられることから、いくつかの用途には好ましい。所望の組織を高純度で得るためには、本発明の実施形態の反応混合物におけるシリカ:アルミナ、塩基:シリカ、および指向剤:シリカの比率が、用いられるべきである。加えて、Kenyaiteを含まないおよび/または針状組織を含まない組成が望まれる場合には、好ましい範囲が、用いられるべきである。
合成されたままのZSM−48結晶は、使用前、または更なる処理の前に、少なくとも部分的に乾燥されるべきである。乾燥は、温度100〜400℃、好ましくは100〜250℃で加熱することによって達成されてもよい。圧力は、大気圧または準大気圧であってもよい。乾燥が部分減圧条件下で行われる場合には、温度は、大気圧におけるものより低くてもよい。
触媒は、典型的には、使用前に結合剤または母材物質と結合される。結合剤は、所望される用途の温度に対して耐性があり、かつ摩耗耐性がある。結合剤は、触媒的に活性であるか、または不活性であってもよく、これには、他のゼオライト、他の無機物質(クレーなど)、および金属酸化物(アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、およびシリカ−アルミナなど)が含まれる。クレーは、カオリン、ベントナイト、およびモンモリロナイトであってもよく、商業的に入手可能である。それらは、シリケートなどの他の物質とブレンドされてもよい。他の多孔質母材物質には、シリカ−アルミナに加えて、他の二元物質(シリカ−マグネシア、シリカ−トリア、シリカ−ジルコニア、シリカ−ベリリア、およびシリカ−チタニアなど)、並びに三元物質(シリカ−アルミナ−マグネシア、シリカ−アルミナ−トリア、およびシリカ−アルミナ−ジルコニアなど)が含まれる。母材は、共ゲルの形態であることができる。結合ZSM−48は、結合ZSM−48を基準として、ZSM−48=10〜100wt%の範囲であってもよく、残りは結合剤である。
触媒の一部としてのZSM−48結晶はまた、金属水素添加成分と共に用いられてもよい。金属水素添加成分は、周期律表(第1〜18族を有するIUPAC系に基づく)の第6〜12族からのものである。好ましくは第6および8〜10族である。これらの金属の例には、Ni、Mo、Co、W、Mn、Cu、Zn、Ru、Pt、またはPdが含まれる。好ましくはPtまたはPdである。水素添加金属の混合物がまた、用いられてもよい。Co/Mo、Ni/Mo、Ni/W、およびPt/Pdなどである。好ましくはPt/Pdである。水素添加金属の量は、触媒を基準として、0.1〜5wt%の範囲であってもよい。実施形態においては、金属の量は、少なくとも0.1wt%、または少なくとも0.25wt%、または少なくとも0.5wt%、または少なくとも0.6wt%、または少なくとも0.75wt%である。他の実施形態においては、金属の量は、5wt%以下、または4wt%以下、または3wt%以下、または2wt%以下、または1wt%以下である。金属をZSM−48触媒上に充填する方法は周知であり、これには、例えば、水素添加成分の金属塩を用いるZSM−48触媒の含浸および加熱が含まれる。水素添加金属を含むZSM−48触媒はまた、使用前に硫化されてもよい。触媒はまた、使用前にスチーミングされてもよい。
上記の実施形態に従って作製される高純度ZSM−48結晶は、比較的低いシリカ:アルミナ比を有する。このより低いシリカ:アルミナ比は、本触媒がより酸性であることを意味する。この増大された酸性度にもかかわらず、それらは、優れた活性および選択性、並びに優れた収率を有する。それらはまた、結晶形態による健康への影響の観点から、環境的利点を有し、かつ小さな結晶サイズはまた、触媒活性にとって有利である。
ZSM−23を組込んだ本発明の触媒については、SiO:Alの低い比率を有するZSM−23を製造するためのいかなる適切な方法も用いられてもよい。特許文献1は、SiO:Alの低い比率を有するZSM−23を製造するための適切な合成方法の例を提供する。例えば、ZSM−23を調製するのに適切な指向剤は、イミノビスプロピルアミンを、ヨードメタンの過剰を用いてメチル化することによって形成されることができる。メチル化は、ヨードメタン液滴をイミノビスプロピルアミン(無水エタノール中で溶媒和される)へ添加することによって達成される。混合物は、還流温度77℃へ18時間加熱される。得られる固体生成物は、ろ過され、無水エタノールで洗浄される。
上記方法によって製造された指向剤は、次いで、コロイドシリカゾル(SiO=30%)、アルミナの素材、アルカリカチオン(NaまたはKなど)の素材、および脱イオン水と混合されて、ヒドロゲルが形成されることができる。アルミナの素材は、いかなる好都合な素材でもあることができる。硫酸アルミナまたはアルミン酸ナトリウムなどである。溶液は、次いで、結晶化温度(170℃など)へ加熱され、得られたZSM−23結晶は乾燥される。ZSM−23結晶は、次いで、低表面積の結合剤と組合されて、本発明の触媒が形成されることができる。
触媒実施例1−0.6wt%Pt(IW)担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO
ZSM−48(90/1)65%およびチタニア35%を、1/16インチ(0.16cm)の四葉体へ押出し成形した。押出し成形物を、N中1000゜F(538℃)で予備焼成し、1N硝酸アンモニウムを用いてアンモニウム交換し、次いで250゜F(121℃)で乾燥し、引続いて空気中1000゜F(538℃)で焼成した。押出し成形物を、次いで白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。表1は、N多孔度分析法による押出し成形物の表面積を示す。
バッチ式マイクロオートクレーブシステムを、上記触媒の活性を決定するのに用いた。触媒を、水素下に還元し、引続いて130N原料(くもり点31℃)2.5gを添加した。反応を、400psig330℃で12時間運転した。くもり点を、二種の原料空間速度に対して決定した。結果を、表2に示す。
触媒例2(比較)−0.6wt%Pt(IW)担持65/35ZSM−48(90/1)/Al
ZSM−48(90/1)65%およびAl35%を、1/16インチ(0.16cm)の四葉体へ押出し成形した。押出し成形物を、N中1000゜F(538℃)で予備焼成し、1N硝酸アンモニウムを用いてアンモニウム交換し、次いで250゜F(121℃)で乾燥し、引続いて空気中1000゜F(538℃)で焼成した。押出し成形物を、次いでスチーミング(890゜F(477℃)で3時間)した。押出し成形物を、次いで白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。表1は、N多孔度分析法による押出し成形物の表面積を示す。
バッチ式マイクロオートクレーブシステムを、上記触媒の活性を決定するのに用いた。触媒を、水素下に還元し、引続いて130N原料2.5gを添加した。反応を、400psig(2.8MPag)330℃で12時間運転した。くもり点を、二種の原料空間速度に対して決定した。結果を、表2に示す。
触媒実施例3−0.6wt%Pt(IW)担時80/20ZSM−48(90/1)/SiO
ZSM−48(90/1)80%およびSiO20%を、1/16インチ(0.16cm)の四葉体へ押出し成形した。押出し成形物を、N中1000゜F(538℃)で予備焼成し、1N硝酸アンモニウムを用いてアンモニウム交換し、次いで250゜F(121℃)で乾燥し、引続いて空気中1000゜F(538℃)で焼成した。押出し成形物を、次いで白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。表1は、N多孔度分析法による押出し成形物の表面積を示す。
バッチ式マイクロオートクレーブシステムを、上記触媒の活性を決定するのに用いた。触媒を、水素下に還元し、引続いて130N2.5gを添加した。反応を、400psig(2.8MPag)330℃で12時間運転した。くもり点を、二種の原料空間速度について決定した。結果を、表2に示す。
触媒実施例4−0.6wt%Pt(IW)担持65/35ZSM−48(90/1)/θ−アルミナ
プソイドベーマイトアルミナを、1000℃で焼成して、それが、より低表面積のθ相へ転化された。これは、上記例2における結合剤として用いられたγ相アルミナに比較された。ZSM−48(90/1)65%および焼成されたアルミナ35%を、0.25%PVAを用いて、1/16インチ(0.16cm)の四葉体へ押出し成形した。押出し成形物を、N中950゜F(510℃)で予備焼成し、1N硝酸アンモニウムを用いてアンモニウム交換し、次いで250゜F(121℃)で乾燥し、引続いて空気中1000゜F(538℃)で焼成した。押出し成形物を、次いで白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。表1は、N多孔度分析法による押出し成形物の表面積を示す。
バッチ式マイクロオートクレーブシステムを、上記触媒の活性を決定するのに用いた。触媒を、水素下に還元し、引続いて130N2.5gを添加した。反応を、400psig(2.8MPag)330℃で12時間運転した。くもり点を、二種の原料空間速度に対して決定した。結果を、表2に示す。
触媒実施例5−0.6wt%Pt(IW)担持65/35ZSM−48(90/1)/ジルコニア
ZSM−48(90/1)65%およびジルコニア35%を、1/16インチ(0.16cm)の四葉体へ押出し成形した。押出し成形物を、N中1000゜F(538℃)で予備焼成し、1N硝酸アンモニウムを用いてアンモニウム交換し、次いで250゜F(121℃)で乾燥し、引続いて空気中1000゜F(538℃)で焼成した。押出し成形物を、次いで白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。表1は、N多孔度分析法による押出し成形物の表面積を示す。
バッチ式マイクロオートクレーブシステムを、上記触媒の活性を決定するのに用いた。触媒を、水素下に還元し、引続いて130N2.5gを添加した。反応を、400psig(2.8MPag)330℃で12時間運転した。くもり点を、二種の原料空間速度に対して決定した。結果を、表2に示す。
Figure 0005690742
表1は、実施例1、3、4、および5からの触媒は全て、少なくともおよそ、外表面積に同等であるゼオライト表面積を有することを示す。
Figure 0005690742
表2において、値−45は、くもり点を測定するのに用いられる機器について、測定範囲の下端を表すことを注目されたい。星印で示されるくもり点測定値は、処理された原料の実際のくもり点値よりむしろ、機器の検知限界を表すと考えられる。表2に示されるように、外表面積に少なくともおよそ同等のゼオライト表面積を有する触媒は全て、空間速度略0.75h−1で、最低の検知可能くもり点を有する生成物を製造した。対照的に、例2からの、より高い外表面積を有する触媒は、空間速度略0.75h−1で、くもり点単に−26℃をもたらした。例2の触媒を形成するのに用いられたアルミナはまた、高表面積の結合剤に対応することを注目されたい。より高い空間速度約1.0h−1では、低表面積の結合剤の触媒は全てまた、良好な結果を示した。
触媒例6(比較例)−高シリカ/アルミナ比を有する水素化脱ロウ触媒
更なる触媒評価を、高シリカ/アルミナ比のゼオライトを有する比較触媒に関して行なった。0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(180/1)/TiOの触媒を、次の手順に従って調製した。対応する試料をまた、TiOの代わりに、Alを用いて調製した。これは、0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(180/1)/Alの触媒をもたらした。
ZSM−48(Si/Al=180/1)65%およびチタニア35%(50g)からなる押出し成形物を、白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、十分な空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。表1に上記に示されるように、TiO結合剤は、ゼオライト表面積/外表面積の高い比率を有する処方触媒をもたらす。TiO結合剤はまた、Al結合剤より低い酸性度をもたらす。
上記の二種の触媒を、130Nラフィネートを模するように設計された多成分モデル配合物系に対して、水素化脱ロウ実験に用いた。多成分モデル原料を、n−ヘキサデカン40%/デカリン溶剤から作製し、ジベンゾチオフェン(DBT)0.5%、およびキノリンでN100ppm(HDS/HDNを観察するためのバルクS、N種)が添加された。原料系を、実ワックス質原料組成物を模擬するように設計した。
水素化脱ロウ検討を、連続触媒試験装置を用いて行なった。これは、ISCOシリンジポンプ付き液体供給システム、三域加熱炉付き固定床管状反応器、液体生成物回収装置、およびガス分析用オンラインMTI GCから構成された。典型的には、触媒10cmを、分粒し、ダウンフロー型3/8インチ(0.95cm)ステンレス鋼反応器(1/8インチ(0.32cm)熱電対を含む)に充填した。装置を圧力試験した後、触媒を、周囲圧力で、N250cm/分を用いて300℃で2時間乾燥した。触媒を、次いで、水素還元によって還元した。触媒の処理が完了した後、反応器を、150℃へ冷却し、装置の圧力を、背圧制御装置を調整することによって、600psig(4.1MPag)へ設定し、ガス流を、NからHへ切替えた。液体原料材を、反応器に、液空間速度(LHSV)1で導入した。液体原料が下流のノックアウトポットに達するや、反応器温度を、目標値へ昇温した。物質収支を、装置が6時間ラインアウトするまで開始した。全液体生成物を、物質収支ドロップアウトポットに回収し、FID付きHP5880ガスクロマトグラフ(GC)によって分析した。詳細な芳香族成分の転化率および生成物を、GC分析によって同定および計算した。ガス試料を、TCDおよびFIDの両検出器を装備されたオンラインHP MTI GCを用いて分析した。一連の運転を、行なって、触媒活性/生成物性状が、プロセス温度の関数として理解された。
全ての触媒を、10cmの量で反応器に充填し、実施例8に記載される運転手順を、次の条件で用いて評価した。即ち、T=270〜380℃、P=600psig(4.1MPag)、液体速度=10cm/h、H循環速度=2500scf/バレル(420Nm/m)、およびLHSV=1h―1であった。
n−ヘキサデカン(n−C16)の異性化活性、および収率を、図1および2に要約する。図1は、アルミナ結合(より高い表面積の)触媒について、n−C16転化率およびiso−C16収率の関係を、クリーン原料およびスパイク原料に対して示す。図2は、チタニア結合(より低い表面積の)触媒について、類似の関係を示す。一般に、より高いおよびより低い表面積の結合剤を有する触媒は、類似の転化効率を示す。低表面積の触媒(図2)は、より高い表面積の触媒に比較して、収率に関して、若干より低い転化効率を有する。これらの原料のそれぞれについて、所定のnC16転化率レベルを達成するのに必要な温度は、二種のタイプの触媒について類似であった。
図1および2は、請求発明の利点が、低表面積の結合剤をいかなる脱ロウ触媒と共に用いることによって、単純に達成されることができないことを示す。クリーン原料、または硫黄および窒素の一種以上を含む原料へ曝露された場合に、高シリカ/アルミナ比を有する脱ロウ触媒は、より高い表面積の結合剤に比較して、低表面積の結合剤を用いて処方された場合には、類似の、または恐らくは低減さえされた活性を示した。
触媒例7−130N原料を用いる0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiOによる水素化脱ロウ
この実施例は、(0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO:対応するアルミナ−結合(より高い外表面積の)触媒)の触媒性能を、130Nラフィネートを用いて示す。
ZSM−48(Si/Al=90/1)65%およびTiO35%(30g)を、白金硝酸テトラアンモンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、十分な空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。対応する試料をまた、TiOの代わりに、Alを用いて調製した。
触媒を、10cmの量で反応器に充填し、実施例6に記載される運転手順を、次の条件で用いて評価した。即ち、T=330〜380℃、P=400psig(2.8MPag)、液体速度=5cm/h、H循環速度=5000scf/バレル(850Nm/m)、およびLHSV=0.5h―1であった。触媒を、N=66wppmおよびS=0.63wt%を含む130Nラフィネートへ曝露した。
図3は、0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO触媒、および対応するアルミナ結合触媒の相対触媒活性を示す。130Nラフィネート原料に対して、対応するアルミナ結合触媒と比較して、0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO触媒は、20℃の温度利点(即ち、20℃より低い温度でより活性である)を、所定の生成物流動点で示した。図3はまた、半分の窒素含有量を有する130Nラフィネートに対するデータを示すことを注目されたい。これは、0.6wt%Ptを有する65/35ZSM−48(90/1)/Alを用いて水素処理された(これは、実施例6からのアルミナ結合触媒である)。2倍の窒素含有量においてさえ、より低い表面積の0.6wt%Ptを有する65/35ZSM−48(90/1)/TiO触媒は、実質的な活性評価を達成した。
低表面積、シリカ対アルミナの低い比率の触媒の利点を更に示すために、図4は、0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO触媒、および対応するアルミナ結合触媒について、TIRプロットを示す。TIRプロットは、0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO触媒の老化速度が、対応するアルミナ結合触媒の0.69℃/日に比較して、0.624℃/日であったことを示す。従って、窒素リッチ原料へ曝露される場合には、低表面積および低(シリカ/アルミナ)比の触媒は、活性の向上およびより長い活性寿命の両方をもたらす。
図5は、0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO触媒、および図3に示される二つのアルミナ結合触媒について、潤滑油収率を示す。0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiOは、対応するアルミナ結合(より高い表面積の)触媒と同じ潤滑油収率を示す。より低いおよびより高い表面積の触媒に対する(VI:流動点)の関係はまた、類似である。0.6wt%Pt担持65/35ZSM−48(90/1)/TiO触媒、および対応するアルミナ結合触媒は、より高いシリカ/アルミナ比の触媒に比較して、向上された流動点:収率の関係を示したことを注目されたい。
実施例8−混合結合剤系
この実施例は、低表面積の結合剤の利点が、混合結合剤系に対して実現されることができ、その際大部分の結合材は、低表面積の結合剤であることを示す。
ZSM−48(Si/Al=90/1)65%および混合結合剤35%からなる押出し成形物を、白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、十分な空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。押出し成形物中の結合剤35%は、アルミナ(より高い表面積)20wt%およびチタニア(より低い表面積)15wt%から構成された。
ZSM−48(Si/Al=90/1)65%および混合結合剤35%からなる第二の押出し成形物をまた、白金硝酸テトラアンミンを用いる初期湿潤含浸によって、0.6wt%Ptで充填し、250゜F(121℃)で乾燥し、十分な空気中680゜F(360℃)で3時間焼成した。第二の押出し成形物においては、結合剤35%は、チタニア(より低い表面積)25wt%およびアルミナ(より高い表面積)10wt%から構成された。
上記触媒の活性を、バッチ式オートクレーブシステムで試験した。アルミナ20wt%およびチタニア15wt%の結合剤を有する触媒について、触媒208.90mgおよび71.19mgを、別々のウェル内に充填し、水素下に還元し、引続いて600N原料材(130N原料に類似のNおよびSレベルを有した)2.5gを添加した。「空間速度」は、それぞれ、1.04h−1および3.03h−1であった。反応を、400psig(2.8MPag)345℃で12時間運転した。全液体生成物について得られたくもり点は、1.03WHSVで−18℃、および3.09WHSVで21℃であった。
チタニア25wt%およびアルミナ10wt%の結合剤を有する触媒について、触媒212.57mgおよび69.75mgを、別々のウェル内に充填し、水素下に還元し、引続いて600N原料材(130N原料に類似のNおよびSレベルを有した)2.5gを添加した。「空間速度」は、それぞれ、1.02h−1および3.10h−1であった。反応を、400psig(2.8MPag)345℃で12時間運転した。全液体生成物について得られたくもり点は、1.03WHSVで−45℃(くもり点装置の検知限界)、および3.09WHSVで3℃であった。
上記の活性試験は、上記実施例1〜5からの結果に類似する。大部分の高表面積の結合剤から構成される結合剤を含む触媒は、例2の高表面積の結合剤を有する触媒に対して、類似に挙動した。大部分の低表面積の結合剤を有する触媒は、更により活性な触媒をもたらした。これは、上記の実施例1、および3〜5に見られる。

Claims (16)

  1. ディーゼル燃料を製造する方法であって、
    硫黄少なくとも500vppmを含むディーゼル沸点範囲原料材を、効果的な水素化条件下に水素化する工程、および
    水素化した前記原料材の少なくとも一部を、脱ロウ触媒の存在の下、効果的な接触脱ロウ条件下に水素化脱ロウする工程
    を含み、
    前記脱ロウ触媒は、100以下のSiO:Al比を有するモレキュラーシーブ、金属酸化物結合剤および金属水素化成分を含み、
    前記モレキュラーシーブは、ZSM−48、ZSM−23またはそれらの組み合わせから選ばれ、
    前記金属酸化物結合剤は、80m/g以下の表面積を有し、かつチタニア、シリカまたはジルコニアから選ばれ、
    前記脱ロウ触媒は、ゼオライト表面積対外表面積の比率が少なくとも80:100であり、
    前記効果的な水素化条件は、温度315〜425℃、圧力300〜3000psig(2.1〜20.7MPag)、液空間速度(LHSV)0.2〜10h−1および水素処理ガス比500〜10000scf/バレル(85〜1690Nm/m)を含み、
    前記効果的な接触脱ロウ条件は、温度280〜380℃、圧力300〜3000psig(2.1〜20.7MPag)、LHSV0.1〜5.0h−1および処理ガス比500〜5000scf/バレル(85〜850Nm/m)を含む、
    ことを特徴とするディーゼル燃料の製造方法。
  2. 脱ロウし、水素化した前記原料材を、効果的な水素化条件下に水素化する工程を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 水素化した前記原料材を、液体流出物およびガス相部分に分離する工程を更に含み、
    水素化した前記原料材の少なくとも一部を脱ロウする工程は、前記液体流出物を脱ロウする工程を含む
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 水素化した前記原料材を、液体流出物およびガス相部分に分離する工程は、前記液体流出物をストリッピングする工程を含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。
  5. 水素化した前記原料材は、前記脱ロウ工程へ、中間分離なしにカスケードされることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  6. 前記モレキュラーシーブは、一次元10員環細孔を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
  7. 前記モレキュラーシーブは、ZSM−48であることを特徴とする請求項に記載の方法。
  8. 前記SiO:Alの比は、80以下であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  9. 前記SiO:Alの比は、75以下であることを特徴とする請求項に記載の方法。
  10. 前記SiO:Alの比は、60以下であることを特徴とする請求項に記載の方法。
  11. 粉末形態の前記金属酸化物結合剤は、60m/g以下の表面積を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
  12. 前記脱ロウ触媒は、ゼオライト表面積対外表面積の比率が少なくとも90:100であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  13. 前記脱ロウ触媒は、ゼオライト表面積対外表面積の比率が少なくとも1:1であることを特徴とする請求項12に記載の方法。
  14. 前記脱ロウ触媒は、ゼオライト表面積対外表面積の比率が少なくとも105:100であることを特徴とする請求項13に記載の方法。
  15. 前記結合剤は、第一の金属酸化物と異なる第二の金属酸化物を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  16. 前記第二の金属酸化物は、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアまたはシリカ−アルミナであることを特徴とする請求項15に記載の方法。
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