JP5656638B2 - エポキシ化合物とアミノシランの反応産物を含有するパーソナルケア組成物 - Google Patents
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Description
本出願は2007年11月2日に出願された米国仮特許出願連続番号60/984,753への優先権を主張する。
本発明は、エポキシ化合物とアミノシランとの反応産物として形成される新規のコポリマーに関する。
a)少なくとも二つのオキシランもしくはオキセタン基を含有するオキシランもしくはオキセタン化合物と
b)式:N(H)(R1)R2Si(OR3)3−a−b−c(OR4)a(R5Si(OR6)d(R7)e)bR8 c
〔式中、R1は、H、または1から20個の炭素原子からなる、一価の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R2は、1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R4は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり;
R5は、酸素、または1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ、1から200個の炭素原子を持つ一価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択され;
下付文字bはゼロもしくは正の数字であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字aはゼロもしくは3未満の正の数であり、下付文字bおよびcはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の数を持ち、ただし(a+b+c)≦3という限定に従い;
下付文字dおよびeはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち、ただし(d+e)=3という限定に従う〕を持つアミノシランとの反応産物を含有する組成物を提供し、ここで、髪は前記パーソナルケア組成物によって処理され、前記髪は水に対して疎水性の反応を持つか、またはヒトの皮膚が前記パーソナルヘア組成物によって処理され、前記皮膚は水に対する改善された反応性を示す。
a)少なくとも二つのオキシランもしくはオキセタン基を含有するオキシランもしくはオキセタン化合物と
b)式:N(H)(R1)R2Si(OR3)3−a−b−c(OR4)a(R5Si(OR6)d(R7)e)bR8 c
〔式中、R1は、H、または1から20個の炭素原子からなる、一価の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R2は、1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R4は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり;
R5は、酸素、または1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ、1から200個の炭素原子を持つ一価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択され;
下付文字bはゼロもしくは正の数字であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字aはゼロもしくは3未満の正の数であり、下付文字bおよびcはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の数を持ち、ただし(a+b+c)≦3という限定に従い;
下付文字dおよびeはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち、ただし(d+e)=3という限定に従う〕を持つアミノシランとの反応産物を含有する組成物を提供し、ここで、髪は前記パーソナルケア組成物によって処理され、前記髪は水に対して疎水性の反応を持つか、またはヒトの皮膚が前記パーソナルヘア組成物によって処理され、前記皮膚は水に対する改善された反応性を示す。
本発明は、オキシランもしくはオキセタン化合物がシロキサン、炭化水素およびポリエーテルからなる群より選択されるような反応産物組成物をさらに提供し、特にここでオキシランもしくはオキセタン化合物が式:
MfME hMPE iMH jDkDE lDPE mDH nToTE pTPE qTH rQs
〔式中、
M=R9R10R11SiO1/2;
MH=R12R13HSiO1/2;
MPE=R12R13(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO1/2;
ME=R12R13(RE)SiO1/2;
D=R18R19SiO2/2;および
DH=R20HSiO2/2;
DPE=R20(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO2/2;
DE=R20RESiO2/2;
T=R21SiO3/2;
TH=HSiO3/2;
TPE=(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO3/2;
TE=RESiO3/2;および
Q=SiO4/2;
であり、ここでR9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21はそれぞれ独立して1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルの群より選択され;
R14はHまたは1から6個の炭素原子のアルキル基であり;
R15は1から6個の炭素の二価のアルキルラジカルであり;
R16は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
R17は、H、1から6個の炭素の単官能性の炭化水素ラジカルもしくはアセチルであり;
REは、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
下付文字fはゼロもしくは正であり、下付文字fがゼロであるときhが正である必要があるという制限に従い;
下付文字hはゼロもしくは正であり、hがゼロであるとき、下付文字fが正である必要があるという制限に従い、そして下付文字h、lおよびpの合計はは正であるという制限に従い;
下付文字kはゼロもしくは正であり、そして約0から約1,000の範囲の値を持ち;
下付文字lはゼロもしくは正であり、そして約0から約400の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計が正であるという制限に従い;
下付文字oはゼロもしくは正であり、そして0から約50の範囲の値を持ち;
下付文字pはゼロもしくは正であり、そして0から約30の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字sはゼロもしくは正であり、そして0から約20の範囲の値を持ち;
下付文字iはゼロもしくは正であり、そして0から約20の範囲の値を持ち;
下付文字mはゼロもしくは正であり、そして0から約200の範囲の値を持ち;
下付文字qはゼロもしくは正であり、そして0から約30の範囲の値を持ち;
下付文字jはゼロもしくは正であり、そして0から約2の範囲の値を持ち;
下付文字nはゼロもしくは正であり、そして0から約20の範囲の値を持ち;
下付文字rはゼロもしくは正であり、そして0から約30の範囲の値を持ち;
下付文字tはゼロもしくは1であり;
下付文字uはゼロもしくは1であり;
下付文字vはゼロもしくは正であり、0から約100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字wはゼロもしくは正であり、そして0から約100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字xはゼロもしくは正であり、そして0から約100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従う〕を持つシロキサンであるか、または代替的にここでオキシランもしくはオキセタン化合物は式:
R22 y(R23)z(R24 α)(R25)β
〔式中、R22およびR25は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R23およびR24は、H、または1から200個の炭素の、直鎖のもしくは分岐の、一価の炭化水素ラジカルからなる群よりそれぞれ選択され;
下付文字y、z、α、βはゼロもしくは正であり、ゼロから4の範囲であり、(y+β)>2という制限に従う〕を持つ炭化水素であるか、または代替的にここでオキシランもしくはオキセタン化合物は式:
R26O(R27)γ(C2H4O)δ(C3H6O)ε(C4H8O)ζR28
〔式中、R26およびR28は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R27は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
下付文字γはゼロもしくは1であり;
下付文字δはゼロもしくは正であり、そして0から約100の範囲の値を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字εはゼロもしくは正であり、そして0から約100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字ζはゼロもしくは正であり、そして0から約100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従う〕を持つポリエーテルである。
式:
R29(R30)κSi(OR31)3−η−θ(R32)η(OR33)θ
〔式中、R29は、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R30は、1から60個の炭素からなる二価の炭化水素ラジカルであり、そして下付文字κはゼロもしくは1の値を持ち;
R31およびR32は、独立して、1から60個の炭素原子を持つ、一価の、直鎖もしくは分岐の炭化水素ラジカルの群より選択され;
下付文字ηはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字θは0よりも大きく、そして3より小さいかもしくは3と等しく、3−η−θはゼロより大きいかもしくはゼロと等しいという条件に従い;
R33は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである〕を持つ化合物の反応産物をさらに含有する、エポキシ化合物およびアミノシランの反応産物を提供する。
オキシランもしくはオキセタン化合物とアミノ含有化合物との反応において、オキシランもしくはエポキシ基のアミノ基に対するモル比は、好ましくは約1から約4であり、より好ましくは約1.1よりも大きくそして約3.9よりも小さく、そしてもっとも好ましくは約1.2よりも大きく、そして約3.8よりも小さい。R1は好ましくは1から約10の炭素原子もしくは水素の、より好ましくは1から約5の炭素原子もしくは水素の一価の炭化水素ラジカルであり、もっとも好ましくはR1はHである。R2は好ましくは1から約10の炭素原子の、より好ましくは2から約8の炭素原子の、そしてもっとも好ましくは3から約5の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルである。R4は好ましくは3から約10の炭素原子の、より好ましくは3から約8の炭素原子の、もっとも好ましくは3から約5の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルである。R3、R6、R7およびR8はそれぞれ好ましくは1から約20の炭素原子の、より好ましくは1から約15の炭素原子の、そしてもっとも好ましくは2から約8の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルである。下付文字aは0から約3の、好ましくは約1から約3の、より好ましくは約2から約3の、もっとも好ましくは0から約1の範囲にある。下付文字bは0から約25の、より好ましくは0から約15の範囲にあり、そしてもっとも好ましくは3である。下付文字cは0から約3の、より好ましくは0から約2の、そしてもっとも好ましくは0から約1の範囲にある。R9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21はそれぞれ、好ましくは1から約4の炭素原子の、より好ましくは1から約3の炭素原子の、そしてもっとも好ましくは1の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルである。下付文字f、l、m、n、o、p、q、r、sはそれぞれ0から約200の、より好ましくは0から約100の、そしてもっとも好ましくは0から約50の範囲である。下付文字kは、0から約500の、より好ましくは5から約250の、そしてもっとも好ましくは5から約150の範囲にある。下付文字v、wおよびxはそれぞれ、0から約50の、より好ましくは0から約35の、そしてもっとも好ましくは0から約25の範囲にある。R23およびR24はそれぞれ、好ましくは5から約100の炭素原子の、より好ましくは10から約500の炭素原子の、そしてもっとも好ましくは10から約300の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルである。下付文字δ、ε、ζは0から約50の、より好ましくは0から約30の、そしてもっとも好ましくは0から約15の範囲にある。R31およびR32はそれぞれ、好ましくは1から約10の炭素原子の、より好ましくは1から約8の炭素原子の、そしてもっとも好ましくは1から約4の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルである。R33は、好ましくは3から約100の炭素原子の、より好ましくは3から約50の炭素原子の、もっとも好ましくは3から約10の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルである。
A、すなわち分子当たり二つもしくはそれ以上のオキシランもしくはオキセタンを含有するオキシランもしくはオキシタン化合物と、B、すなわちアミノシランとの反応による産物は、ポリマー鎖へと共有結合するアルコキシシラン官能性部分を含有するポリマーをもたらす。それらのアルコキシシラン基は特に加水分解によって活性化され、架橋ネットワークを導くさらなる反応を起こす。シランの架橋のメカニズムは通常2ステップのプロセスである。第一のステップは通常シラノールを形成するアルコキシシランの加水分解を含む。第二のステップはそれ自身で作られるシラノール基の縮合もしくは他の反応性有機基との縮合を含む。二つのシラノール基の間の反応は熱的に安定なシロキサン結合を導く。シラノール基はまた、アルコール、カルボン酸、アミン、メルカプタンおよびケトン(他の反応性基)のような有機部分と可逆的に縮合し得る。形成される結合はシロキサン結合よりも安定性が低い。しかしながら架橋ネットワークが形成されると逆反応は大幅に減少するかもしくは止まりさえもする。
1)不連続相が水を含有し、そして連続相が本発明の組成物を含有する水性エマルション;
2)不連続相が本発明の組成物を含有し、そして連続相が水を含有する水性エマルション;
3)不連続相が非水性ヒドロキシ溶媒を含有し、そして連続相が本発明の組成物を含有する非水性エマルション;そして、
4)連続相が非水性ヒドロキシ有機溶媒を含有し、そして不連続相が本発明の組成物を含有する非水性エマルション、
のようであろう。
疎水性
本発明の反応産物のヘアトレス(hair tress)への塗布および硬化に際して、生じる処理された物質は、米国特許第6846333B2の第4カラム16行目から24行目に記載されるような接触角技術が用いられるとき、80°より大きい、より好ましくは85°より大きい、そしてもっとも好ましくは90°より大きい水の接触角を示す。
疎水性
本発明の反応産物のヒトの皮膚への塗布および硬化に際して、生じる処理されたヒトの皮膚は、ASTM D5725−99が実施されるとき、60°より大きい、そしてもっとも好ましくは65°より大きい水の接触角を示す。
本発明の反応産物のヒトの皮膚への塗布および硬化に際して、生じる処理されたヒトの皮膚は、ASTM D5725−99が実施されるとき、40°より小さい、そしてもっとも好ましくは35°より小さい水の接触角を示す。
より好ましい実施態様において、本発明のエポキシアミノシランコポリマーは、100重量部(「pbw」)のパーソナルケア用組成物につき、0.01から99pbwまで、より好ましくは0.5pbwから30pbwまで、そしてさらに好ましくは1から15pbwまでの本発明の組成物を含有し、そして0.01pbwから99.9pbwまで、より好ましくは70pbwから99.5pbwまで、そしてさらに好ましくは85pbwから99pbwまでのパーソナルケア組成物を含有する。
a)不連続相が水を含有し、そして連続相が本発明のエポキシアミノシランコポリマーを含有する水性エマルション;
b)不連続相が本発明のエポキシアミノシランコポリマーを含有し、そして連続相が水を含有する水性エマルション;
c)不連続相が非水性ヒドロキシ溶媒を含有し、そして連続相が本発明のエポキシアミノシランコポリマーを含有する非水性エマルション;そして、
d)連続相が非水性ヒドロキシ有機溶媒を含有し、そして不連続相が本発明のエポキシアミノシランコポリマーを含有する非水性エマルション、
のようであろう。
i) 水性の極相において、ポリマーを分散するステップ、好ましくは、ポリマーをこの水性相中で界面活性剤とマイクロエマルション化するステップ。界面活性剤は非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性の界面活性剤、またはそれらの界面活性剤の混合物である。
ii) 水性の分散体もしくはマイクロエマルションを、スプレー、クリーム、ムース、O/Wエマルション、W/Oエマルション、リンスオフ製品の形態において髪もしくは皮膚へと適用するステップ、
iii) 室温で外気によってかもしくは加熱を含む手段によって髪もしくは皮膚を乾燥させるステップ
を含有する。
ホームケアの用途は、洗濯洗剤および繊維柔軟剤、食器用洗剤、木材用および家具用光沢剤、床磨き剤、浴槽およびタイルの洗浄剤、便器洗浄剤、硬表面洗浄剤、窓用洗浄剤、曇り止め剤、配水管洗浄剤、自動食器洗浄機用洗剤および水切り剤(sheeting agent)、カーペット用洗浄剤、予洗染み抜き剤、さび洗浄剤および湯あか除去剤を含む。
この有機修飾シリル化界面活性剤の発明の組成物は、油およびガスの利用に有用であり、これは抗乳化(demulsification)を含む。
有機修飾シリル化界面活性剤の発明を含有する組成物は、商業用および工業用の開放再循環冷却水塔、閉鎖冷却水装置、冷却水導管、熱交換器、凝縮器、非循環型冷却装置、殺菌機、空気清浄機、熱交換装置、空調設備/増湿装置/除湿機、静水調理器具、安全水および/または防火水の貯蔵装置、水を使った有害ガスの浄化装置、廃水圧入井、ろ過および清澄器を含む流入水浄化装置、排水処理、排水処理タンク、導管、ろ過池、蒸解がま、清澄器、溜池、沈砂池、用水路、悪臭防止、イオン交換樹脂床、膜ろ過、逆浸透、精密ろ過および限外ろ過、冷却塔用途における生物膜の除去促進、熱交換器およびプロセス水装置などを含む用途に有用である。
この有機修飾シリル化界面活性剤の発明の組成物は、板紙用消泡剤およびパルプ化工程用の湿潤剤のようなパルプおよび紙の用途において有用である。
パーソナルケア実施例
合成実施例
実施例Aの合成
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(40.77g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]50Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(171.40g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2(CH3)CH2O)7CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(37.83g)ならびにイソプロパノール(425.68g)が500mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで15.5時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(41.45g)、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン(20.49g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]50Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(348.56g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2(CH3)CH2O)7CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(89.49g)ならびにイソプロパノール(500g)が2000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(16.78g)、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン(24.88g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]50Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(344.45g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(88.44g)ならびにイソプロパノール(500g)が2000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(11.71g)、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン(5.79g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]250Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(457.22g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(25.28g)ならびにイソプロパノール(500g)が2000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(22.68g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]50Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(227.34g)およびイソプロパノール(50g)が500mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(15.91g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]50Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(66.91g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH 2 CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(17.18g)ならびにイソプロパノール(50g)が500mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで16時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(49.44g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]100Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(397.22g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH 2 CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(53.33g)ならびにイソプロパノール(500g)が2000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(25.35g)、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン(12.53g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]100Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(407.38g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH 2 CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(54.74g)ならびにイソプロパノール(500g)が2000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(18.26g)、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン(9.03g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]150Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(433.298g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(39.42g)ならびにイソプロパノール(500g)が2000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(14.27g)、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン(7.05g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]200Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(447.87g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(30.81g)ならびにイソプロパノール(500g)が2000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで24時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2CH2O)22CH2CH(O)CH2のエポキシ末端キャップポリエーテル(148.28g)、アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(51.72g)およびイソプロパノール(60.00g)が500ml丸底フラスコ内で混合された。溶液は還流するまで加熱され、マグネチックスターラーにて攪拌された。反応は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで還流し続けるようにされた。生じる物質は暗い淡黄色を示した。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン(7.57g)、平均構造CH2(O)CHCH2OCH2CH2CH2Si(CH3)2O[Si(CH3)2O]399Si(CH3)2CH2CH2CH2OCH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリシロキサン(234.25g)および平均構造CH2(O)CHCH2O(CH2CH2O)14CH2CH(O)CH2のエポキシキャップ化ポリエーテル(8.18g)ならびにイソプロパノール(250g)が1000mlフラスコ内で混合された。物質は還流され、オーバーヘッドスターラーにて攪拌された。還流は全てのエポキシ基が消費されたと滴定により測定されるまで16時間続けられた。物質はロータリーエバポレーターへと移され、イソプロパノールを取り除くために70℃、533パスカル(4torr)で2時間蒸発された。
エマルションA1、F1、L1、K1およびC2はポリマーと水を実験用のプロペラミキサーで15分間混合する事によって調製された。分散物はその後に酸性化され、1分間均一化された。
100gのマイクロエマルションB1〜E1、A2およびG1〜J1は方法(i)によって調製された。
ポリマーは均一の混合物を得るために、実験用のプロペラミキサーもしくはスピードミキサーで界面活性剤系および10gの水と混合された。残りの水はゆっくりと添加された。酸性化は最後に行われた。透明なマイクロエマルションが得られるべきである。100gのマイクロエマルションF2は方法(ii)によって調製された。
方法(ii)
ポリマーおよび界面活性剤が0.6gの水と混合されて、ゲル様の混合物を形成し、そして酸性水へと攪拌しながら添加された。エマルションは表1に示され、以下のセクションに記載される希釈髪処理液を調製するためのマスターエマルションとして用いられる。
洗浄サイクルへの髪の処理の堅牢性を評価するために、疎水性が、痛んだ髪(二重漂白)への20回の洗浄の後に、上述の接触角方法を用いて試験された。これらの値は、1回の洗浄のサイクルの後の接触角の値とともに表4に報告される。比較例5は、比較例3に記載されたシャンプー/コンディショナーシステムによって1回および20回、洗浄およびコンディショニングされた痛んだ髪の接触角の値を示す。データは、本発明に開示されるコポリマーによって処理された髪の接触角は、20回の洗浄後で80より高いことを示し、これは疎水化処理が20回の洗浄を耐えることを示す。
表6に示される組成物を持つリンスオフコンディショナーが調製された。二重漂白のトレスが10%SLES溶液で洗浄され、実施例7の組成物によってコンディショニングされ、30秒間リンスされた。疎水性試験は処理されたおよび非処理のトレスにおいて実施された。表7は、コポリマー含有リンスオフコンディショナーが20回の洗浄を通して堅牢である疎水化処理を髪へもたらすことを示す。
表8に示される組成物を持つ水性のムース組成物が調製された。
本発明において開示されるコポリマーによって処理される髪にコンディショニングの性能は、Diastron combing force装置を用いる乾燥コーミング力手順を用いて評価された。
二重漂白のブロンドの髪の4gのトレス(15cmの長さ)がHair International Inc.より購入された。洗浄に先立ち、それぞれのトレスは2分間0.5%水酸化ナトリウム溶液へと浸され、そして水道水で2分間リンスされた。それぞれのトレスはそののち1mlの10%SLES溶液によって洗浄され、そして通常の洗浄プロトコールを用いてリンスされた。洗浄の後、湿潤トレスは細かい櫛歯ですかれ、風乾ドライヤーボンネットで乾燥され、コーミング力測定の前に相対湿度50%の周囲乾燥のチャンバで一晩保管された。これらの清浄なトレスは、下に記載されるコーミング力プロトコールに従って基準のコーミング力を測定するために用いられた。基準測定の後、対照のトレス(比較例)は再びSLES溶液によって洗浄され、以下に記載されるコンディショナー(1ml/トレス)によって処理された。逆に、基準の測定の後、試験用トレスは100mlの表1に記載されるコポリマー含有エマルションの希釈分散液に60秒間浸され、風乾された。リンス及びコーミングののち、処理されたトレスは、コーミング力測定の前に相対湿度50%の周囲環境のチャンバで一晩保持された。
Diastronコーミング力装置は、相対湿度50%で平衡化した調整された湿度チャンバ中に包み込まれる。自動化櫛速度は500mm/分である。コーミング力測定はそれぞれのトレスに対して10回繰り返された。それぞれの処理は二重で行われた。
%平均力減少=(A0−A)*100/A0
〔式中、A 0 は基準のトレスの平均コーミング負荷であり、そしてAは処理されたトレスの平均コーミング負荷である〕
に従って計算された。平均の力の減少が高くなるほど、処理のコンディショニングの性能が高い。
上述のプロトコールによるコーミング力のデータは表11に示される。表11は、コポリマーの処理がより低い投与量でコンディショニングをもたらす事を示す(実施例12)。しかしそれは、通常のコンディショナーが痛んだ髪に対するより良く機能するのを助ける(実施例13)。
コポリマー含有処理液および実施例処理液は表12に示される。Hair Internationalからの15cmの長さの二重漂白の4gのトレスが用いられた。トレスは、かなり可視的な縮れ毛を導入するために、強塩基(0.5%NaOH溶液)で処理された。トレスはその後、10%SLES溶液によって洗浄され、風乾され、櫛によってもつれをのぞかれ、相対湿度50%に保持された。試験用トレスは表12に記載される分散液に60秒間浸された。過剰の水が、人差し指と中指の間の湿ったトレスを絞る事によって除去された。湿ったトレスはその後、Revlon flat ironで中程度の熱でアイロンされた。湿潤アイロンステップののち、視覚および触覚の調査が実施された。水道水で処理されたトレスAが、繊維の強い乱れおよびノットを示した。湿潤アイロンステップにおいて、多数の繊維が溶け、そして押しつぶされたのが見られた。このトレスは非常に粗く、乾燥した触感であった。市販のシリコーンで処理されるか、もしくは市販のリーブインコンディショナーのトレスC、DおよびEは、非常に同様のふるまいを示した。逆に、エマルションC1からの1%コポリマーで処理されたトレスBの髪は、有意な縮れ毛が無く、非常に規則正しく並び、まっすぐであった。髪はスムースで柔らかい触感であった。明らかにコポリマー処理のトレスは他の全ての処理と比較して、湿潤アイロン中に有意に熱への保護がもたらされており、重篤なダメージ無しに初期のトレスの縮れ毛が除去され、知覚出来る状況の改善がもたらされていた。
縮れ毛除去試験
上述の実験のように、ポリマーの棒に根の末端で保持されたHair Internationalからの15cm長の二重漂白の4gのトレスが用いられた。髪の縮れ毛が上述の厳しい塩基処理によるトレス容量の有意な増加それ自身によって導入された。トレスの容量増加は、定規を用いて髪の末端領域のトレスの最大幅Ltおよび根の端のトレスの幅Lr(ポリマーの棒の幅)を計測することによって評価された。容量のファクターはLt/Lrによって定義された。ヘアトレスは、未使用で非処理の直毛のトレス(比較例12)に見られるように、非常にまっすぐであるとみなされ、そしてもしLt/Lrが2.6より小さいかもしくは等しいとき縮れていないとみなされた。容量の比が3よりも非常に高いことは、縮れ毛が非常に高いレベルで高いダメージである事を示す。それぞれの処理に対して、アイロンの前後に測定された容量のファクターは表13に示される。実験は二重で行われた。データは、アイロンにおけるコポリマーの処理は、アミノシリコーン処理を超越した縮れ毛の有意な除去をもたらす。コポリマー処理のトレスは非常にスムースで重さを感じ無い触感であることは注目される。同様の結果は民族風の弛緩した髪においても観察された。
未使用のヨーロピアンの褐色の髪がこの実験に用いられた。トレスは0.5%のコポリマーKおよびポリマーCのエマルションで処理され、2.54 センチメートル(1インチ)ヘア・カーラーの回りに巻かれた。髪はオーブンで100℃1時間乾燥され、25℃で相対湿度50%でチャンバに一晩コンディショニングのために置かれた。髪はローラーより取り出され、25℃相対湿度90%でチャンバー内で垂直に吊るされた。処理の保持はトレスの長さおよび幅によって測定された。髪がほぐれてまっすぐになるに従って、トレスの全長が増加する。また、容量が保持の欠乏によって増加すると、幅が同様に増加する。表14に結果が示される。湿気にさらされるカールの幅の減少によって明らかになるように、処理は確かに髪のスタイリングに利点をもたらす。髪が市販の配合物と同じくらいにかたく保持されないのであるが、髪は柔らかく、触感の良さが保たれる。減少した幅の増加が、髪の縮れの「消え去り」の減少を示す。市販の配合物は硬く、所望の触感を示さない。
Sus scrofa(豚)からの足の皮膚の断片が、皮膚の表面性質への本発明の効果の評価のために用いられた。1cm×3cmの寸法の皮膚の断片が切り取られた。0.3gのエマルション(C1、E1)が物質を均一化するためにピペットを用いられて皮膚へと塗布された。コートは周囲環境条件で2時間乾燥させられた。表面の親水性もしくは疎水性はゴニオメーターを用いて測定された。純水の接触角は水滴が表面に置かれてから1秒後で測定された。それぞれのサンプルに対して合計50の測定が実施された。結果は以下の表に示される。本発明の産物は、エマルションC1が適用されるとき疎水性を増大させ、エマルションK1が適用されるとき、親水性を増大させる。
Claims (43)
- a)少なくとも二つのオキシランもしくはオキセタン基を含有するオキシランもしくはオキセタン化合物と
b)式:N(H)(R1)R2Si(OR3)3−a−b−c(OR4)a(R5Si(OR6)d(R7)e)bR8 c
〔式中、R1は、H、または1から20個の炭素原子からなる、一価の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R2は、1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R4は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり;
R5は、酸素、または1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ、1から200個の炭素原子を持つ一価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択され;
下付文字bはゼロもしくは正の数字であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字aはゼロもしくは3未満の正の数であり、下付文字bおよびcはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の数を持ち、ただし(a+b+c)≦3という限定に従い;
下付文字dおよびeはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち、ただし(d+e)=3という限定に従う〕を持つアミノシラン
との反応産物を含有する組成物を含有する髪の処理に好適なパーソナルケア組成物であって、ここで髪は前記パーソナルケア組成物によって処理され前記髪が水に対して疎水性の反応性を持つか、または、ヒトの皮膚が前記パーソナルケア組成物によって処理され前記皮膚が水に対して改善された反応性を示す、組成物。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物がシロキサン、炭化水素およびポリエーテルからなる群より選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
MfME hMPE iMH jDkDE lDPE mDH nToTE pTPE qTH rQs
〔式中、
M=R9R10R11SiO1/2;
MH=R12R13HSiO1/2;
MPE=R12R13(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO1/2;
ME=R12R13(RE)SiO1/2;
D=R18R19SiO2/2;および
DH=R20HSiO2/2;
DPE=R20(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO2/2;
DE=R20RESiO2/2;
T=R21SiO3/2;
TH=HSiO3/2;
TPE=(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO3/2;
TE=RESiO3/2;および
Q=SiO4/2;
であり、ここでR9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21はそれぞれ独立して1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルの群より選択され;
R14はHまたは1から6個の炭素原子のアルキル基であり;
R15は1から6個の炭素の二価のアルキルラジカルであり;
R16は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
R17は、H、1から6個の炭素の単官能性の炭化水素ラジカルおよびアセチルからなる群より選択され;
REは、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
下付文字fはゼロもしくは正であり、下付文字fがゼロであるときhが正である必要があるという制限に従い;
下付文字hはゼロもしくは正であり、hがゼロであるとき、下付文字fが正である必要があるという制限に従い、そして下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字kはゼロもしくは正であり、そして0から1,000の範囲の値を持ち;
下付文字lはゼロもしくは正であり、そして0から400の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計が正であるという制限に従い;
下付文字oはゼロもしくは正であり、そして0から50の範囲の値を持ち;
下付文字pはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字sはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字iはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字mはゼロもしくは正であり、そして0から200の範囲の値を持ち;
下付文字qはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字jはゼロもしくは正であり、そして0から2の範囲の値を持ち;
下付文字nはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字rはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字tはゼロもしくは1であり;
下付文字uはゼロもしくは1であり;
下付文字vはゼロもしくは正であり、0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字wはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字xはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従う〕
を持つシロキサンである、請求項2に記載の組成物。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R22 y(R23)z(R24)α(R25)β
〔式中、R22およびR25は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R23およびR24は、1から1000個の炭素の、直鎖のもしくは分岐の、一価の炭化水素ラジカルからなる群よりそれぞれ選択され;
下付文字y、z、α、βはゼロもしくは正であり、ゼロから4の範囲であり、(y+β)>2という制限に従う〕
を持つ炭化水素である、請求項2に記載の組成物。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R26O(R27)γ(C2H4O)δ(C3H6O)ε(C4H8O)ζR28
〔式中、R26およびR28は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R27は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
下付文字γはゼロもしくは1であり;
下付文字δはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字εはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字ζはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従う〕
を持つポリエーテルである、請求項2に記載の組成物。 - 式:
R29(R30)κSi(OR31)3−η−θ(R32)η(OR33)θ
〔式中、R29は、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R30は、1から60個の炭素からなる二価の炭化水素ラジカルであり、そして下付文字κはゼロもしくは1の値を持ち;R31およびR32は、独立して、1から60個の炭素原子を持つ、一価の、直鎖もしくは分岐の炭化水素ラジカルの群より選択され;
下付文字ηはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字θは0よりも大きく、そして3より小さいかもしくは3と等しく、3−η−θはゼロより大きいかもしくはゼロと等しいという条件に従い;
R33は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである〕
を持つ化合物とアミノシランとの反応産物をさらに含有する請求項1から5のいずれか1項に記載の組成物。 - R1が1から10個の炭素原子を持ち;
R2が1から10個の炭素原子を持ち;
R4が3から10個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して1から20個の炭素原子を持ち;
下付文字aが1から3の範囲であり;
下付文字bが0から25以上の範囲であり;
下付文字cが0から3の範囲であり;
R9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21がそれぞれ独立して1から4個の炭素原子を持ち;
下付文字f、l、m、n、o、p、q、rのそれぞれが独立して0から200の範囲であり;
下付文字kが0〜500の範囲であり;そして
下付文字v、wおよびxがそれぞれ独立して0から50の範囲である、請求項3に記載の組成物。 - R1が1から10個の炭素原子を持ち;
R2が1から10個の炭素原子を持ち;
R4が3から10個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して1から20個の炭素原子を持ち;
下付文字aが1から3の範囲であり;
下付文字bが0から25以上の範囲であり;
下付文字cが0から3の範囲であり;そして
R23およびR24がそれぞれ独立して5から1000個の炭素原子を持つ、請求項4に記載の組成物。 - R1が1から10個の炭素原子を持ち;
R2が1から10個の炭素原子を持ち;
R4が3から10個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して1から20個の炭素原子を持ち;
下付文字aが1から3の範囲であり;
下付文字bが0から25以上の範囲であり;
下付文字cが0から3の範囲であり;そして
下付文字δ、ε、ζがそれぞれ独立して0から50の範囲である、請求項5に記載の組成物。 - 式:
R 29 (R 30 ) κ Si(OR 31 ) 3−η−θ (R 32 ) η (OR 33 ) θ
〔式中、R 29 は、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R 30 は、1から60個の炭素からなる二価の炭化水素ラジカルであり、そして下付文字κはゼロもしくは1の値を持ち;R31およびR32がそれぞれ独立して1から10個の炭素原子を持つ、一価の、直鎖もしくは分岐の炭化水素ラジカルの群より選択され;
下付文字ηはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字θは0よりも大きく、そして3より小さいかもしくは3と等しく、3−η−θはゼロより大きいかもしくはゼロと等しいという条件に従い;
R33が3から100個の炭素原子を持つ炭化水素ラジカルである〕
を持つ化合物とアミノシランとの反応産物をさらに含有する、請求項7から9のいずれか1項に記載の組成物。 - R1が1から5個の炭素原子を持ち;
R2が2から8個の炭素原子を持ち;
R4が3から8個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して1から15個の炭素原子を持ち;
下付文字aが2から3の範囲であり;
下付文字bが0から15以上の範囲であり;
下付文字cが0から2の範囲であり;
R9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21がそれぞれ独立して1から3個の炭素原子を持ち;
下付文字f、l、m、n、o、p、q、rのそれぞれが独立して0から100の範囲であり;
下付文字kが5〜250の範囲であり;
下付文字v、wおよびxがそれぞれ独立して0から35の範囲である、請求項3に記載の組成物。 - R1が1から5個の炭素原子を持ち;
R2が2から8個の炭素原子を持ち;
R4が3から8個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して1から15個の炭素原子を持ち;
下付文字aが2から3の範囲であり;
下付文字bが0から15以上の範囲であり;
下付文字cが0から2の範囲であり;そして
R23およびR24がそれぞれ独立して10から500個の炭素原子を持つ、請求項4に記載の組成物。 - R1が1から5個の炭素原子を持ち;
R2が2から8個の炭素原子を持ち;
R4が3から8個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して1から15個の炭素原子を持ち;
下付文字aが2から3の範囲であり;
下付文字bが0から15以上の範囲であり;
下付文字cが0から2の範囲であり;そして
下付文字δ、ε、ζがそれぞれ独立して0から30の範囲である、請求項5に記載の組成物。 - 式:
R 29 (R 30 ) κ Si(OR 31 ) 3−η−θ (R 32 ) η (OR 33 ) θ
〔式中、R 29 は、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R 30 は、1から60個の炭素からなる二価の炭化水素ラジカルであり、そして下付文字κはゼロもしくは1の値を持ち;R31およびR32がそれぞれ独立して1から8個の炭素原子を持つ、一価の、直鎖もしくは分岐の炭化水素ラジカルの群より選択され;
下付文字ηはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字θは0よりも大きく、そして3より小さいかもしくは3と等しく、3−η−θはゼロより大きいかもしくはゼロと等しいという条件に従い;
R33が3から50個の炭素原子を持つ炭化水素ラジカルである〕
を持つ化合物とアミノシランとの反応産物をさらに含有する、
請求項11から13のいずれか1項に記載の組成物。 - R1が水素であり;
R2が2から5個の炭素原子を持ち;
R4が3から5個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して2から8個の炭素原子を持ち;
下付文字aが0もしくは1であり;
下付文字bが3であり;
下付文字cが0もしくは1であり;
R9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21がそれぞれ独立してメチルであり;
下付文字f、l、m、n、o、p、q、rのそれぞれが独立して0から50の範囲であり;
下付文字kが5〜150の範囲であり;
下付文字v、wおよびxがそれぞれ独立して0から25の範囲である、請求項3に記載の組成物。 - R1が水素であり;
R2が2から5個の炭素原子を持ち;
R4が3から5個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して2から8個の炭素原子を持ち;
下付文字aが0もしくは1であり;
下付文字bが3であり;
下付文字cが0もしくは1であり;そして
R23およびR24がそれぞれ独立して10から300個の炭素原子を持つ、請求項4に記載の組成物。 - R1が水素であり;
R2が2から5個の炭素原子を持ち;
R4が3から5個の炭素原子を持ち;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して2から8個の炭素原子を持ち;
下付文字aが0もしくは1であり;
下付文字bが3であり;
下付文字cが0もしくは1であり;そして
下付文字δ、ε、ζがそれぞれ独立して0から15の範囲である、請求項5に記載の組成物。 - 式:
R 29 (R 30 ) κ Si(OR 31 ) 3−η−θ (R 32 ) η (OR 33 ) θ
〔式中、R 29 は、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R 30 は、1から60個の炭素からなる二価の炭化水素ラジカルであり、そして下付文字κはゼロもしくは1の値を持ち;R31およびR32がそれぞれ独立して1から4個の炭素原子を持つ、一価の、直鎖もしくは分岐の炭化水素ラジカルの群より選択され;
下付文字ηはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字θは0よりも大きく、そして3より小さいかもしくは3と等しく、3−η−θはゼロより大きいかもしくはゼロと等しいという条件に従い;
R33が3から10個の炭素原子を持つ炭化水素ラジカルである〕
を持つ化合物とアミノシランとの反応産物をさらに含有する、
請求項15から17のいずれか1項に記載の組成物。 - 不連続相が水を含有し、そしてエマルションが請求項1から18のいずれか1項に記載の組成物を含有する水性エマルション。
- 連続相が水を含有し、そしてエマルションが請求項1から18のいずれか1項に記載の組成物を含有する水性エマルション。
- 不連続相が非水性ヒドロキシ溶媒を含有し、そしてエマルションが請求項1から18のいずれか1項に記載の組成物を含有する非水性エマルション。
- 連続相が非水性ヒドロキシ有機溶媒を含有し、そしてエマルションが請求項1から18のいずれか1項に記載の組成物を含有する非水性エマルション。
- a)少なくとも二つのオキシランもしくはオキセタン基を含有するオキシランもしくはオキセタン化合物と
b)式:N(H)(R1)R2Si(OR3)3−a−b−c(OR4)a(R5Si(OR6)d(R7)e)bR8 c
〔式中、R1は、H、または1から20個の炭素原子からなる、一価の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R2は、1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R4は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり;
R5は、酸素、または1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ、1から200個の炭素原子を持つ一価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択され;
下付文字bはゼロもしくは正の数字であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字aはゼロもしくは3未満の正の数であり、下付文字bおよびcはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の数を持ち、ただし(a+b+c)≦3という限定に従い;
下付文字dおよびeはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち、ただし(d+e)=3という限定に従う〕を持つアミノシラン
との反応産物を含有する組成物を髪と接触させる事を含有する髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物がシロキサン、炭化水素およびポリエーテルからなる群より選択される、請求項23に記載の髪を処理する方法。
- 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
MfME hMPE iMH jDkDE lDPE mDH nToTE pTPE qTH rQs
〔式中、
M=R9R10R11SiO1/2;
MH=R12R13HSiO1/2;
MPE=R12R13(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO1/2;
ME=R12R13(RE)SiO1/2;
D=R18R19SiO2/2;および
DH=R20HSiO2/2;
DPE=R20(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO2/2;
DE=R20RESiO2/2;
T=R21SiO3/2;
TH=HSiO3/2;
TPE=(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO3/2;
TE=RESiO3/2;および
Q=SiO4/2;
であり、ここでR9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21はそれぞれ独立して1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルの群より選択され;
R14はHまたは1から6個の炭素原子のアルキル基であり;
R15は1から6個の炭素の二価のアルキルラジカルであり;
R16は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
R17は、H、1から6個の炭素の単官能性の炭化水素ラジカルおよびアセチルからなる群より選択され;
REは、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
下付文字fはゼロもしくは正であり、下付文字fがゼロであるときhが正である必要があるという制限に従い;
下付文字hはゼロもしくは正であり、hがゼロであるとき、下付文字fが正であるという制限に従い、そして下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字kはゼロもしくは正であり、そして0から1,000の範囲の値を持ち;
下付文字lはゼロもしくは正であり、そして0から400の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計が正であるという制限に従い;
下付文字oはゼロもしくは正であり、そして0から50の範囲の値を持ち;
下付文字pはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字sはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字iはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字mはゼロもしくは正であり、そして0から200の範囲の値を持ち;
下付文字qはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字jはゼロもしくは正であり、そして0から2の範囲の値を持ち;
下付文字nはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字rはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字tはゼロもしくは1であり;
下付文字uはゼロもしくは1であり;
下付文字vはゼロもしくは正であり、0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字wはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字xはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従う〕
を持つシロキサンである、請求項24に記載の髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R22 y(R23)z(R24)α(R25)β
〔式中、R22およびR25は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R23およびR24は、1から1000個の炭素の、直鎖のもしくは分岐の、一価の炭化水素ラジカルからなる群よりそれぞれ選択され;
下付文字y、z、α、βはゼロもしくは正であり、ゼロから4の範囲であり、(y+β)>2という制限に従う〕
を持つ炭化水素である、請求項24に記載の髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R26O(R27)γ(C2H4O)δ(C3H6O)ε(C4H8O)ζR28
〔式中、R26およびR28は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R27は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
下付文字γはゼロもしくは1であり;
下付文字δはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字εはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字ζはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従う〕
を持つポリエーテルである、請求項24に記載の髪を処理する方法。 - 前記組成物が(a)および(b)の反応産物を含有する連続相と、水もしくは非水性ヒドロキシ溶媒を含有する非連続相とを含有するエマルション組成物である、請求項23から27のいずれか1項に記載の髪を処理する方法。
- 前記組成物が(a)および(b)の反応産物を含有する非連続相と、水もしくは非水性ヒドロキシ溶媒を含有する連続相とを含有するエマルション組成物である、請求項23から27のいずれか1項に記載の髪を処理する方法。
- a)少なくとも二つのオキシランもしくはオキセタン基を含有するオキシランもしくはオキセタン化合物と
b)式:N(H)(R1)R2Si(OR3)3−a−b−c(OR4)a(R5Si(OR6)d(R7)e)bR8 c
〔式中、R1は、H、または1から20個の炭素原子からなる、一価の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R2は、1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R4は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり;
R5は、酸素、または1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ、1から200個の炭素原子を持つ一価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択され;
下付文字bはゼロもしくは正の数字であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字aはゼロもしくは3未満の正の数であり、下付文字bおよびcはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の数を持ち、ただし(a+b+c)≦3という限定に従い;
下付文字dおよびeはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち、ただし(d+e)=3という限定に従う〕を持つアミノシラン
との反応産物を含有する組成物を痛んだ髪と接触させる事を含有する痛んだ髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物がシロキサン、炭化水素およびポリエーテルからなる群より選択される、請求項30に記載の痛んだ髪を処理する方法。
- 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
MfME hMPE iMH jDkDE lDPE mDH nToTE pTPE qTH rQs
〔式中、
M=R9R10R11SiO1/2;
MH=R12R13HSiO1/2;
MPE=R12R13(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO1/2;
ME=R12R13(RE)SiO1/2;
D=R18R19SiO2/2;および
DH=R20HSiO2/2;
DPE=R20(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO2/2;
DE=R20RESiO2/2;
T=R21SiO3/2;
TH=HSiO3/2;
TPE=(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO3/2;
TE=RESiO3/2;および
Q=SiO4/2;
であり、ここでR9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21はそれぞれ独立して1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルの群より選択され;
R14はHまたは1から6個の炭素原子のアルキル基であり;
R15は1から6個の炭素の二価のアルキルラジカルであり;
R16は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
R17は、H、1から6個の炭素の単官能性の炭化水素ラジカルおよびアセチルからなる群より選択され;
REは、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
下付文字fはゼロもしくは正であり、下付文字fがゼロであるときhが正である必要があるという制限に従い;
下付文字hはゼロもしくは正であり、hがゼロであるとき、下付文字fが正であるという制限に従い、そして下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字kはゼロもしくは正であり、そして0から1,000の範囲の値を持ち;
下付文字lはゼロもしくは正であり、そして0から400の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計が正であるという制限に従い;
下付文字oはゼロもしくは正であり、そして0から50の範囲の値を持ち;
下付文字pはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字sはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字iはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字mはゼロもしくは正であり、そして0から200の範囲の値を持ち;
下付文字qはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字jはゼロもしくは正であり、そして0から2の範囲の値を持ち;
下付文字nはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字rはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字tはゼロもしくは1であり;
下付文字uはゼロもしくは1であり;
下付文字vはゼロもしくは正であり、0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字wはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字xはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従う〕
を持つシロキサンである、請求項31に記載の痛んだ髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R22 y(R23)z(R24)α(R25)β
〔式中、R22およびR25は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R23およびR24は、1から1000個の炭素の、直鎖のもしくは分岐の、一価の炭化水素ラジカルからなる群よりそれぞれ選択され;
下付文字y、z、α、βはゼロもしくは正であり、ゼロから4の範囲であり、(y+β)>2という制限に従う〕
を持つ炭化水素である、請求項31に記載の痛んだ髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R26O(R27)γ(C2H4O)δ(C3H6O)ε(C4H8O)ζR28
〔式中、R26およびR28は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R27は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
下付文字γはゼロもしくは1であり;
下付文字δはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字εはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字ζはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従う〕
を持つポリエーテルである、請求項31に記載の痛んだ髪を処理する方法。 - 前記組成物が(a)および(b)の反応産物を含有する連続相と、水もしくは非水性ヒドロキシ溶媒を含有する非連続相とを含有するエマルション組成物である、請求項30から34のいずれか1項に記載の痛んだ髪を処理する方法。
- 前記組成物が(a)および(b)の反応産物を含有する非連続相と、水もしくは非水性ヒドロキシ溶媒を含有する連続相とを含有するエマルション組成物である、請求項30から34のいずれか1項に記載の痛んだ髪を処理する方法。
- a)少なくとも二つのオキシランもしくはオキセタン基を含有するオキシランもしくはオキセタン化合物と
b)式:
N(H)(R1)R2Si(OR3)3−a−b−c(OR4)a(R5Si(OR6)d(R7)e)bR8 c
〔式中、R1は、H、または1から20個の炭素原子からなる、一価の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R2は、1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R4は3から200個の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり;
R5は、酸素、または1から60個の炭素からなる、二価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より選択され;
R3、R6、R7およびR8はそれぞれ、1から200個の炭素原子を持つ一価の、直鎖のもしくは分岐の炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択され;
下付文字bはゼロもしくは正の数字であり、そして0から3の範囲の値を持ち;
下付文字aはゼロもしくは3未満の正の数であり、下付文字bおよびcはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の数を持ち、ただし(a+b+c)≦3という限定に従い;
下付文字dおよびeはゼロもしくは正であり、そして0から3の範囲の値を持ち、ただし(d+e)=3という限定に従う〕を持つアミノシラン
との反応産物を含有する組成物を熱で痛んだ髪と接触させる事を含有する熱で痛んだ髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物がシロキサン、炭化水素およびポリエーテルからなる群より選択される、請求項37に記載の熱で痛んだ髪を処理する方法。
- 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
MfME hMPE iMH jDkDE lDPE mDH nToTE pTPE qTH rQs
〔式中、
M=R9R10R11SiO1/2;
MH=R12R13HSiO1/2;
MPE=R12R13(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO1/2;
ME=R12R13(RE)SiO1/2;
D=R18R19SiO2/2;および
DH=R20HSiO2/2;
DPE=R20(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO2/2;
DE=R20RESiO2/2;
T=R21SiO3/2;
TH=HSiO3/2;
TPE=(−CH2CH(R14)(R15)tO(R16)u(C2H4O)v(C3H6O)w(C4H8O)xR17)SiO3/2;
TE=RESiO3/2;および
Q=SiO4/2;
であり、ここでR9、R10、R11、R12、R13、R18、R19、R20およびR21はそれぞれ独立して1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルの群より選択され;
R14はHまたは1から6個の炭素原子のアルキル基であり;
R15は1から6個の炭素の二価のアルキルラジカルであり;
R16は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
R17は、H、1から6個の炭素の単官能性の炭化水素ラジカルおよびアセチルからなる群より選択され;
REは、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する1から60個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
下付文字fはゼロもしくは正であり、下付文字fがゼロであるときhが正である必要があるという制限に従い;
下付文字hはゼロもしくは正であり、hがゼロであるとき、下付文字fが正であるという制限に従い、そして下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字kはゼロもしくは正であり、そして0から1,000の範囲の値を持ち;
下付文字lはゼロもしくは正であり、そして0から400の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計が正であるという制限に従い;
下付文字oはゼロもしくは正であり、そして0から50の範囲の値を持ち;
下付文字pはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち、下付文字h、lおよびpの合計は正であるという制限に従い;
下付文字sはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字iはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字mはゼロもしくは正であり、そして0から200の範囲の値を持ち;
下付文字qはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字jはゼロもしくは正であり、そして0から2の範囲の値を持ち;
下付文字nはゼロもしくは正であり、そして0から20の範囲の値を持ち;
下付文字rはゼロもしくは正であり、そして0から30の範囲の値を持ち;
下付文字tはゼロもしくは1であり;
下付文字uはゼロもしくは1であり;
下付文字vはゼロもしくは正であり、0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字wはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従い;
下付文字xはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(v+w+x)>0という制限に従う〕
を持つシロキサンである、請求項38に記載の熱で痛んだ髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R22 y(R23)z(R24)α(R25)β
〔式中、R22およびR25は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R23およびR24は、1から1000個の炭素の、直鎖のもしくは分岐の、一価の炭化水素ラジカルからなる群よりそれぞれ選択され;
下付文字y、z、α、βはゼロもしくは正であり、ゼロから4の範囲であり、(y+β)>2という制限に従う〕
を持つ炭化水素である、請求項38に記載の熱で痛んだ髪を処理する方法。 - 前記オキシランもしくはオキセタン化合物が、式:
R26O(R27)γ(C2H4O)δ(C3H6O)ε(C4H8O)ζR28
〔式中、R26およびR28は、独立して、オキシランもしくはオキセタン部分の一つもしくはそれ以上を含有する3から12個の炭素原子を持つ一価の炭化水素ラジカルであり;
R27は、−C2H4O−、−C3H6O−および−C4H8O−からなる二価のラジカルの群より選択され;
下付文字γはゼロもしくは1であり;
下付文字δはゼロもしくは正であり、そして0から100の範囲の値を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字εはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従い;
下付文字ζはゼロもしくは正であり、そして0から100の値の範囲を持ち、(δ+ε+ζ)>0という制限に従う〕
を持つポリエーテルである、請求項38に記載の熱で痛んだ髪を処理する方法。 - 前記組成物が(a)および(b)の反応産物を含有する連続相と、水もしくは非水性ヒドロキシ溶媒を含有する非連続相とを含有するエマルション組成物である、請求項37に記載の熱で痛んだ髪を処理する方法。
- 前記組成物が(a)および(b)の反応産物を含有する非連続相と、水もしくは非水性ヒドロキシ溶媒を含有する連続相とを含有するエマルション組成物である、請求項37に記載の熱で痛んだ髪を処理する方法。
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