JP5650196B2 - 新規なオリゴ官能性の光開始剤 - Google Patents
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Description
R1及びR2はメチルであるか又は一緒になって−(CH2)5−であり;且つ
nは2又は3である)の化合物であり、且つ(1A)における溶媒は水又は有機溶媒である。
その工程段階1では、式(4)
その工程段階2では、式(5)の化合物を、塩基、例えば、炭酸アルカリ金属、例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム、特に炭酸ナトリウムで処理することによって式(2)の対応するヒドロキシル化合物に変換する、前記製造方法である。
その工程段階1では、
式(4)
その工程段階2では、
式(5)の化合物を、塩基、例えば、炭酸アルカリ金属、例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム、特に炭酸ナトリウムで処理することによって式(2)の対応するヒドロキシル化合物に変換し、且つ
その工程段階3では、
n個の式(2)
(A)少なくとも1つのエチレン性不飽和光重合性化合物、及び
(B)少なくとも1つの式(1)の光開始剤
を含む、光重合性組成物にも関する。
ジアクリル酸エステル、例えば、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールAジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ジペンタエリスリトールトリスイタコネート、ジペンタエリスリトールペンタイタコネート、ジペンタエリスリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール変性トリアクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、オリゴエステルアクリレート及びメタクリレート、グリセリンジアクリレート及びトリアクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、200〜1500の分子量を有するポリエチレングリコールのビスアクリレート及びビスメタクリレート、又はそれらの混合物。
1.低温又は高温架橋性のアルキド樹脂、アクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂又はメラミン樹脂又はかかる樹脂の混合物をベースとし、任意に硬化触媒を添加した表面コーティング;
2.ヒドロキシル基含有アクリレート樹脂、ポリエステル樹脂又はポリエーテル樹脂及び脂肪族又は芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースとした2成分ポリウレタン表面コーティング組成物;
3.チオール基含有アクリレート樹脂、ポリエステル樹脂又はポリエーテル樹脂及び脂肪族又は芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースとした2成分ポリウレタン表面コーティング組成物;
4.加熱乾燥の間にブロック化されない、ブロック化イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースとし、任意にメラミン樹脂の添加も可能である、1成分ポリウレタン表面コーティング組成物;
5.脂肪族又は芳香族ウレタン又はポリウレタン及びヒドロキシル基含有アクリレート樹脂、ポリエステル樹脂又はポリエーテル樹脂をベースとした1成分ポリウレタン表面コーティング組成物;
6.ウレタン構造中に遊離アミン基を有する脂肪族又は芳香族ウレタンアクリレート又はポリウレタンアクリレート、及び任意に硬化触媒が添加されている、メラミン樹脂又はポリエーテル樹脂をベースとした1成分ポリウレタン表面コーティング組成物;
7.(ポリ)ケチミン及び脂肪族又は芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースとした2成分表面コーティング組成物;
8.(ポリ)ケチミン及び不飽和アクリレート樹脂又はポリアセトアセテート樹脂又はメタクリルアミドグリコレートメチルエステルをベースとした2成分表面コーティング組成物;
9.カルボキシル基又はアミノ基含有ポリアクリレート及びポリエポキシドをベースとした2成分表面コーティング組成物;
10.無水物基含有アクリレート樹脂及びポリヒドロキシ又はポリアミノ成分をベースとした2成分表面コーティング組成物;
11.アクリレート含有無水物及びポリエポキシドをベースとした2成分表面コーティング組成物;
12.(ポリ)オキサゾリン及び無水物基含有アクリレート樹脂又は不飽和アクリレート樹脂又は脂肪族又は芳香族イソシアネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートをベースとした2成分表面コーティング組成物;
13.不飽和(ポリ)アクリレート及び(ポリ)マロネートをベースとした2成分表面コーティング組成物;
14.エーテル化したメラミン樹脂と組み合わせた、熱可塑性アクリレート樹脂又は外部架橋アクリレート樹脂をベースとした熱可塑性ポリアクリレート表面コーティング組成物;
15.架橋剤(酸触媒された)としてメラミン樹脂(例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン)を用いるマロネートブロック化イソシアネートをベースとした、表面コーティング系、特にクリアコート;
16.オリゴマーウレタンアクリル酸樹脂及び/又はアクリレートアクリル酸樹脂をベースとし、任意に他のオリゴマー又はモノマーを添加する、UV硬化系;
17.表面コーティング組成物の成分が、UV光及び光開始剤によって及び/又は電子ビーム硬化によって反応され得る二重結合を含有する、最初に熱で硬化し、次いでUV硬化した、又はその逆に硬化した、二重硬化系。
実施例1:1−(4−{ブロモ−[4−(2−クロロ−2−メチル−プロピオニル)−フェニル]−メチル}−フェニル)−2−クロロ−2−メチル−プロパン−1−オン
C21H21BrCl2O2、分子量=456.21
C50H50O12 MW=842.95
実施例3aの非晶質生成物16.2gを、還流酢酸エチル25gに溶解させて、ゆっくりと室温まで冷却する。少量のヘキサンを添加し、この混合液を撹拌しながら一晩放置する。ヘキサンを更に幾らか添加して0℃に冷却した後、結晶化した生成物を濾過し、真空下で20℃〜50℃の間で乾燥させる。テレフタル酸ビス−{ビス−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−フェニル]−メチル}エステル14.8gが、2モルの酢酸エチルで溶媒和され、白色結晶として得られる(融点102℃)。化学量論的量の溶媒和物がNMRスペクトルから推定され、更なる乾燥時に一定に保たれる。X線粉末スペクトルは結晶構造(図1)を特徴とするラインを示す。
実施例3bの結晶溶媒和生成物3.27gを無水エタノール中で懸濁し、完全溶解しないで2時間加熱還流する。冷却後、白色粉末1.76gが濾過によって得られ、これを50℃で真空乾燥させる。生成物は、結晶の、無溶媒テレフタル酸ビス−{ビス−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−フェニル]−メチル}エステル(融点105℃)からなる。NMRスペクトルは酢酸エチルがないことを証明する。X線粉末スペクトル中のラインは、結晶格子が実施例3bのものとは異なることを示す(図2)。
実施例4及び5の化合物並びにそれらの物理的データを以下の表にまとめる。それらを実施例3の方法に従って実施例2の化合物から調製し、ジクロロメタン/エタノール95/5を溶離剤として使用して、シリカのカラムクロマトグラフィーによって精製する。
Claims (15)
- R1及びR2がメチルである、請求項1に記載の式(1)又は(1A)の化合物。
- 光重合性組成物であって、
(A)少なくとも1つのエチレン性不飽和光重合性化合物、及び
(B)請求項1に規定される式(1)又は(1A)の少なくとも1つの光開始剤
を含む、光重合性組成物。 - 成分(B)に加えて、少なくとも1つの更なる光開始剤(C)、及び/又は他の慣用の添加剤(D)を含む、請求項3に記載の光重合性組成物。
- 前記組成物を基準として、0.05〜15質量%の光開始剤(B)又は光開始剤(B)+(C)を含む、請求項3又は4に記載の光重合性組成物。
- 更なる添加剤(D)として顔料又は染料又は顔料もしくは染料の混合物を含む請求項4に記載の光重合性組成物。
- 更なる添加剤(D)として分散剤又は分散剤の混合物を含む請求項4に記載の光重合性組成物。
- バインダーポリマー(e)を追加的に含む請求項3から7までのいずれか1項に記載の光重合性組成物。
- 印刷インクである、請求項3から8までのいずれか1項に記載の光重合性組成物。
- 請求項1に規定される式(1)の化合物の製造方法において、
その工程段階1では、
式(4)
ランプによる照射なしに臭素で処理して式(5)
その工程段階2では、
式(5)の化合物を、塩基で処理することによって式(2)の対応するヒドロキシル化合物に変換し、且つ
その工程段階3では、
n個の式(2)
式(3)
の酸塩化物とを、塩基の存在下で反応させて、式(1)の化合物を得て、その後、溶剤から結晶化させて式(1A)の化合物を得る、前記製造方法。 - エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物の光重合法であって、請求項3から9までのいずれか1項記載の組成物を、150〜600nmの範囲の電磁放射線で、又は電子ビームで又はX線で照射することを含む、前記光重合法。
- 着色及び無着色塗料並びにワニス、粉末コーティング、印刷インク、印刷版、接着剤、感圧接着剤、歯科組成物、ゲル被覆物、エレクトロニクス用フォトレジスト、電気メッキレジスト、液膜及び乾燥膜の両方のためのエッチングレジスト、ソルダレジスト、種々のディスプレイ用途のカラーフィルタを製造するためのレジスト、プラズマディスプレイパネル、ELディスプレイ及びLCDの製造プロセスにおいて構造を生成するレジスト、LCD用スペーサを製造するための、電気及び電子要素を封入するための組成物としての、ホログラフィックデータストレージ(HDS)のための、磁性記録材料、マイクロ機械部品、導波管、光スイッチ、メッキマスク、エッチングマスク、着色防止系、ガラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷ステンシルを製造するための、画像記録材料としての、立体リソグラフィーによって三次元物体を製造するための、ホログラフィ記録、超小形電子回路、脱色材料、画像記録材料用の脱色材料のための、UV及び可視レーザー直接結像系用フォトレジスト材料としての、プリント回路基板の連続ビルドアップ層における誘電層の形成用フォトレジスト材料としての、マイクロカプセルを使用する画像記録材料のための、請求項12に記載の方法。
- 少なくとも1つの表面上を、請求項3に記載の組成物で被覆した被覆基材。
- 食品包装材料用の表面コーティングとしての請求項3に記載の組成物の使用。
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