JP5630672B2 - 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 - Google Patents
金属の酸洗浄用腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5630672B2 JP5630672B2 JP2012524505A JP2012524505A JP5630672B2 JP 5630672 B2 JP5630672 B2 JP 5630672B2 JP 2012524505 A JP2012524505 A JP 2012524505A JP 2012524505 A JP2012524505 A JP 2012524505A JP 5630672 B2 JP5630672 B2 JP 5630672B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- cleaning
- metal
- structural unit
- corrosion inhibitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims description 86
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims description 85
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 60
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 57
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 57
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 title claims description 54
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims description 43
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 58
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 49
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 44
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 43
- -1 inorganic acid salt Chemical class 0.000 claims description 40
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 35
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 19
- NJSSICCENMLTKO-HRCBOCMUSA-N [(1r,2s,4r,5r)-3-hydroxy-4-(4-methylphenyl)sulfonyloxy-6,8-dioxabicyclo[3.2.1]octan-2-yl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)O[C@H]1C(O)[C@@H](OS(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)[C@@H]2OC[C@H]1O2 NJSSICCENMLTKO-HRCBOCMUSA-N 0.000 claims description 18
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 claims description 17
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 17
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 15
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 11
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 10
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 claims description 5
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 claims description 5
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 5
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- PSZAEHPBBUYICS-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepropanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C(O)=O PSZAEHPBBUYICS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 claims description 3
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 23
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 16
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 16
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 13
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- GQOKIYDTHHZSCJ-UHFFFAOYSA-M dimethyl-bis(prop-2-enyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](C)(C)CC=C GQOKIYDTHHZSCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YIOJGTBNHQAVBO-UHFFFAOYSA-N dimethyl-bis(prop-2-enyl)azanium Chemical compound C=CC[N+](C)(C)CC=C YIOJGTBNHQAVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 3
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XCENPWBBAXQVCG-UHFFFAOYSA-N 4-phenylpiperidine-4-carbaldehyde Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1(C=O)CCNCC1 XCENPWBBAXQVCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 0 CCC1*C(C)C[N+](C)(*)C1 Chemical compound CCC1*C(C)C[N+](C)(*)C1 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 3
- IUHGJRWJMWWDMQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-ethylimidazolidin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCN1CC[NH+](C=C)C1 IUHGJRWJMWWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBWYYTURPBHPFJ-UHFFFAOYSA-M 3-ethyl-1,3-benzothiazol-3-ium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=C2[N+](CC)=CSC2=C1 XBWYYTURPBHPFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IRLPACMLTUPBCL-KQYNXXCUSA-N 5'-adenylyl sulfate Chemical compound C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](COP(O)(=O)OS(O)(=O)=O)[C@@H](O)[C@H]1O IRLPACMLTUPBCL-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- IPTLKMXBROVJJF-UHFFFAOYSA-N azanium;methyl sulfate Chemical compound N.COS(O)(=O)=O IPTLKMXBROVJJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HVUHISUXSQCUHS-UHFFFAOYSA-M diethyl-bis(prop-2-enyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C=CC[N+](CC)(CC)CC=C HVUHISUXSQCUHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IOMDIVZAGXCCAC-UHFFFAOYSA-M diethyl-bis(prop-2-enyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](CC)(CC)CC=C IOMDIVZAGXCCAC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- YRHAJIIKYFCUTG-UHFFFAOYSA-M dimethyl-bis(prop-2-enyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C=CC[N+](C)(C)CC=C YRHAJIIKYFCUTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002523 gelfiltration Methods 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- WGESLFUSXZBFQF-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCN(C)CC=C WGESLFUSXZBFQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PPCHYMCMRUGLHR-UHFFFAOYSA-N phenylmethanamine;hydroiodide Chemical compound I.NCC1=CC=CC=C1 PPCHYMCMRUGLHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/04—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors
- C23G1/06—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors
- C23G1/065—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors sulfur-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/0005—Other compounding ingredients characterised by their effect
- C11D3/0073—Anticorrosion compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/37—Polymers
- C11D3/3796—Amphoteric polymers or zwitterionic polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/02—Inorganic compounds
- C11D7/04—Water-soluble compounds
- C11D7/08—Acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/265—Carboxylic acids or salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/173—Macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/04—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors
- C23G1/06—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/04—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors
- C23G1/06—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors
- C23G1/061—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors nitrogen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/08—Iron or steel
- C23G1/088—Iron or steel solutions containing organic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/16—Metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Description
また、腐食抑制剤である含窒素有機化合物として、チオ尿素及びその誘導体が提案されている(たとえば、特許文献2参照)。しかしながら、チオ尿素及びその誘導体も4級アンモニウム塩と同様の欠点を有する。
また、腐食抑制を効果的にするため、複数の金属腐食抑制剤を組み合わせて使用することも考えられるが、この場合、使用するにつれて各腐食剤の濃度比が変わり、腐食抑制効果に変化がおこりやすく、その結果、最終製品のバラツキにつながる可能性もあるという問題がある。
また、現在、使用されているカチオン性構成単位と二酸化硫黄単位とを有する共重合体も、その濃度変化により、腐食抑制効果が変化する場合があり、これを用いた金属酸洗浄液の腐食抑制剤の濃度変化が経時的に起こるときには、最終製品のバラツキにつながる可能性もある、という問題がある。
(1)下記の構造式(Ia)、若しくは(Ib)で示される構造、又はその無機酸塩、若しくは有機酸塩である構造、又は下記の構造式(IIa)、若しくは(IIb)で示される構造、を有するカチオン性構成単位(A)少なくとも1種
(但し、上記式(Ia)、及び(Ib)中、R1は、水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、上記式(IIa)、及び(IIb)中、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、X−はカウンターイオンである。)、
下記の構造式(III)、(IV)、又は(V)で示されるアニオン性構成単位(B)少なくとも1種
(但し上記式(III)中、R4は、水素又はメチル基であり、(III)、(IV)、及び(V)中、Yは、結合するカルボキシ基ごとにそれぞれ独立に水素、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/2Fe、1/3Al、又は1/3Feである。)、並びに
下記の構造式(VI)で示される構成単位(C)を有する両性高分子化合物(P)を含んでなる金属の酸洗浄用腐食抑制剤。
(2)前記カウンターイオンX−が、有機酸、又は無機酸由来のアニオンである、(1)に記載の腐食抑制剤。
(3)前記カチオン性構成単位(A)の少なくとも一部が、ジアリルアミン類、並びにその無機酸塩、及び有機酸塩から選ばれるカチオン性単量体から導かれるものである、(1)に記載の腐食抑制剤。
(4)前記カチオン性構成単位(A)の少なくとも一部がジアリルジメチルアンモニウムクロリドから導かれるものであり、前記アニオン性構成単位(B)の少なくとも一部がマレイン酸から導かれるものである、(1)に記載の腐食抑制剤。
(5)下記の構造式(VII)で示される構造、又はその無機酸塩、若しくは有機酸塩である構造、又は下記の構造式(VIII)で示される構造、を有する単量体(α)少なくとも1種、
(但し、上記式(VII)中、R5は、水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、式(VIII)中、R6及びR7は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、Z−はカウンターイオンである。)、
イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸、及びメチレンマロン酸、並びにこれらのカルボキシル基中の水素の全部又は一部が、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/2Fe、1/3Al、及び1/3Feから選ばれる少なくとも1種で置換された化合物からなる群から選ばれる単量体(β)少なくとも1種、並びに
二酸化硫黄を共重合して得られる両性高分子化合物(P’)を含んでなる、金属の酸洗浄用腐食抑制剤。
(6)酸液及び(1)から(5)のいずれかに記載の腐食抑制剤を含んでなる洗浄液組成物であって、前記両性高分子化合物(P)、又は前記両性高分子化合物(P’)の含有量が、該酸液1Lに対して0.1〜50000mgであることを特徴とする、上記洗浄液組成物。
(7)前記(6)に記載の洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物で浸漬することにより洗浄することを特徴とする金属の洗浄方法。
本発明の第1の金属の酸洗浄用腐食抑制剤は、下記の構造式(Ia)、若しくは(Ib)で示される構造、又はその無機酸塩、若しくは有機酸塩である構造、又は下記の構造式(IIa)、若しくは(IIb)で示される構造、を有するカチオン性構成単位(A)少なくとも1種
(但し、上記式(Ia)、及び(Ib)中、R1は、水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、上記式(IIa)、及び(IIb)中、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、X−はカウンターイオンである。)、
下記の構造式(III)、(IV)、又は(V)で示されるアニオン性構成単位(B)少なくとも1種
(但し上記式(III)中、R4は、水素又はメチル基であり、(III)、(IV)、及び(V)中、Yは、結合するカルボキシ基ごとにそれぞれ独立に水素、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/2Fe、1/3Al、又は1/3Feである。)、並びに
下記の構造式(VI)で示される構成単位(C)を有する両性高分子化合物(P)を含んでなる。
本発明に用いる両性高分子化合物(P)を構成するカチオン性構成単位(A)は、下記の構造式(Ia)、若しくは(Ib)で示される構造、又はその無機酸塩、若しくは有機酸塩である構造、又は下記の構造式(IIa)、若しくは(IIb)で示される構造、を有する。
但し、上記式(Ia)、及び(Ib)中、R1は、水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、上記式(IIa)、及び(IIb)中、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、X−はカウンターイオンである。X−は、有機酸又は無機酸由来のアニオンであることが好ましく、特に好ましくは、ハロゲンイオン(さらに好ましくは、Cl−、Br−、若しくはI−)、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、又は酢酸イオンである。
複数種類の互いに異なるカチオン性構成単位(A)を用いる場合、それぞれのカチオン性構成単位は、同一の一般構造式(Ia)、(Ib)、(IIa)、又は(IIb)で表される範囲内において互いに異なる構造を有していてもよいし、異なる一般構造式で表される互いに異なる構造を有していてもよい。前者の場合、例えば、一般構造式(Ia)で表されるが、R1の構造が互いに異なることによって構造が互いに異なる、複数種類のカチオン性構成単位(A)を用いてもよい。後者の場合、例えば、構造式(Ia)で表される構造を有する1のカチオン性構成単位(A)と、構造式(IIa)で表される構造を有する他のカチオン性構成単位(A)とを用いてもよい。
両性高分子化合物(P)におけるカチオン性構成単位(A)の含有量には特に制限はないが、上述の共重合モル比に相当する量であることが好ましい。
本発明に用いる両性高分子化合物(P)を構成するアニオン性構成単位(B)は、下記の構造式(III)、(IV)、又は(V)で示される構造を有する。
但し上記式(III)中、R4は、水素又はメチル基であり、(III)、(IV)、及び(V)中、Yは、結合するカルボキシ基ごとにそれぞれ独立に水素、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/2Fe、1/3Al、又は1/3Feである。
両性高分子化合物(P)におけるアニオン性構成単位(B)の含有量には特に制限はないが、上述の共重合モル比に相当する量であることが好ましい。
本発明に用いる両性高分子化合物(P)を構成する、構成単位(C)は、下記の構造式(VI)で示される構造を有する。
構成単位(C)は、通常、単量体として二酸化硫黄を用いることで、高分子中に導入することができる。両性高分子化合物(P)における構成単位(C)の含有量には特に制限はないが、上述の共重合モル比に相当する量であることが好ましい。
本発明で用いる両性高分子化合物(P)の製造においては、カチオン性構成単位(A)を導入するために、特定のカチオン性単量体(α)を用いることができる。
カチオン性単量体(α)は、下記の構造式(VII)で示される構造、又はその無機酸塩、若しくは有機酸塩である構造、又は下記の構造式(VIII)で示される構造、を有する。
(但し、上記式(VII)中、R5は、水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、式(VIII)中、R6及びR7は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、Z−はカウンターイオンである。)
カチオン系単量体(α)としてジアリルアミンやN−炭化水素基置換ジアリルアミン類の場合、夫々のアミン類の塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩などの無機酸塩及び酢酸塩などの有機酸塩等を共重合用の出発モノマーとして用いてもよい。
本発明で用いる両性高分子化合物(P)の製造においては、アニオン性構成単位(B)を導入するために、アニオン性単量体(β)を用いることができる。
アニオン性単量体(β)は、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸、及びメチレンマロン酸、並びにこれらのカルボキシル基中の水素の全部又は一部が、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/2Fe、1/3Al、及び1/3Feから選ばれる少なくとも1種で置換された化合物からなる群から選ばれる単量体である。
本発明に用いる両性高分子化合物(P)で特に好ましいものは、上記カチオン性単量体(α)として、ジアリルジメチルアンモニウム塩のうちの少なくとも1種を用い、これをアニオン性単量体(β)のフマル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸のうちの少なくとも1種と二酸化硫黄とを共重合させて得られる共重合体である。
次に本発明に用いる両性高分子化合物(P)の製造方法について述べる。本発明に用いる両性高分子化合物(P)の製造方法には特に制限はないが、以下に述べる方法で製造することが好ましい。
先ずカチオン性単量体(α)とアニオン性単量体(β)と二酸化硫黄とを極性溶媒に混合する。次いで、極性溶媒中で、カチオン性単量体(α)とアニオン性単量体(β)と二酸化硫黄とを重合触媒の存在下、共重合反応させる。カチオン性単量体(α)/アニオン性単量体(β)のモル比は、上述のように10/1〜1/3が好ましく、8/1〜1/2が更に好ましく、6/1〜1/1が特に好ましい。カチオン性単量体(α)/二酸化硫黄単量体のモル比は、上述のように、1/1〜1/0.01が好ましく、1.1/1〜1/0.025が更に好ましく、1.3/1〜1/0.05が特に好ましい。アニオン性単量体(β)/二酸化硫黄単量体のモル比は、上述のように、20/1〜1/20が好ましく、15/1〜1/15が更に好ましく、10/1〜1/10が特に好ましい。極性溶媒としては、水、メタノール、エタノール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、これらの混合溶媒等を挙げることができる。その中でも、重合反応性、安全性の面から水が好ましい。
本発明の第2の金属の酸洗浄用腐食抑制剤は、カチオン性単量体(α)の少なくとも1種、アニオン性単量体(β)の少なくとも1種、及び二酸化硫黄を共重合して得られる両性高分子化合物(P’)を含んでなる。ここで、カチオン性単量体(α)、アニオン性単量体(β)、及び二酸化硫黄は、上記にて詳述したものと同様である。また、「含んでなる」の趣旨は、本発明の第1の金属の酸洗浄用腐食抑制剤について説明したものと、同様である。両性高分子化合物(P’)は、上述の両性高分子化合物(P)に該当するものであっても良い。
本発明の金属の酸洗浄用腐食抑制剤は、その全部が両性高分子化合物(P)又は両性高分子化合物(P’)で構成されていてもよいし、その一部が両性高分子化合物(P)又は両性高分子化合物(P’)で構成されていてもよい。従って、重合終了後、両性高分子化合物(P)又は両性高分子化合物(P’)は、重合終了後の液をそのまま本発明の金属の酸洗浄用腐食抑制剤として用いてもよいし、重合終了後の液にアセトン等の有機溶媒を加えて再沈させ、固体化させてから腐食抑制剤として用いてもよい。
本発明の洗浄液組成物は、酸液1Lに対して、本発明の金属の酸洗浄用腐食抑制剤を両性高分子化合物(P)又は両性高分子化合物(P’)の固体又は純体換算で、通常0.1〜50000mg、好ましくは1〜10000mg、さらに好ましくは1〜5000mgを含む。含有量が酸液1Lに対して0.1mg以上なので必要な腐食抑制効果を得ることができ、また50000mg以下なので添加量に応じて腐食抑制効果を向上させることができる。
本発明の腐食抑制剤は、使用に際して酸液に添加してもよく、また予め酸液に添加して本発明の洗浄液組成物とし、そのまま、又はこれを水で希釈して用いてもよい。さらに洗浄液との混合を良くするため界面活性剤や溶剤を使用してもよく、このために用いられる界面活性剤や溶剤は予め本発明の腐食抑制剤と混合しておいてもよく、別々に本発明の洗浄剤組成物に添加してもよい。
併用する他の腐食抑制剤の具体例としては、1−ビニル−3−エチルイミダゾリニウムブロミド、3−エチルベンゾチアゾリウムブロミド、エチルトリエタノールアンモニウムブロミドなどが挙げられるがこれらの具体例に限定されるものではない。
さらにまた本発明の洗浄剤組成物においては酸洗速度を向上するための亜硫酸塩等の酸洗促進剤を併用することもできる。
本発明の金属の洗浄方法は、本発明の洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物に浸漬することによって金属表面を洗浄することを特徴とする。
本発明の腐食抑制剤を含んだ洗浄液組成物は、洗浄すべき金属表面に吹付け、又はこの洗浄液組成物に洗浄すべき金属片を浸漬することによって金属表面が洗浄される。洗浄対象となる金属は特に限定されないが、鉄鋼に対して用いると、特に有効である。
DADMAC:ジアリルジメチルアンモニウムクロリドの略語
MA:マレイン酸の略語
SO2:二酸化硫黄の略語
AMPS:2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の略語
DA・HCl:ジアリルアミン塩酸塩の略語
各合成例の共重合体の重量平均分子量及び重合率は、日立L−6000型高速液体クロマトグラフを使用し、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によって測定した。溶離液流路ポンプは日立L−6000、検出器はショーデックスRI SE−61示差屈折率検出器、カラムはアサヒパックの水系ゲル濾過タイプのGS−220HQ(排除限界分子量3,000)とGS−620HQ(排除限界分子量200万)とをダブルに接続したものを用いた。サンプルは溶離液で0.5g/100mLの濃度に調整し、20μLを用いた。溶離液には、0.4mol/Lの塩化ナトリウム水溶液を使用した。カラム温度は30℃で、流速は1.0mL/分で実施した。標準サンプルとして分子量106、194、440、600、1470、4100、7100、10300、12600、23000などのポリエチレングリコールを用いて較正曲線を求め、その較正曲線を基に共重合体の重量平均分子量を求めた。
ジアリルジメチルアンモニウムクロリドとマレイン酸と二酸化硫黄との10:5:5三元共重合体の合成例
攪拌機、冷却管、温度計を備えた500mL四ツ口セパラブルフラスコにて、65質量%DADMAC水溶液248.7g(1.0モル)、MA58.0g(0.5モル)、及びSO232.0g(0.5モル)を、水80.8g中に溶解させた。次に28.5質量%の過硫酸アンモニウム水溶液67.1g(対モノマーで7.6質量%;全モノマーに対して4.2モル%)を添加し、18〜70℃で72時間、重合を行い、実施例1に用いる標記の共重合体を合成した。重合終了後の溶液をGPC法にて測定したところ、重量平均分子量は23,000、重合率は100%であった。
種々の共重合比を有するジアリルジメチルアンモニウムクロリドとマレイン酸と二酸化硫黄との三元共重合体の合成例
ジアリルジメチルアンモニウムクロリドとマレイン酸と二酸化硫黄との共重合比を以下に示すものに変更した以外は、合成例1と同じ操作により実施例2〜4に用いる標記の共重合体を合成した。合成例2(共重合比10:4:1)では、重量平均分子量は24,000、重合率は100%であった。合成例3(共重合比10:3.5:1.5)では、重量平均分子量は23,000、重合率は100%であった。合成例4(共重合比10:2:3)では、重量平均分子量は23,000、重合率は100%であった
ジアリルジメチルアンモニウムクロリドとマレイン酸との1:1二元共重合体の合成例
攪拌機、冷却管、温度計を備えた500mL四ツ口セパラブルフラスコにて、65質量%のDADMAC水溶液248.7g(1.0モル)中にMA116.1g(1.0モル)を溶解させ内温を50℃まで昇温させた。温度が安定した後、得られる溶解液に28.5質量%の過硫酸アンモニウム水溶液67.1gを添加し、50〜70℃で72時間、重合を行い、比較例1に用いる標記の共重合体を合成した。重合終了後の溶液をGPC法にて測定したところ、重量平均分子量は11,800、重合率は100%であった。
ジアリルジメチルアンモニウムクロリドとマレイン酸との2:1二元共重合体の合成例
ジアリルジメチルアンモニウムクロリドとマレイン酸との共重合比を変更させた以外は、比較合成例1と同じ操作により、比較例2に用いる標記の共重合体を製造した。重量平均分子量は24,000、重合率は100%であった。
ジアリルジメチルアンモニウムクロリドと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸と二酸化硫黄の10:5:5三元共重合体の合成例
攪拌機、冷却管、温度計を備えた500mL四ツ口セパラブルフラスコにて、65質量%のDADMAC水溶液248.7g(1.0モル)、AMPS103.6g(0.5モル)、及びSO232.0g(0.5モル)を、水242.3gに溶解させた。次に28.5質量%の過硫酸アンモニウム水溶液67.1gを添加し、18〜70℃で72時間、重合を行い、比較例3に用いる標記の共重合体を製造した。重合終了後の溶液をGPC法にて測定したところ、重量平均分子量は11,500、重合率は95.0%であった。
ジアリルアミン塩酸塩と二酸化硫黄との1:1二元共重合体の合成例
攪拌機、冷却管、温度計を備えた500mL四ツ口セパラブルフラスコにて、66質量%のDA・HCl202.5g(1.0モル)、及びSO264.1g(1.0モル)を、水206.7gに溶解させた。次に28.5質量%の過硫酸アンモニウム水溶液13.7gを添加し、18〜60℃で24時間、重合を行い、比較例4に用いる標記の共重合体を製造した。重合終了後の溶液をGPC法にて測定したところ、重量平均分子量は5,000、重合率は96.0%であった。
ジアリルジメチルアンモニウムクロリドと二酸化硫黄との1:1二元共重合体の合成例
攪拌機、冷却管、温度計を備えた500mL四ツ口セパラブルフラスコにて、65質量%のDADMAC248.7g(1.0モル)、及びSO264.1g(1.0モル)を、水210.0gに溶解させた。次に28.5質量%の過硫酸アンモニウム水溶液16.5gを添加し、18〜60℃で72時間、重合を行い、比較例5に用いる標記の共重合体を製造した。重合終了後の溶液をGPC法にて測定したところ、重量平均分子量は4,200、重合率は95.0%であった。
溶解性、腐食量、腐食抑制率及び性能低下率の測定
上記各合成例、比較合成例で得られた共重合体について、以下の方法にて洗浄液組成物の調整、及び評価を行った。
3.5質量%の塩酸水溶液からなる洗浄液水溶液(以下、「酸液」)500mLに、上記各合成例、比較合成例で製造した共重合体(本発明の腐食抑制剤を構成する)を、表1に従い、50mg、又は1000mg(固形分換算)添加し、洗浄液組成物を得た。
上記洗浄液組成物の調整において、腐食抑制剤を洗浄液水溶液に添加したときの溶液の状態を目視にて観察し、溶解性を評価した。濁りが認められた状態のものを「濁り有り」、完全に溶解し、濁りが認められなかった状態のものを「濁り無し」とした。
上記の方法により調製した洗浄液組成物を80℃まで加温した後、この洗浄液組成物に熱間圧延鋼板(JIS3131)を180番の耐水研磨紙で研磨したものを10分間浸漬した。試験片表面積と、浸漬前後の試験片の重量測定結果から、下記式(1)に従って、腐食量を算出した。
腐食量(mg/cm2)=[浸漬前試験片重量(mg)−浸漬後試験片重量(mg)]/試験片表面積(cm2) − (1)
上記式(1)で算出した腐食量の結果から、下記式(2)に従って、腐食抑制率を算出した。
腐食抑制率(%)=[比較例6の腐食量(mg/cm2)−各実施例又は比較例の腐食量(mg/cm2)]×100/比較例6の腐食量(mg/cm2) − (2)
腐食抑制剤の添加量1000mgのときの腐食抑制率と、同50mgのときの腐食抑制率とから、下記式(3)に従って、性能低下率を算出した。
性能低下率(%)=100−A −(3)
(A=(添加量1000mg時の腐食抑制率(%)×100)/添加量50mg時の腐食抑制率(%))
表1を参照すると、本発明の金属の酸洗浄用腐食抑制剤は、酸液に対する溶解性がよいことが判る。加えて、本発明の金属の酸洗浄用腐食抑制剤は、添加量50mg、及び添加量1000mgのいずれの濃度においても腐食抑制率が高く、しかも、濃度が変化しても腐食抑制率があまり変わらず、性能低下率が低いという特徴があることが判明した。
P(DADMAC−MA−SO2):ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド/マレイン酸/SO2)
P(DADMAC−MA):ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド/マレイン酸)
P(DADMAC−AMPS−SO2):ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸/SO2)
P(DA・HCl−SO2):ポリ(ジアリルアミン塩酸塩/SO2)
P(DADMAC−SO2):ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド/SO2)
Claims (7)
- 下記の構造式(Ia)、若しくは(Ib)で示される構造、又はその無機酸塩、若しくは有機酸塩である構造、又は下記の構造式(IIa)、若しくは(IIb)で示される構造、を有するカチオン性構成単位(A)少なくとも1種
(但し、上記式(Ia)、及び(Ib)中、R1は、水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、上記式(IIa)、及び(IIb)中、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、X−はカウンターイオンである。)、
下記の構造式(III)、(IV)、又は(V)で示されるアニオン性構成単位(B)少なくとも1種
(但し上記式(III)中、R4は、水素又はメチル基であり、(III)、(IV)、及び(V)中、Yは、結合するカルボキシ基ごとにそれぞれ独立に水素、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/2Fe、1/3Al、又は1/3Feである。)、並びに
下記の構造式(VI)で示される構成単位(C)を有する両性高分子化合物(P)を含んでなる金属の酸洗浄用腐食抑制剤。
- 前記カウンターイオンX−が、有機酸、又は無機酸由来のアニオンである、請求項1に記載の腐食抑制剤。
- 前記カチオン性構成単位(A)の少なくとも一部が、ジアリルアミン類、並びにその無機酸塩、及び有機酸塩から選ばれるカチオン性単量体から導かれるものである、請求項1に記載の腐食抑制剤。
- 前記カチオン性構成単位(A)の少なくとも一部がジアリルジメチルアンモニウムクロリドから導かれるものであり、前記アニオン性構成単位(B)の少なくとも一部がマレイン酸から導かれるものである、請求項1に記載の腐食抑制剤。
- 下記の構造式(VII)で示される構造、又はその無機酸塩、若しくは有機酸塩である構造、又は下記の構造式(VIII)で示される構造、を有する単量体(α)少なくとも1種、
(但し、上記式(VII)中、R5は、水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、式(VIII)中、R6及びR7は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、Z−はカウンターイオンである。)、
イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸、及びメチレンマロン酸、並びにこれらのカルボキシル基中の水素の全部又は一部が、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/2Fe、1/3Al、及び1/3Feから選ばれる少なくとも1種で置換された化合物からなる群から選ばれる単量体(β)少なくとも1種、並びに
二酸化硫黄を共重合して得られる両性高分子化合物(P’)を含んでなる、金属の酸洗浄用腐食抑制剤。 - 酸液及び請求項1から5のいずれか1項に記載の腐食抑制剤を含んでなる洗浄液組成物であって、前記両性高分子化合物(P)又は、前記両性高分子化合物(P’)の含有量が、該酸液1Lに対して0.1〜50000mgであることを特徴とする、上記洗浄液組成物。
- 請求項6に記載の洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物で浸漬することにより洗浄することを特徴とする金属の洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012524505A JP5630672B2 (ja) | 2010-07-15 | 2011-06-20 | 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010160164 | 2010-07-15 | ||
JP2010160164 | 2010-07-15 | ||
PCT/JP2011/064025 WO2012008269A1 (ja) | 2010-07-15 | 2011-06-20 | 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 |
JP2012524505A JP5630672B2 (ja) | 2010-07-15 | 2011-06-20 | 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012008269A1 JPWO2012008269A1 (ja) | 2013-09-09 |
JP5630672B2 true JP5630672B2 (ja) | 2014-11-26 |
Family
ID=45469279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012524505A Active JP5630672B2 (ja) | 2010-07-15 | 2011-06-20 | 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130109607A1 (ja) |
JP (1) | JP5630672B2 (ja) |
WO (1) | WO2012008269A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101732657B1 (ko) | 2016-03-17 | 2017-05-04 | 주식회사 성창 | 금속재료의 산세정 조성물 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6350829B2 (ja) * | 2015-10-15 | 2018-07-04 | 日東紡績株式会社 | ジアリルアミン類と二酸化硫黄との共重合体、及びその製造方法。 |
JP2019048284A (ja) * | 2017-09-12 | 2019-03-28 | オルガノ株式会社 | シリカ系スケール抑制剤およびシリカ系スケールの抑制方法 |
US20190233327A1 (en) * | 2017-12-28 | 2019-08-01 | Guardian Glass, LLC | Anti-Corrosion Coating for a Glass Substrate |
US12087576B2 (en) * | 2018-04-06 | 2024-09-10 | Nissan Chemical Corporation | Composition for forming coating film and method for manufacturing semiconductor device |
JP7236635B2 (ja) * | 2019-02-28 | 2023-03-10 | 藤倉コンポジット株式会社 | 表面処理剤及びその製造方法、並びに表面処理基材及び表面処理方法 |
JP7530847B2 (ja) | 2021-02-25 | 2024-08-08 | 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 | カチオン電着塗料組成物 |
KR102457605B1 (ko) * | 2022-01-28 | 2022-10-20 | 김영량 | 산세척 과정에서 구조물의 부식을 억제하기 위한 부식억제제 조성물 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003226988A (ja) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Sugimura Kagaku Kogyo Kk | 金属材料の腐食防止剤および酸洗浄液 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4317298B2 (ja) * | 1999-10-21 | 2009-08-19 | 朝日化学工業株式会社 | 金属の変色防止剤組成物、変色防止液および変色防止方法 |
JP2001207281A (ja) * | 2000-01-26 | 2001-07-31 | Asahi Kagaku Kogyo Co Ltd | 酸洗浄用腐食抑制剤、それを含んだ洗浄液組成物および金属表面の洗浄方法 |
JP2003166089A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Asahi Kagaku Kogyo Co Ltd | 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、それを含んだ洗浄組成物およびこれを用いる金属の洗浄方法 |
JP4230153B2 (ja) * | 2002-02-22 | 2009-02-25 | 花王株式会社 | 硬質表面用防汚洗浄剤 |
US7544649B2 (en) * | 2002-02-22 | 2009-06-09 | Kao Corporation | Antifouling detergent for hard surfaces |
JP5342126B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2013-11-13 | 花王株式会社 | 漂白剤組成物 |
KR101250090B1 (ko) * | 2008-04-23 | 2013-04-03 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 연마제 및 이 연마제를 이용한 기판의 연마방법 |
JP5464409B2 (ja) * | 2009-03-26 | 2014-04-09 | 日東紡績株式会社 | ジアリルジアルキルアンモニウム塩とマレイン酸との共重合体の製造方法 |
-
2011
- 2011-06-20 US US13/808,670 patent/US20130109607A1/en not_active Abandoned
- 2011-06-20 WO PCT/JP2011/064025 patent/WO2012008269A1/ja active Application Filing
- 2011-06-20 JP JP2012524505A patent/JP5630672B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003226988A (ja) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Sugimura Kagaku Kogyo Kk | 金属材料の腐食防止剤および酸洗浄液 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101732657B1 (ko) | 2016-03-17 | 2017-05-04 | 주식회사 성창 | 금속재료의 산세정 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130109607A1 (en) | 2013-05-02 |
JPWO2012008269A1 (ja) | 2013-09-09 |
WO2012008269A1 (ja) | 2012-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5630672B2 (ja) | 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 | |
JP4514794B2 (ja) | イタコン酸単独重合体又は共重合体を用いた金属表面の不動態化方法 | |
JP4685102B2 (ja) | 酸性基を有するポリマーを使用して金属表面を不動態化する方法 | |
KR101044873B1 (ko) | 녹방지 처리제 및 녹방지 처리방법 | |
KR20080032082A (ko) | 산성 기를 가지는 중합체 및 왁스를 포함하는 제제를이용한 금속 표면의 부동태화 방법 | |
JP2013540202A (ja) | 金属表面を不動態化する方法 | |
KR20180036984A (ko) | 표면 처리제, 피막의 제조 방법 및 피막 부착 금속 재료 | |
JP2022502240A (ja) | アルミニウム含有基材の表面を処理する方法 | |
TW201348150A (zh) | 冷卻水系統的處理方法 | |
JP5477219B2 (ja) | 金属の酸洗浄に用いる腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 | |
US20150211130A1 (en) | Anti-corrosive agent for washing of metal with acid, detergent solution composition, and method for washing of metal | |
JP5515506B2 (ja) | 電気亜鉛めっき鋼板の製造方法 | |
JP2007204599A (ja) | ジアリルアミン系共重合体及びその製造方法 | |
KR101732657B1 (ko) | 금속재료의 산세정 조성물 | |
JP2014522915A (ja) | カルボキシレート含有コポリマーを使用して金属表面を不動態化するための方法 | |
JP6044804B2 (ja) | ジアリルアミン酢酸塩重合体の製造方法 | |
JPH0480119B2 (ja) | ||
JP2011252220A (ja) | 金属材用酸洗浄液および金属材の酸洗浄方法 | |
JP2005046679A (ja) | スケール防止剤 | |
CN115698381B (zh) | 水性酸浸组合物及其用途 | |
JP2019137884A (ja) | 水溶性防錆剤 | |
JPWO2019026778A1 (ja) | アリルメタアリルアミン系(共)重合体、その製造方法、及びその用途 | |
JP7226317B2 (ja) | 電解めっき液添加剤及びその用途 | |
JPH05239673A (ja) | 腐食抑制剤組成物、これを添加した金属酸洗液および金属の酸洗方法 | |
KR20180021804A (ko) | 알칼리성 아연 도금용 첨가제 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140911 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140924 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5630672 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |