JP5553566B2 - 光学素子、光学系、および光学機器 - Google Patents
光学素子、光学系、および光学機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5553566B2 JP5553566B2 JP2009221630A JP2009221630A JP5553566B2 JP 5553566 B2 JP5553566 B2 JP 5553566B2 JP 2009221630 A JP2009221630 A JP 2009221630A JP 2009221630 A JP2009221630 A JP 2009221630A JP 5553566 B2 JP5553566 B2 JP 5553566B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line
- medium
- refractive index
- optical
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 334
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 152
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 137
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 56
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 46
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 claims description 26
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims description 15
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 117
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 44
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 description 13
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 11
- 230000009471 action Effects 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B15/00—Optical objectives with means for varying the magnification
- G02B15/14—Optical objectives with means for varying the magnification by axial movement of one or more lenses or groups of lenses relative to the image plane for continuously varying the equivalent focal length of the objective
- G02B15/144—Optical objectives with means for varying the magnification by axial movement of one or more lenses or groups of lenses relative to the image plane for continuously varying the equivalent focal length of the objective having four groups only
- G02B15/1441—Optical objectives with means for varying the magnification by axial movement of one or more lenses or groups of lenses relative to the image plane for continuously varying the equivalent focal length of the objective having four groups only the first group being positive
- G02B15/144113—Optical objectives with means for varying the magnification by axial movement of one or more lenses or groups of lenses relative to the image plane for continuously varying the equivalent focal length of the objective having four groups only the first group being positive arranged +-++
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0087—Simple or compound lenses with index gradient
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
Description
0 < νdgi(p)
|ΔθgFgi(p1)|≧0.0272
|Δθgdgi(p1)|≧0.0250
|θgFgi(pmaxgi)−θgFgi(pmingi)|≦0.1
但し、θgF(pmax)およびθgF(pmin)はそれぞれ、媒質中の位置pmaxおよびpminにおけるg線とF線とに関する部分分散比であり、位置pmaxおよびpminはそれぞれ、媒質中においてg線とF線とに関する部分分散比が最大値および最小値となる位置である。p0を媒質中において基準屈折率を有する位置とし、p1を媒質中における位置p0とは異なる位置とし、nF(p1),nd(p1),nC(p1)をそれぞれ媒質の前記位置p1でのF線、d線およびC線に関する屈折率とし、nF(p0),nd(p0),nC(p0)をそれぞれ媒質の位置p0でのF線、d線およびC線に関する屈折率とし、δng(p1),δnF(p1),δnd(p1),δnC(p1)をそれぞれ位置p1でのg線、d線、F線およびC線に関する屈折率差とし、νdgi(p1)を媒質の位置p1でのd線とg線との等価アッベ数とし、θgFgi(p1)を媒質の位置p1におけるg線とF線とに関する等価部分分散比とし、θgdgi(p1)を媒質の位置p1におけるg線とd線とに関する等価部分分散比とする。このとき、
δng(p1)=ng(p1)−ng(p0)
δnd(p1)=nd(p1)−nd(p0)
δnF(p1)=nF(p1)−nF(p0)
δnC(p1)=nC(p1)−nC(p0)
νdgi(p1)=δnd(p1)/{δnF(p1)−δnC(p1)}
θgFgi(p1)={δng(p1)−δnF(p1)}/{δnF(p1)−δnC(p1)}
θgdgi(p1)={δng(p1)−δnd(p1)}/{δnF(p1)−δnC(p1)}
である。
また、ΔθgFgi(p1)およびΔθgdgi(p1)をそれぞれ、等価部分分散比の異常分散性とし、
θgFgi0(p1)=−1.665×10−7νdgi(p1)3+5.213×10−5νdgi(p1)2−5.656×10−3νdgi(p1)+0.7278
θgdgi0(p1)=−1.687×10−7νdgi(p1)3+5.702×10−5νdgi(p1)2−6.603×10−3νdgi(p1)+1.462
とするとき、
ΔθgFgi(p1)=θgFgi(p1)−θgFgi0(p1)
Δθgdgi(p1)=θgdgi(p1)−θgdgi0(p1)
である。
まず、後述する本発明の実施例1〜10に共通する事項について説明する。実施例の光学素子は、媒質中に屈折率分布を有する。そして、該屈折率分布の波長特性について、後述する条件を満足する。
実施例の光学素子は、デジタルスチルカメラ、銀塩フィルムカメラ、ビデオカメラ、望遠鏡、双眼鏡、複写機、プロジェクタ等の光学機器の光学系の一部に用いられる。
実施例の光学素子を構成する「固体材料」とは、光学系に適用して使用する状態で固体となっている材料である。製造時等の光学系に使用する前の状態では、どのような状態であってもよい。例えば、製造時には液体材料であっても、それを硬化させて固体材料としたものも固体材料に該当する。
3次元プリンティング技術では、屈折率の異なる媒質を複数層成形して、屈折率分布を付与する。
|ΔθgFgi(p1)|≧0.0272 …(2)
|Δθgdgi(p1)|≧0.0250 …(3)
|θgFgi(pmaxgi)−θgFgi(pmingi)|≦0.1 …(4)
このとき、媒質中の位置pでの波長λの光線に関する屈折率をnλ(p)とする。この定義に従うと、位置p(=p1,p0)でのフラウンフォーファ線であるg線(435.8nm)、F線(486.1nm)、d線(587.6nm)およびC線(656.3nm)に関する屈折率はそれぞれ以下のように表される。p0は媒質中で基準屈折率を有する位置であり、p1はp0とは異なる媒質中の位置である。
ng(p),nF(p),nd(p),nC(p)
実施例における位置p(=p1,pmax,pmin,pmaxgi,pmingi)でのd線に関するアッベ数νd(p)、g線とd線に関する部分分散比θgd(p)、g線とF線に関する部分分散比θgF(p)はそれぞれ次の通りである。
θgd(p) ={ng(p)−nd(p)}/{nF(p)−nC(p)}
θgF(p) ={ng(p)−nF(p)}/{nF(p)−nC(p)}
g線とd線に関する異常分散性Δθgdおよびg線とF線に関する異常分散性ΔθgFは次の通りである。一般的な光学材料の部分分散比は、アッベ数の変化に対してほぼ同傾向に変化する。このときの部分分散比の標準値θgd0,θgF0をd線に関するアッベ数νdの関数として以下のように表す。
θgd0=−1.687×10−7νd3+5.702×10−5νd2
−6.603×10−3νd+1.462
θgF0=−1.665×10−7νd3+5.213×10−5νd2
−5.656×10−3νd+0.7278
異常分散性とは、この標準値からの差分を示す。すなわち、異常分散性Δθgd,ΔθgFはそれぞれ、
Δθgd=θgd−θgd0
ΔθgF=θgF−θgF0
と表される。
屈折率が媒質中で均質である光学素子(以下、均質レンズという)において、光線は媒質と雰囲気との界面で屈折するが、媒質中では屈折しない。媒質の屈折率は波長によって変化するため、均質レンズで屈折した光線には色収差が生じる。
(すなわち、δng(p1),δnF(p1),δnd(p1),δnC(p1)をそれぞれ位置p1でのg線、d線、F線およびC線に関する屈折率差とすると、
δng(p1)=ng(p1)−ng(p0),
δnd(p1)=nd(p1)−nd(p0),
δnF(p1)=nF(p1)−nF(p0),
δnC(p1)=nC(p1)−nC(p0))
νdgi(p1)=δnd(p1)/{δnF(p1)−δnC(p1)}
θgFgi(p1)
={δng(p1)−δnF(p1)}/{δnF(p1)−δnC(p1)}
θgdgi(p1)
={δng(p1)−δnd(p1)}/{δnF(p1)−δnC(p1)}
媒質中での屈折におけるg線とF線に関する異常分散性ΔθgFgiおよびg線とd線に関する異常分散性Δθgdgiはそれぞれ、
Δθgdgi=θgdgi−θgdgi0
ΔθgFgi=θgFgi−θgFgi0
と表される。但し、θgdgi0およびθgFgi0はそれぞれ等価アッベ数νdgiの関数として、
θgdgi0=−1.687×10−7νdgi3+5.702×10−5νdgi2
−6.603×10−3νdgi+1.462
θgFgi0=−1.665×10−7νdgi3+5.213×10−5νdgi2
−5.656×10−3νdgi+0.7278
とする。
θgdR(r) ={ngR(r)−ndR(r)}/{nFR(r)−nCR(r)}
θgFR(r) ={ngR(r)−nFR(r)}/{nFR(r)−nCR(r)}
ラジアル屈折率分布では、光軸上の屈折率を基準屈折率として、媒質中の屈折率差δnλR(r)を以下の式で表すことができる。
また、0より大きいr1でのラジアル屈折率分布における等価アッベ数νdgiR(r1)および等価部分分散比θgFgiR(r1),θgdgiR(r1)を表すと、以下のようになる。
θgFgiR(r1)
={δngR(r1)−δnFR(r1)}/{δnFR(r1)−δnCR(r1)}
θgdgiR(r1)
={δngR(r1)−δndR(r1)}/{δnFR(r1)−δnCR(r1)}
媒質の屈折におけるg線とF線に関する異常分散性ΔθgFgiRおよびg線とd線に関する異常分散性ΔθgdgiRはそれぞれ、
ΔθgdgiR=θgdgiR−θgdgiR0
ΔθgFgiR=θgFgiR−θgFgiR0
と表される。但し、θgdgiR0およびθgFgiR0はそれぞれ、等価アッベ数νdgiRの関数として、
θgdgiR0=−1.687×10−7νdgiR3
+5.702×10−5νdgiR2
−6.603×10−3νdgiR+1.462
θgFgiR0=−1.665×10−7νdgiR3
+5.213×10−5νdgiR2
−5.656×10−3νdgiR+0.7278
である。
さらに好ましくは、等価アッベ数νdgiR(r)が以下の条件を満足する。
媒質中において、光軸方向に屈折率が変化する屈折率分布を、アキシャル屈折率分布という。アキシャル屈折率分布の波長λにおける屈折率は、媒質中の最も光入射側の点から光軸方向での距離tとすると、次の式で表すことができる。
θgdA(t) ={ngA(t)−ndA(t)}/{nFA(t)−nCA(t)}
θgFA(t) ={ngA(t)−nFA(t)}/{nFA(t)−nCA(t)}
アキシャル屈折率分布では、媒質中の屈折率差δnλA(t)は次式で表すことができる。
また、0より大きいt1において、アキシャル屈折率分布における等価アッベ数νdgiA(t1)および等価部分分散比θgFgiA(t1),θgdgiA(t1)を表すと、以下のようになる。
θgFgiA(t1)
={δngA(t1)−δnFA(t1)}/{δnFA(t1)−δnCA(t1)}
θgdgiA(t1)
={δngA(t1)−δndA(t1)}/{δnFA(t1)−δnCA(t1)}
媒質の屈折におけるg線とF線に関する異常分散性ΔθgFgiAおよびg線とd線に関する異常分散性ΔθgdgiAはそれぞれ、
ΔθgdgiA=θgdgiA−θgdgiA0
ΔθgFgiA=θgFgiA−θgFgiA0
と表される。但し、θgdgiA0およびθgFgiA0はそれぞれ等価アッベ数νdgiAの関数として、
θgdgiA0=−1.687×10−7νdgiA3
+5.702×10−5νdgiA2
−6.603×10−3νdgiA+1.462
θgFgiA0=−1.665×10−7νdgiA3
+5.213×10−5νdgiA2
−5.656×10−3νdgiA+0.7278
である。
さらに好ましくは、等価アッベ数νdgiA(t)は以下の条件式を満足する。
屈折率分布を有する光学素子を作成する方法として、光学素子を構成する媒質が、固体材料と、少なくとも1つの光学材料との混合体からなる場合を考える。屈折率分布を作るには、該固体材料と該光学材料との組成比率を媒質中で空間的に分布(変化)させればよい。実施例では、固体材料と光学材料のg線とF線に関する異常分散性をそれぞれΔθgFs,ΔθgFmとするとき、以下の条件を満足する。
このとき、固体材料と光学材料のd線に関するアッベ数およびg線とF線に関する部分分散比をそれぞれνds、νdm、θgFs、θgFmとする。
但し、λは任意の波長であり、Nmは分散する微粒子等の屈折率であり、N0は微粒子等を分散させるポリマー等の屈折率であり、Vはポリマー等の体積に対する微粒子等の総体積の分率である。
また、収差補正の観点から、更に望ましくは、(1a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
更に望ましくは、(1b)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
光学素子の媒質の屈折における、g線とF線の等価部分分散比に関する条件(2)の数値範囲を以下の範囲とすれば、更に良好に色収差を補正することが可能となる。
また、収差補正の観点から、更に望ましくは、(2a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
更に望ましくは、(2b)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
光学素子の媒質の屈折におけるg線とd線の等価部分分散比に関する条件(3)の数値範囲を以下の範囲とすれば、更に良好に色収差を補正することが可能となる。
更に望ましくは、(3a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
更に望ましくは、(3b)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
光学素子の媒質の屈折におけるg線とF線の等価部分分散比に関する条件(4)の数値範囲は、以下の範囲とすれば、更に良好に色収差を補正することが可能となる。
…(4a)
更に望ましくは、(4a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
…(4b)
ラジアル屈折率分布レンズのg線とF線の部分分散比に関する条件(5)の数値範囲を以下の範囲とすれば、更に良好に色収差を補正することが可能となる。
更に望ましくは、(5a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
更に望ましくは、(5b)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
ラジアル屈折率分布レンズにおけるd線の等価アッベ数に関する条件式(6)の数値範囲を以下の範囲とすれば、更に良好に色収差を補正することが可能となる。
更に望ましくは、(6a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
アキシャル屈折率分布レンズのg線とF線の部分分散比に関する条件式(7)の数値範囲を以下の範囲とすれば、更に良好に色収差を補正することが可能となる。
…(7a)
更に望ましくは、(7a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
…(7b)
更に望ましくは、(7b)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
…(7c)
アキシャル屈折率分布レンズにおけるd線の等価アッベ数に関する条件式(8)の数値範囲を以下の範囲とすれば、更に良好に色収差を補正することが可能となる。
更に望ましくは、(8a)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
更に望ましくは、(8b)の数値範囲を以下に示す範囲とするのがよい。
各実施例では、条件式(1)〜(4)を満足する光学素子を光学系中に使用している。これらの光学素子で構成された屈折面は非球面形状を有していてもよい。これによれば色の球面収差等の色収差フレアを補正することが容易となる。また、これらの光学素子と空気等の雰囲気や屈折率差が大きい光学材料とで境界面を形成すれば、境界面の僅かな曲率変化で色収差を比較的大きく変化させることができ、この結果、色収差の補正が容易となる。
この屈折率分布レンズGgi1は、光軸に直交する方向(径方向)に屈折率が変化するラジアル屈折率分布レンズである。屈折率分布レンズGgi1の媒質は、UV硬化樹脂1に対して、ITO微粒子を、体積比で最大で5.05%、最小で0.0%分散させた混合体である。屈折率分布レンズの光軸から径方向にITO微粒子の組成比率が増加している。
このため、屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、径方向での最外有効位置(以下、有効径位置という)で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最小値となり、有効径位置で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは有効径位置であり、位置pmingiは光軸上の位置である。
実施例1の光学系に用いられた屈折率分布レンズGgi1の光入射側の面と光射出側の面は共に平面形状を有する。このため、雰囲気と媒質の界面での屈折力は実質的に無い。また、媒質の屈折力は負である。g線とF線における等価部分分散比は、一般的な光学材料と比較して小さい。
また、屈折率分布レンズGgi2の媒質は、UV硬化樹脂1に対して、TiO2微粒子を、体積比で最大で3.0%、最小で0.0%分散させた混合体である。光軸から径方向にTiO2微粒子の組成比率が減少している。
このため、屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最小値となり、有効径位置で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは有効径位置であり、位置pmingiは光軸上の位置である
屈折率分布レンズGgi2において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最小値となり、有効径位置で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは有効径位置であり、位置pmingiは光軸上の位置である
実施例2の光学系に用いられた屈折率分布レンズGgi1の光入射側の面と光射出側の面が共に平面形状を有する。このため、雰囲気と媒質の界面での屈折力は実質的に無い。また、媒質の屈折力は負の屈折力を有している。g線とF線における等価部分分散比は、一般的な光学材料と比較して小さい。また、ITO微粒子を分散させる媒質として、異常分散性を有する樹脂を使用している。これにより、等価部分分散比は、より異常分散性を有する。
屈折率分布レンズGgi2の光入射側の面と光射出側の面は共に曲面形状を有する。このため、雰囲気と媒質の境界において屈折力を有する。媒質の屈折力は正である。g線とF線における等価部分分散比は、一般的な光学材料と比較して大きい。
このため、屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。位置pmaxgiは光軸上の位置であり、位置pmingiは有効径位置である。
このため、屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最小値となり、有効径位置で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは有効径位置であり、位置pmingiは光軸上の位置である。
このため、屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最小値となり、有効径位置で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは有効径位置であり、位置pmingiは光軸上の位置である。
また、屈折率分布レンズGgi2においても、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、位置pmaxgiは光軸上の位置であり、位置pmingiは有効径位置である。
屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、位置pmaxgiは光軸上の位置であり、位置pmingiは有効径位置である。
屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、光軸上で最大値となり、有効径位置で最小値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFR(0),θgF(pmin)=θgFR(rea)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、光軸上で最小値となり、有効径位置で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは有効径位置であり、位置pmingiは光軸上の位置である。
屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、最も物体側で最小値となり、最も像側で最大値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFA(timg),θgF(pmin)=θgFA(tobj)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、最も物体側で最大値となり、最も像側で最小値となる。すなわち、位置pmaxgiは最も物体側の位置であり、位置pmingiは最も像側の位置である。
屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、最も物体側で最小値となり、最も像側で最大値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFA(timg),θgF(pmin)=θgFA(tobj)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、最も物体側で最小値となり、最も像側で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは最も像側の位置であり、位置pmingiは最も物体側の位置である。
屈折率分布レンズGgi1において、g線とF線に関する部分分散比は、最も物体側で最小値となり、最も像側で最大値となる。すなわち、θgF(pmax)=θgFA(timg),θgF(pmin)=θgFA(tobj)である。g線とF線に関する等価部分分散比は、最も物体側で最小値となり、最も像側で最大値となる。すなわち、位置pmaxgiは最も像側の位置であり、位置pmingiは最も物体側の位置である。
実施例10の光学系に用いられた屈折率分布レンズGgi1の光入射側の面と光射出側の面は共に曲面形状を有する。このため、雰囲気と媒質の界面での屈折力を有する。また、媒質の屈折力は負である。g線とF線における等価部分分散比は、一般的な光学材料と比較して小さい。
ラジアル屈折率分布
以上説明した各実施例は代表的な例にすぎず、本発明の実施に際しては、各実施例に対して種々の変形や変更が可能である。
IP 像面
ΔM メリディオナル像面
ΔS サジタル像面
Claims (7)
- 媒質が屈折率分布を有する光学素子であって、以下の条件を満足することを特徴とする光学素子。
|θgF(pmax)−θgF(pmin)|≧0.02
0 < νdgi(p)
|ΔθgFgi(p1)|≧0.0272
|Δθgdgi(p1)|≧0.0250
|θgFgi(pmaxgi)−θgFgi(pmingi)|≦0.1
但し、
θgF(pmax)およびθgF(pmin)はそれぞれ、前記媒質中の位置pmaxおよびpminにおけるg線とF線とに関する部分分散比であり、前記位置pmaxおよびpminはそれぞれ、前記媒質中においてg線とF線とに関する部分分散比が最大値および最小値となる位置であり、
p0を前記媒質中において基準屈折率を有する位置とし、p1を前記媒質中における前記位置p0とは異なる位置とし、nF(p1),nd(p1),nC(p1)をそれぞれ前記媒質の前記位置p1でのF線、d線およびC線に関する屈折率とし、nF(p0),nd(p0),nC(p0)をそれぞれ前記媒質の前記位置p0でのF線、d線およびC線に関する屈折率とし、δng(p1),δnF(p1),δnd(p1),δnC(p1)をそれぞれ前記位置p1でのg線、d線、F線およびC線に関する屈折率差とし、
νdgi(p1)を前記媒質の前記位置p1でのd線とg線との等価アッベ数とし、θgFgi(p1)を前記媒質の前記位置p1におけるg線とF線とに関する等価部分分散比とし、θgdgi(p1)を前記媒質の前記位置p1におけるg線とd線とに関する等価部分分散比とするとき、
δng(p1)=ng(p1)−ng(p0)
δnd(p1)=nd(p1)−nd(p0)
δnF(p1)=nF(p1)−nF(p0)
δnC(p1)=nC(p1)−nC(p0)
νdgi(p1)=δnd(p1)/{δnF(p1)−δnC(p1)}
θgFgi(p1)={δng(p1)−δnF(p1)}/{δnF(p1)−δnC(p1)}
θgdgi(p1)={δng(p1)−δnd(p1)}/{δnF(p1)−δnC(p1)}
であり、
ΔθgFgi(p1)およびΔθgdgi(p1)をそれぞれ、前記等価部分分散比の異常分散性とし、
θgFgi0(p1)=−1.665×10−7νdgi(p1)3+5.213×10−5νdgi(p1)2−5.656×10−3νdgi(p1)+0.7278
θgdgi0(p1)=−1.687×10−7νdgi(p1)3+5.702×10−5νdgi(p1)2−6.603×10−3νdgi(p1)+1.462
とするとき、
ΔθgFgi(p1)=θgFgi(p1)−θgFgi0(p1)
Δθgdgi(p1)=θgdgi(p1)−θgdgi0(p1)
であり、
θgFgi(pmaxgi)およびθgFgi(pmingi)はそれぞれ、前記媒質の位置pmaxgiおよびpmingiにおける前記等価部分分散比であり、前記位置pmaxgiおよびpmingiはそれぞれ、前記媒質中における前記位置p0とは異なる位置であって、g線とF線とに関する前記等価部分分散比が最大値となる位置である。 - 前記媒質は固体材料と光学材料とを混合して得られる混合体であり、該固体材料と該光学材料との組成比率は空間的に分布しており、かつ以下の条件を満足することを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
|ΔθgFs−ΔθgFm|≧0.027
但し、ΔθgFsおよびΔθgFmはそれぞれ、前記固体材料および前記光学材料のg線とF線とに関する異常分散性である。 - 請求項1または2に記載の光学素子を含むことを特徴とする光学系。
- 前記条件である|θgF(pmax)−θgF(pmin)|≧0.02として、以下の条件を満足することを特徴とする請求項3に記載の光学系。
|θgFR(rea)−θgFR(0)|≧0.02
但し、reaは前記光学素子の光線有効半径であり、θgFR(rea)およびθgFR(0)はそれぞれ、前記媒質中における前記光学系の光軸に垂直な方向での前記光軸からの距離がreaおよび0となる位置でのg線とF線とに関する部分分散比である。 - 前記条件である|θgF(pmax)−θgF(pmin)|≧0.02として、以下の条件を満足することを特徴とする請求項3に記載の光学系。
|θgFA(tobj)−θgFA(timg)|≧0.02
但し、tobjおよびtimgはそれぞれ、前記光学素子における光軸方向での最も光入射側の点および最も光射出側の点であり、θgFA(tobj)およびθgFA(timg)はそれぞれ、前記媒質中における前記点tobjおよびtimgでのg線とF線とに関する部分分散比である。 - 前記光学素子を含むレンズユニットを有し、該レンズユニットの屈折力をφG、前記媒質の屈折力をφgi、とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項に記載の光学系。
φG×φgi×ΔθgFgi(p1)>0 - 請求項3乃至6のいずれか1項に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009221630A JP5553566B2 (ja) | 2009-09-25 | 2009-09-25 | 光学素子、光学系、および光学機器 |
US12/889,036 US8189265B2 (en) | 2009-09-25 | 2010-09-23 | Optical element having refractive index distribution and optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009221630A JP5553566B2 (ja) | 2009-09-25 | 2009-09-25 | 光学素子、光学系、および光学機器 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011070032A JP2011070032A (ja) | 2011-04-07 |
JP2011070032A5 JP2011070032A5 (ja) | 2012-11-01 |
JP5553566B2 true JP5553566B2 (ja) | 2014-07-16 |
Family
ID=43780106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009221630A Expired - Fee Related JP5553566B2 (ja) | 2009-09-25 | 2009-09-25 | 光学素子、光学系、および光学機器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8189265B2 (ja) |
JP (1) | JP5553566B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013118480A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 撮像レンズおよび撮像装置 |
JP6099966B2 (ja) | 2012-12-21 | 2017-03-22 | キヤノン株式会社 | 撮影光学系及びそれを有する撮像装置 |
KR101719876B1 (ko) * | 2014-11-11 | 2017-03-24 | 삼성전기주식회사 | 촬상 광학계 |
CN106896478B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-05-28 | 玉晶光电(厦门)有限公司 | 光学成像镜头 |
CN107861229B (zh) * | 2017-12-12 | 2023-10-10 | 厦门爱劳德光电有限公司 | 一种高清广角无人机镜头 |
CN110007427B (zh) * | 2018-12-27 | 2021-08-17 | 瑞声光学解决方案私人有限公司 | 摄像光学镜头 |
CN109884779B (zh) * | 2019-03-15 | 2023-10-27 | 广东奥普特科技股份有限公司 | 一种低畸变镜头 |
CN112817122B (zh) * | 2019-11-18 | 2022-05-20 | 成都理想境界科技有限公司 | 一种投影物镜及扫描显示装置 |
KR102418603B1 (ko) | 2019-11-25 | 2022-07-07 | 삼성전기주식회사 | 촬상 광학계 |
CN112596200A (zh) * | 2020-12-04 | 2021-04-02 | 江西晶超光学有限公司 | 光学系统、取像装置及电子装置 |
CN113484987B (zh) * | 2021-07-09 | 2022-11-18 | 天津欧菲光电有限公司 | 光学系统、取像模组及电子设备 |
CN114967298B (zh) * | 2022-05-19 | 2023-06-20 | 南昌龙旗信息技术有限公司 | 激光投影组件和投影设备 |
CN118330856B (zh) * | 2024-06-14 | 2024-08-30 | 歌尔光学科技有限公司 | 投影镜头和3d打印设备 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0422910A (ja) * | 1990-05-18 | 1992-01-27 | Olympus Optical Co Ltd | 大口径中望遠レンズ |
JPH05142469A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-06-11 | Olympus Optical Co Ltd | 大口径中望遠レンズ |
JP3573575B2 (ja) * | 1996-09-04 | 2004-10-06 | オリンパス株式会社 | 光学系 |
JPH10333034A (ja) * | 1997-06-03 | 1998-12-18 | Olympus Optical Co Ltd | 光学系 |
JP2004212643A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Nikon Corp | ワイドコンバーターレンズ |
JP2004212644A (ja) | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Nikon Corp | 撮影レンズ |
JP2004240464A (ja) | 2004-05-25 | 2004-08-26 | Olympus Corp | 光学系 |
JP4745707B2 (ja) * | 2005-04-22 | 2011-08-10 | キヤノン株式会社 | 光学系 |
JP5039393B2 (ja) * | 2007-02-16 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | 光学系及びそれを有する光学機器 |
JP5074790B2 (ja) * | 2007-03-07 | 2012-11-14 | キヤノン株式会社 | ズームレンズ及びそれを有する撮像装置 |
-
2009
- 2009-09-25 JP JP2009221630A patent/JP5553566B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-09-23 US US12/889,036 patent/US8189265B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8189265B2 (en) | 2012-05-29 |
US20110075268A1 (en) | 2011-03-31 |
JP2011070032A (ja) | 2011-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5553566B2 (ja) | 光学素子、光学系、および光学機器 | |
JP4956062B2 (ja) | 光学系 | |
JP4630645B2 (ja) | 光学系 | |
JP4881035B2 (ja) | ズームレンズ及びそれを有する撮像装置 | |
JP5932444B2 (ja) | 光学系及びそれを用いた撮像装置 | |
JP5388446B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP5031378B2 (ja) | ズームレンズ及びそれを有する光学機器 | |
JP5202004B2 (ja) | 接合レンズ及びそれを有する光学系並びに接合レンズの製造方法 | |
JP5074790B2 (ja) | ズームレンズ及びそれを有する撮像装置 | |
JP4898307B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP4745707B2 (ja) | 光学系 | |
JP2015028551A (ja) | 屈折率分布素子を有する光学系 | |
JP2018004726A (ja) | 光学系及びそれを有する撮像装置 | |
JP5039393B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP4944586B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP4776988B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP4579553B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP2012008352A (ja) | 光学素子および光学機器 | |
JP2012022105A (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
KR100837483B1 (ko) | 광학계 및 그것을 가지는 광학기기 | |
JP6440375B2 (ja) | 光学系及びそれを有する撮像装置 | |
JP2017134104A (ja) | ズームレンズ及びそれを有する撮像装置 | |
JP5046746B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP5063226B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
JP6584184B2 (ja) | 光学系および撮像装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120912 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130821 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131210 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140430 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140527 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5553566 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |