JP5534460B2 - 光学活性なα−アミノアセタール類の製造方法 - Google Patents
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/07—Optical isomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
− R1およびR2は、同一であっても異なってもよく、直鎖または分岐したC1〜C12アルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は、非置換であるかまたは4位および/または5位で1つまたは2つ以上の直鎖または分岐したC1〜C6アルキル置換基で置換されている1,3−ジオキソラン−2−イル基か、あるいは非置換であるかまたは4位および/または5位および/または6位で1つまたは2つ以上の直鎖または分岐したC1〜C6アルキル置換基で置換されている1,3−ジオキサン−2−イル基を形成するために結合されており;
− R3は、直鎖または分岐したC1〜C12アルキル基;C2〜C12アルケニル基;C2〜C12アルキニル基;C3〜C10シクロアルキル基;C3〜C10シクロアルケニル基;シクロアルキル基およびアルキル基が上で定義された通りであるシクロアルキルアルキル基;3〜10個の原子を含むヘテロシクロアルキル基;ヘテロシクロアルキル基およびアルキル基が上で定義された通りであるヘテロシクロアルキルアルキル基;単環、二環または三環の、C6〜C14アリール基;5〜14個の原子を含むヘテロアリール基;アリール基、ヘテロアリール基およびアルキル基が上で定義された通りであるアリールアルキル基またはヘテロアリールアルキル基;C(=O)R4基(R4は、上で定義された通りの直鎖または分岐したC1〜C12アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表すか、またはOR5基(ここでR5は、H、上で定義された通りの直鎖または分岐したC1〜C12アルキル基、C3〜C10シクロアルキル基、C3〜C10シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す)を表すか、またはR4が、NHR6基(ここでR6は、H、上で定義された通りの直鎖または分岐したC1〜C12アルキル基、C3〜C10シクロアルキル基、C3〜C10シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す)を表わす)を表し、上記全てのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基およびヘテロアリールアルキル基は非置換であるかまたは置換されており;
− アスタリスク*は、そのC原子が不斉炭素であることを示す]
で表される光学活性なα−アミノアセタール類を製造する方法に関し、
本方法は、ラセミ体の形態にあるかまたはエナンチオマーの混合物の形態にある、式(I):
の化合物を、分割剤で分割することを含み、
前記方法は、下記のステップ:
a)式(I)の化合物を、溶剤中で、一般式(II)〜(VI):
− R7は、直鎖または分岐したC1〜C12アルキル基;C3〜C10シクロアルキル基;シクロアルキル基およびアルキル基が上で定義された通りであるシクロアルキルアルキル基;単環、二環または三環のC6〜C14アリール基;アルキル基およびアリール基が上で定義された通りであるアリールアルキル基;5〜14個の原子を含むヘテロアリール基;またはアルキル基およびヘテロアリール基が上で定義された通りであるヘテロアリールアルキル基を表し、全てのアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は非置換であるかまたは置換されており;
− Pは、9−フルオレニルメトキシカルボニル保護基;−COR8基(ここでR8は、水素、直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基、単環、二環もしくは三環のC6〜C14アリール基を表すか、またはOR9基(ここでR9は直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基か、またはアリール基およびアルキル基が上で定義された通りであるアリールアルキル基を表す)を表す);または−S(O2)R10基(ここでR10は直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基、単環、二環もしくは三環のC6〜C14アリール基、またはアリール基およびアルキル基が上で定義された通りであるアリールアルキル基を表す)を表し、全ての9−フルオレニルメトキシカルボニル基、アルキル基、アリール基およびアリールアルキル基は、非置換であるかまたは置換されており;
− Xは、炭素原子または硫黄原子を表し;
− R、R’、R’’およびR’’’は、互いに独立に、1つまたは2つ以上の水素原子、ハロゲン原子またはヒドロキシル基またはオキソ(=O)基を表し;
− アスタリスク*は、そのC原子が不斉炭素であることを示す]
で表される光学活性なα−アミノ酸と反応させて、
式(VII)〜(XI):
で表されるジアステレオ異性体塩を生成するステップと、
b)媒体中で生成した式(VII)〜(XI)のジアステレオ異性体塩を分離するステップと、
c)式(R)−(I)または(S)−(I)の光学活性なα−アミノアセタールを遊離させるステップと
を含むことを特徴とする。
%ee.(R)=([R]−[S]/[R]+[S])×100
%ee.(S)=([S]−[R]/[R]+[S])×100
[ここで:
− %ee.(R)は、R異性体のエナンチオマー過剰率を表し
− %ee.(S)は、S異性体のエナンチオマー過剰率を表し
− [R]は、R異性体の濃度を表し、また
− [S]は、S異性体の濃度を表す]
の1つに従って算出される。
− R1およびR2は、同一であっても異なってもよく、直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基、特にメチルまたはエチルを表し;
− R3は、置換または非置換の、直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基;置換または非置換の、単環、二環または三環のC6〜C14アリール基、好ましくはフェニル;アリール基およびアルキル基が上で定義された通りである置換または非置換のアリールアルキル基、好ましくはベンジル、またはフェニルエチル;置換または非置換のC3〜C10シクロアルキル基、好ましくはシクロヘキシル;およびシクロアルキル基およびアルキル基が上で定義された通りである置換または非置換のシクロアルキルアルキル基から選択される基を表す。
− R7は、非置換であるかまたは1つまたは2つ以上のヒドロキシル基、−NHP’基、−C(O)NH2基、−NH−C(=NH)−NHP’基、−SH基、−S−CH3基、−CO2H基またはフェニル基で置換されている直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基(ここで、P’は水素またはアセチル基、プロピオニル基、ホルミル基、トシル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメトキシカルボニル基を表す);シクロヘキシル基;フェニル基;非置換であるかまたはハロゲン原子、ヒドロキシル基、NO2基、フェニル基またはC1〜C3アルコキシ基で1回または2回以上置換されているベンジル基またはナフチル基;ピリジル基;イミダゾリルメチル基;ピリジルメチル基;またはチアゾリルメチル基またはインドリルメチル基を表し、
− Pは、アセチル基、プロピオニル基、ホルミル基、トシル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメトキシカルボニル基を表し;
− Xは、炭素原子を表し;
− Rは、水素原子を表す]
で表される光学活性なα−アミノ酸と反応させる。
− ハロゲン基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味し;
− 直鎖または分岐したC1〜C12アルキル基は、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基またはドデシル基を意味し、直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基が好ましく;
− 直鎖または分岐したC2〜C12アルケニル基は、たとえば、エテニル基またはビニル基、プロペニル基またはアリル基、1−プロペニル基、n−ブテニル基、i−ブテニル基、3−メチルブタ−2−エニル基、n−ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基またはデセニル基を意味し、直鎖または分岐したC2〜C4アルケニル基が好ましく;
− 直鎖または分岐したC2〜C12アルキニル基は、たとえば、エチニル基、プロピニル基またはプロパルギル基、ブチニル基、n−ブチニル基、i−ブチニル基、3−メチルブタ−2−イニル基、ペンチニル基またはヘキシニル基を意味し、直鎖または分岐したC2〜C4アルキニル基が好ましく;
− 直鎖または分岐したC1〜C12アルコキシ基は、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、直鎖、二級または三級のブトキシ基、ペントキシ基、ヘキソキシ基またはヘプトキシ基を意味し、直鎖または分岐したC1〜C6アルコキシ基が好ましく;
− シクロアルキル基は、単環または二環のC3〜C10炭素環式基、たとえばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基等を意味し;
− シクロアルケニル基は、少なくとも1つの二重結合を含む単環または二環のC3〜C10炭素環式基、たとえばシクロブテニル基、シクロペンテニル基またはシクロヘキセニル基等を意味し;
− シクロアルキルアルキル基は、シクロアルキル残基およびアルキル残基が上述の意味を持つ基、たとえばシクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロプロピルエチル基またはシクロヘキシルエチル基等を意味し;
− アリール基は、単環、二環または三環のC6〜C14炭素環式芳香族基、たとえばフェニル基、ナフチル基、インデニル基またはアントラセニル基等、およびより詳細にはフェニル基を意味し;
− アリールアルキル基は、アリール残基およびアルキル残基が上述の意味を持つ基、たとえばベンジル基、フェニルエチル基、2−フェニルエチル基またはナフチルメチル基等を意味し;
− ヘテロシクロアルキル基は、酸素原子、窒素原子または硫黄原子から選択される同一であっても異なってもよい1つまたは2つ以上のヘテロ原子で中断された、3〜10個の原子を含む単環または二環の炭素環式基、たとえばジオキソラニル基、ジオキサニル基、ジチオラニル基、チオキソラニル基、オキシラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、モルホリニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基またはチアゾリジニル基等を意味し;
− ヘテロシクロアルキルアルキル基は、ヘテロシクロアルキル残基およびアルキル残基が上述の意味を持つ基を意味し;
− ヘテロアリール基は、酸素原子、窒素原子または硫黄原子から選択される同一であっても異なってもよい1つまたは2つ以上のヘテロ原子で中断された、5〜14個の原子を含む単環、二環または三環の、芳香族または部分的に不飽和の炭素環式基、たとえば、フリル(たとえば、2−フリル)基、チエニル(たとえば、2−チエニル、3−チエニル)基、ピロリル基、ジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、3−または4−イソキサゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、ピリジル(たとえば、2−または3−または4−ピリジル)基、ピリミジニル基、ピリジジニル基、ピラジニル基、テトラゾリル基、ベンゾチエニル(たとえば、3−ベンゾチエニル)基、ベンゾフラニル基、インドリル基、プリニル基、キノリル基、イソキノリル基、クロマニル基またはナフチリジニル基等を意味し;
− ヘテロアリールアルキル基は、ヘテロアリール残基およびアルキル残基が上述の意味を持つ基を意味し;
− アルキル−O−CO−基は、アルキル基が上述の意味を持つ直鎖または分岐したC2〜C12基を意味し;
− アルキレン基は、二価の、直鎖または分岐したC1〜C6炭化水素系基、たとえば、メチレン、エチレン、プロピレンまたはイソプロピレン等を意味し;
− −O−アルキレン−O−基は、アルキレン基が上述の意味を持つ、直鎖または分岐したC1〜C6基を意味し;
− アルキル−SO2−基は、アルキル基が上述の意味を持つ、直鎖または分岐したC1〜C12基を意味し;
− アルキルスルホニルカルバモイル基は、アルキル基が上述の意味を持つ、直鎖または分岐したC2〜C12基を意味し;
− −O−シクロアルキル基は、シクロアルキル基が上述の意味を持つ基を意味し;
− アシルオキシ基は、rがアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表すr−CO−O−基を意味し、これらの基は上述の値を有する、たとえばアセトキシまたはプロピオニルオキシ等を意味し;
− アシルアミノ基は、rが上述の意味を持つr−CO−N−基、たとえばアセトアミド等を意味し;
− アルキル−N−CO−基は、アルキル基が上述の意味を持つ基を意味し;
−アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、およびアリールアルキルアミノ基は、アルキルおよびアリール基が上述の意味を持つ基を意味し;
− アリールオキシ基は、アリール基が上述の意味を持つアリール−O−基、たとえば、フェノキシまたはナフチルオキシ等、を意味する。
− 光学活性なα−アミノ酸は、式(I)の化合物に対して、0.1〜1モル当量、好ましくは0.5モル当量のモル比で存在する;
− 溶剤は、イソプロパノール、エタノール、水、アセトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエンおよびメチルtert−ブチルエーテル、およびそれらの混合物を含む群より選択される;
− 式(I)の化合物の濃度は、1〜40重量%、好ましくは3〜9重量%である;
− 反応温度は、特に、加熱および冷却中、温度保持または温度勾配を実施しながら、0℃〜120℃の間、好ましくは、5℃から反応媒体の沸点までの間である;
− 反応持続時間は、30分〜48時間の間である。
− ステップb)の間に分離されなかった、上で定義された一般式(VI)〜(XI)で表されるジアステレオ異性体塩を、反応媒体から回収するステップと、
− 式(R)−(I)または(S)−(I)の光学活性なα−アミノアセタールを遊離させるステップと
を含む方法に関する。
− R7は、非置換であるかまたは1つまたは2つ以上のヒドロキシル基、−NHP’基、−C(O)NH2基、−NH−C(=NH)−NHP’基、−SH基、−S−CH3基、−CO2H基またはフェニル基で置換されている直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基(ここで、P’は、水素またはアセチル基、プロピオニル基、ホルミル基、トシル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメトキシカルボニル基を表す);シクロヘキシル基;フェニル基;非置換であるかまたはハロゲン原子、ヒドロキシル基、NO2基、フェニル基またはC1〜C3アルコキシ基で1回または2回以上置換されているベンジル基またはナフチル基;ピリジル基;イミダゾリルメチル基;ピリジルメチル基;またはチアゾリルメチル基またはインドリルメチル基を表し、
− Pは、アセチル基、プロピオニル基、ホルミル基、トシル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメトキシカルボニル基を表し、
− Xは、炭素原子を表し、
− Rは、水素原子を表す]
のジアステレオ異性体塩が好ましい化合物である。
− (R)−1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、
− (R)−1−イソブチル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−イソブチル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−フェニル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、
− (R)−1−フェニル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、
− (R)−1−(4−メチルベンジル)−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−(4−メチルベンジル)−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、および
− (S)−1−(2−フェニルエチル)−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート。
N−アセチル−(L)−フェニルアラニンを用いたラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンの分割
1)(R)−1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネートの調製
(式(VII)−R1=R2=メチル、R3=R7=ベンジル、P=アセチルの化合物)
メカニカルスターラー、コンデンサーおよび温度計を具備する250mlの三つ口フラスコ内で、6g(30.8mmol、1モル当量)のラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンおよび3.18g(15.4mmol、0.5モル当量)のN−アセチル−(L)−フェニルアラニン(Sigma Aldrich)を、94gのイソプロパノール(6%溶液)中に導入する。この媒体を撹拌し、50℃で3時間加熱し、次いで40℃で2時間、温度保持を実施する。この保持の終わりに、温度を徐々に常温に戻し、この温度で一晩、撹拌を続ける。
− 分子式:C22H30N2O5
− モル質量:402.49g.mol−1
− NMR(200MHz/DMSO−d6):
1H NMR:δ 1.78(s,3H,CH3);2.63−2.74および3.05−3.14(syst.AB,2H,CH2);2.79−2.92(m,2H,CH2);3.2−3.4(m,1H,CH);3.33(s,3H,CH3),3.38(s,3H,CH3),4.2(d,J=4.8Hz,1H,CH),4.32(m,1H,CH);5.11(broad s,NH3 +);7.1−7.4(m,10H,Haromatic)および7.86(d,1H,NH)ppm.
13C NMR:δ22.56(CH3);36.06(CH2);37.31(CH2);53.36(CH);54.51(CH);54.85(CH3);55.12(CH3);105.25(CH),125.95−126.23−127.88−128.27−129.16−129.29(CHaromatic);137.96−138.59(Caromatic),168.66(C=O)および173.71(C=O)ppm.
− 融点:Mp=159℃
− 旋光度:α25 D=+42.2°(MeOH,c=1)
(式(R)−(I)または(S)−(I)の化合物 −R1=R2=メチル、R3=ベンジル)
塩を53gのイソプロパノール(5.5%溶液)中で溶解し、媒体を50℃で約1時間30分加熱する。温度を徐々に常温に戻し、媒体を撹拌しながらこの温度に一晩保つ。濾過後、固形物を50mlのシクロヘキサンで洗浄し、40℃で炉乾燥する。
− 分子式:C11H17NO2
− モル質量:195.26g.mol−1
− 沸点:Bp=115〜120℃(5mmHg未満)
− EI MS m/z(%相対強度):164(M−31,11);120(M−75,96);104(M−91,39);91(62);75(100)。
−NMR(200MHz/CDCl3):
1H NMR:δ1.3(s,2H,NH2);2.5(dd,1H,syst AB CH2);3(dd,1H,syst AB CH2);3.15(m,1H,CH);3.49(s,6H,CH3);4.14(d,J=5.6Hz,1H,CH)および7.19−7.4(m,6H,CHaromatic)ppm。
13C NMR:δ38.7(CH2);54.2(CH);55.05および55.19(CH3);107.9(CH);126.3−128.3−128.56−129.1−129.4(CHaromatic)および139.1(Caromatic)ppm。
− キラルHPLC分析(キラルセルOD−H、ヘキサン/イソプロパノール90/10、1ml/分、検出UV 254nmおよび旋光計):
(S)−(−)エナンチオマーtR=5.6分
(R)−(+)エナンチオマーtR=6.5分
− 旋光度:
(S)−(−)エナンチオマー:α25 D=−27.7°(MeOH,c=1)
(R)−(+)エナンチオマー:α25 D=+27.6°(MeOH,c=1)
N−アセチル−(D)−フェニルアラニンを用いたラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンの分割
メカニカルスターラー、コンデンサーおよび温度計を具備する250mlの三つ口フラスコ内で、6g(30.8mmol、1モル当量)のラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンおよび3.18g(15.4mmol、0.5モル当量)のN−アセチル−(D)−フェニルアラニン(Sigma Aldrich)を、94gのイソプロパノール(6%溶液)中に導入する。媒体を撹拌し、50℃で3時間加熱し、次いで、40℃で2時間、温度保持を実施する。この保持の終わりに、温度を徐々に常温に戻し、この温度で一晩、撹拌を続ける。
(式(VII)の化合物 −R1=R2=メチル、R3=R7=ベンジル、P=アセチル)
− 分子式:C22H30N2O5
− モル質量:402.49g.mol−1
− NMR(200MHz/DMSO−d6):
1H NMR:δ1.78(s,3H,CH3);2.63−2.74および3.05−3.14(syst.AB,2H,CH2);2.79−2.92(m,2H,CH2);3.2−3.4(m,1H,CH);3.33(s,3H,CH3),3.38(s,3H,CH3),4.2(d,J=4.8Hz,1H,CH),4.32(m,1H,CH);5.11(broad s,NH3 +);7.1−7.4(m,10H,Haromatic)および7.86(d,1H,NH)ppm。
13C NMR:δ22.56(CH3);36.06(CH2);37.31(CH2);53.36(CH);54.51(CH);54.85(CH3);55.12(CH3);105.25(CH),125.95−126.23−127.88−128.27−129.16−129.29(CHaromatic);137.96−138.59(Caromatic),168.66(C=O)および173.71(C=O)ppm。
− 融点:Mp=159℃
− 旋光度:α25 D=−39.6°(MeOH,c=1)
R1=R2=メチル
R3=イソブチル、フェニル、4−メチルベンジルまたはPh−CH2−CH2−
である、式(R)−(I)または(S)−(I)の化合物の調製
分割剤としてN−アセチル−(L)−または−(D)−フェニルアラニン、様々な溶媒または溶媒混合物、様々な質量濃度の式(I)の生成物、様々な温度条件および様々な反応持続時間を使用して、様々な質量濃度を持つイソプロパノールから生成した沈殿塩類の1回または2回以上の再結晶化を実施して、実施例1または2の操作条件を繰り返す。
(b)N−Cbzタイプのカルバメート誘導体について、キラルHPLCで測定
(c)Ta=常温
N−アセチル−(L)−ロイシンを用いたラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンの分割
マグネティックスターラー、コンデンサーおよび温度計を具備する100mlの二口フラスコ内で、1g(5.1mmol、1当量モル)のラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンを、イソ−PrOH(2.5mmol、0.5当量モル)中6%のN−アセチル−(L)−ロイシン(Sigma Aldrich)溶液に導入する。この媒体を、常温で一晩撹拌する。
N−アセチル−(L)−メチオニンを用いたラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンの分割
小さいフラスコ内で、0.13g(0.6mmol、1当量モル)のラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンおよび0.06g(0.3mmol、0.5当量モル)のN−アセチル−(L)−メチオニンを、1gのイソ−PrOH(11%溶液)中に導入する。このフラスコを、常温で一晩、軌道振動に供する。
N−トシル−(L)−フェニルアラニンを用いたラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンの分割
小さいフラスコ内で、0.1g(0.5mmol、1当量モル)のラセミ1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアミンおよび0.08g(0.25mmol、0.5当量モル)のN−トシル−(L)−フェニルアラニンを、0.15gのMTBE(約30%溶液)に導入する。このフラスコを、常温で一晩、軌道振動に供する。
N−エトキシカルボニル−(D)−フェニルグリシンを用いたラセミ1−イソブチル−2,2−ジメトキシエチルアミンの分割
マグネティックスターラー、コンデンサーおよび温度計を具備する、50mlの丸底フラスコ内で、0.26g(1.6mmol、1当量モル)のラセミ1−イソブチル−2,2−ジメトキシエチルアミンを、0.6gのMTBE/EtOH溶媒混合物(76/24、約25%溶液)中に0.18g(0.8mmol、0.5当量モル)のN−エトキシカルボニル−(D)−フェニルグリシンの溶液に導入する。媒体を、常温で一晩、撹拌し続ける。
N−アセチル−(L)−フェニルアラニンを用いたラセミ1−(2−フェニルエチル)−2,2−ジエトキシエチルアミンの分割
メカニカルスターラー、コンデンサーおよび温度計を具備する50mlの三つ口フラスコ内で、0.22g(0.93mmol、1当量モル)の1−(2−フェニルエチル)−2,2−ジエトキシエチルアミンおよび0.1g(0.46mol、0.5当量モル)のN−アセチル−(L)−フェニルアラニンを、3.45gのイソ−PrOH(6%溶液)中に導入する。媒体を、常温で2時間撹拌し、次いで50℃にしてから徐々に常温に戻す。撹拌を一晩維持する。
Claims (16)
- 式(R)−(I)または(S)−(I):
− R1およびR2は、同一であっても異なってもよく、直鎖または分岐したC1〜C 6 アルキル基を表し;
− R3は、置換されているかまたは置換されていない、直鎖または分岐したC1〜C 6 アルキル基;置換されているかまたは置換されていない、単環、二環または三環の、C6〜C14アリール基;アリール基およびアルキル基が上で定義された通りである、置換されているかまたは置換されていないアリールアルキル基;置換されているかまたは置換されていないC 3 〜C 10 シクロアルキル基;およびシクロアルキル基およびアルキル基が上で定義された通りである、置換されているかまたは置換されていないシクロアルキルアルキル基から選択される基を表し;
− アスタリスク*は、そのC原子が不斉炭素であることを示す]
の光学活性なα−アミノアセタール類を製造する方法であって、
ラセミ体の形態にあるかまたはエナンチオマーの混合物の形態にある、式(I):
の化合物を、分割剤で分割することを含み、
下記のステップ:
a)式(I)の化合物を、溶剤中で、一般式(II):
− R7は、非置換であるかまたは1つまたは2つ以上のヒドロキシル基、−NHP’基、−C(O)NH 2 基、−NH−C(=NH)−NHP’基、−SH基、−S−CH 3 基、−CO 2 H基もしくはフェニル基で置換されている直鎖または分岐したC 1 〜C 6 アルキル基(ここで、P’は水素またはアセチル基、プロピオニル基、ホルミル基、トシル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメトキシカルボニル基を表す);シクロヘキシル基;フェニル基;非置換であるかまたはハロゲン原子、ヒドロキシル基、NO 2 基、フェニル基もしくはC 1 〜C 3 アルコキシ基で1回または2回以上置換されているベンジル基またはナフチル基;ピリジル基;イミダゾリルメチル基;ピリジルメチル基;またはチアゾリルメチル基またはインドリルメチル基を表し;
− Pは、アセチル基、プロピオニル基、ホルミル基、トシル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメトキシカルボニル基を表し;
− アスタリスク*は、そのC原子が不斉炭素であることを示す]
で表される光学活性なα−アミノ酸と反応させて、
式(VII):
で表されるジアステレオ異性体塩を生成するステップと、
b)前記媒体中で生成した式(VII)のジアステレオ異性体塩を分離するステップと、
c)式(R)−(I)または(S)−(I)の光学活性なα−アミノアセタールを遊離させるステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記光学活性なα−アミノ酸が、N−アセチル−(L)−フェニルアラニン、N−アセチル−(D)−フェニルアラニン、N−アセチル−(L)−ロイシン、N−アセチル−(D)−ロイシン、N−アセチル−(L)−バリン、N−アセチル−(D)−バリン、N−アセチル−(L)−チロシン、N−アセチル−(D)−チロシン、N−アセチル−(L)−メチオニン、N−アセチル−(D)−メチオニン、N−アセチル−(L)−アスパラギン、N−アセチル−(D)−アスパラギン、N−トシル−(L)−フェニルアラニン、N−トシル−(D)−フェニルアラニン、N−エトキシα−カルボニル−(L)−フェニルグリシン(N−ethoxyae−carbonyl−(L)−phenylglycine)およびN−エトキシカルボニル−(D)−フェニルグリシンから選択されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記光学活性なα−アミノ酸が、N−アセチル−(L)−フェニルアラニンまたはN−アセチル−(D)−フェニルアラニンから選択されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 式(I)の化合物に対して、0.1〜1モル当量の、光学活性なα−アミノ酸のモル比が使用されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 式(I)の化合物に対して、0.5モル当量の、光学活性なα−アミノ酸のモル比が使用されることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記溶剤が、イソプロパノール、エタノール、水、アセトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエンおよびメチルtert−ブチルエーテル、およびそれらの混合物を含む群から選択されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- ステップa)における前記式(I)の化合物の濃度が、1〜40重量%であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- ステップa)における前記式(I)の化合物の濃度が3〜9重量%であることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- ステップa)における反応温度が、0〜120℃であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- ステップa)における反応温度が5℃〜前記反応媒体の沸点であることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- ステップb)における分離が、前記反応媒体中で生成されるジアステレオ異性体塩の中で最も溶けにくいジアステレオ異性体塩の沈殿、および前記反応媒体からの沈殿したジアステレオ異性体塩の濾過により実施されることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- ステップc)が、前記分離されたジアステレオ異性体塩をアルカリ性水溶液または酸性水溶液で処理することにより実施されることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1に記載される、式(R)−(I)または(S)−(I)で表される前記光学活性なα−アミノアセタールの遊離前に、ステップb)の後に得られる式(VII)で表される前記ジアステレオ異性体塩が、少なくとも1つの再結晶ステップまたは再スラリー化ステップに供されることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 以下:
− ステップb)の間に分離されなかった、請求項1に記載される、一般式(VII)で表されるジアステレオ異性体塩を前記反応媒体から回収するステップ、および
− 式(R)−(I)または(S)−(I)の前記光学活性なα−アミノアセタールを遊離させるステップ、
からなるステップを含むことを特徴とする、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。 - 一般式(VII):
− R1およびR2は、同一であっても異なってもよく、直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基を表し;
− R3は、置換されていない、直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基;置換されていない、単環、二環または三環の、C6〜C14アリール基;アリール基およびアルキル基が上で定義された通りである、置換されていないアリールアルキル基;置換されていないC3〜C10シクロアルキル基;およびシクロアルキル基およびアルキル基が上で定義された通りである、置換されていないシクロアルキルアルキル基から選択される基を表し;
− アスタリスク*は、そのC原子が不斉炭素であることを示し、
− R7は、非置換である直鎖または分岐したC1〜C6アルキル基;シクロヘキシル基;フェニル基;非置換であるベンジル基またはナフチル基;ピリジル基;イミダゾリルメチル基;ピリジルメチル基;またはチアゾリルメチル基またはインドリルメチル基を表し;
− Pは、アセチル基、プロピオニル基、ホルミル基、トシル基、ベンゾイル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基または9−フルオレニルメトキシカルボニル基を表す]
で表されるジアステレオ異性体塩。 - 以下の化合物:
− (R)−1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−ベンジル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、
− (R)−1−イソブチル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−イソブチル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−フェニル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、
− (R)−1−フェニル−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、
− (S)−1−(2−フェニルエチル)−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(L)−フェニルアラニネート、および
− (R)−1−(2−フェニルエチル)−2,2−ジメトキシエチルアンモニウムN−アセチル−(D)−フェニルアラニネート、
から選択されることを特徴とする、請求項15に記載の塩。
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