JP5435743B2 - 光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物およびその硬化物 - Google Patents

Description

本発明は光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物およびその硬化物に関し、硬化後の反りが少なく、耐久性、耐磨耗性に優れた次世代高密度光ディスクを効率的に生産するための樹脂組成物に関する。また、記録層が有機色素系記録膜、無機系記録膜のどちらかの材料に制限されるものではなく双方の材料に適するものである。

今日、実用化されている光ディスク記録媒体として一般的なものは、ＣＤ（コンパクトディスク）、ＭＯ（光磁気ディスク）、ＣＤ−Ｒ（追記型コンパクトディスク）、ＣＤ−ＲＷ（書き換え型コンパクトディスク）等がある。これらは、１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に記録膜、反射膜を形成し、外的要因からこれらを保護する目的で紫外線硬化型コート剤の保護層が設けられている。また近年、更なる記憶容量の向上のためにポリカーボネート基板の厚さを従来の半分の０．６ｍｍにし、２枚の基板を貼り合わせることで、ポリカーボネート基板の複屈折の問題やレーザースポット径を小さくするといった課題をクリアしたＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷ等が実用化されている。これらは、何れも０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に記録膜、反射膜等を形成し、上記同様に保護、接着の目的で紫外線硬化型樹脂の保護層あるいは接着剤層が設けられている。

しかしながら、近年のデジタル放送時代において、その大容量化に対応する記録媒体としてＤＶＤ記録媒体では未だ容量不足である。そこで、次世代の高密度光ディスクとして、基板上に記録膜、１００μｍの透明層を積層し、ポリカーボネート基板からではなく、透明層側から青色レーザー光により書き込み及び読み取りを行うタイプの光ディスク（ブルーレイディスクなど）が提案（特許文献１）、実用化されている。

この透明層（カバー層）の形成方法としては、１００μｍ程度の透明フィルムを貼り合わせる方法と紫外線硬化型樹脂をスピンコート法で塗布し、次いで紫外線で硬化、形成する方法が提案されている（特許文献２、特許文献３）。

特開平１１−２７３１４７号公報 特開２００２−２３０８３１号公報 特開２００５−１７１１５４号公報

しかしながら、これらのカバー層では、１００μｍという厚みからＣＤ等の保護膜と同じように硬い樹脂組成にすると基板が反ってしまい、書き込み及び読み込み時にエラーが生じてしまう。そのためカバー層は硬化時に反らない程度の硬度とするのが必要であるが、低硬度であると傷が入りやすく同様にエラーを生じやすくなるため、その上にハードコート層を設けているのが現状である。またさらに記録膜が有機色素系の場合には、レーザーでの記録時に色素の構造変化を行い易くするために、カバー層と色素記録膜層との間に硬化時の弾性率が低い記録補助層を設けることが必要であり、３層構成となっているのが現状である。これらの方法においてはディスクの生産において効率的では無く、生産速度、歩留まり、生産装置という面においてコストアップの要因となっている。

本発明者らは前記課題を解決する為に鋭意検討の結果、紫外線硬化型樹脂組成物の硬化膜の力学的損失係数ｔａｎδをある特定の範囲でコントロールすることで、外部からの力に対して速やかに変形、復元する樹脂組成を見出した。つまり硬化時に基板に反りを与えない程度の低硬度の樹脂組成においても、傷が入りにくく且つ入った場合においても速やかに復元し、有機色素に記録した際の色素の構造変化にも追従する、ハードコート層及び／または記録補助層を必要としないカバー層材料を開発するに至ったのである。

すなわち本発明は、次の（１）〜（１１）に関する。
（１）樹脂組成物中に、１５〜７０重量％の分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、５〜５０重量％のウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）、２〜５０重量％のエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）、及び１〜１０重量％の光重合開始剤（Ｄ）を含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、その硬化膜のガラス転移点温度が１０〜６５℃で、且つ硬化膜の力学的損失係数ｔａｎδの最大値が０．３５〜０．７５の範囲であることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（２）分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）が、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及びエチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選択される１種又は２種以上である、上記（１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（３）樹脂組成物中に、２０〜６０重量％の分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、５〜４０重量％のウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）、２〜４０重量％のエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）、及び１〜１０重量％の光重合開始剤（Ｄ）を含有する、上記（１）又は（２）記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（４）前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応物である上記（１）乃至（３）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（５）前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールＡ型エポキシジアクリレートである上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（６）光重合開始剤（Ｄ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン］、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドからなる群から選択される１種又は２種以上である上記（１）乃至（５）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（７）（Ａ）以外の、その他のエチレン性不飽和化合物（Ｅ）を含有する上記（１）乃至（６）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（８）リン酸（メタ）アクリレートを更に含有する上記（１）乃至（７）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（９）青色レーザーにより記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層用保護コート剤である上記（１）乃至（８）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１０）上記（１）乃至（９）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に紫外線を照射することを含む、前記組成物の硬化物の製造方法。
（１１）上記（１）乃至（９）のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に紫外線を照射して得られる硬化物の層を有する光ディスク。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物及びその硬化物は、硬化後の反りが少なく、耐久性に優れ、且つ傷や凹みの復元性に優れた次世代高密度光ディスクの提供を可能にし、更には効率的に生産するために従来から使用されているハードコート層や記録補助層を省くことを可能にしたものであり、青色レーザーを用いて記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層を形成するカバー層用樹脂として有用である。

本発明は、樹脂組成物中に、１５〜７０重量％の分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、５〜５０重量％のウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）、２〜５０重量％のエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）、及び１〜１０重量％の光重合開始剤（Ｄ）を含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、その硬化膜の動的粘弾性、特にガラス転移点温度が１０〜６５℃で、且つ硬化膜の力学的損失係数ｔａｎδの最大値が０．３５〜０．７５の範囲に入ることを特徴としている。即ち、本発明の樹脂組成物においては、上記の（Ａ）〜（Ｄ）の組成割合を有し、且つ硬化膜のガラス転移点温度が１０〜６５℃で、且つ硬化膜の力学的損失係数ｔａｎδの最大値が０．３５〜０．７５の範囲に入る場合は、硬化後および耐久性試験後の反りが少なく、耐久性に優れ、さらには耐磨耗性において優れた性能を持つ硬化膜を得ることができる。
硬化膜の力学的損失係数ｔａｎδの値は、動的粘弾性測定によって得られる損失弾性率と貯蔵弾性率との比から容易に求めることができる（ＪＩＳ Ｋ ７２４４−１）。ｔａｎδ値が０．３５より低い場合は樹脂の剛性が大きいため、基板へ与える反り量が大きくなり、０．７５より高い場合は剛性が小さいため、耐磨耗性が劣る傾向がある。
また、硬化膜のガラス転移点温度は、ｔａｎδの値が最大値となる温度から求めることができる。なお、本発明の範囲外である、ガラス転移点温度が１０℃より低い場合は樹脂が柔らかくなりすぎるため、耐磨耗性が劣り、６５℃より高い場合は樹脂が硬くなりすぎるため、基板へ与える反り量が大きくなる傾向がある。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物では、希釈成分として、分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）を必須成分として使用する。例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。組成物中の使用量としては内割で、通常１５〜７０重量％、好ましくは２０〜６０重量％程度である。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物に含有されるウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）は、分子中に２個以上の水酸基を有する多価アルコール及び有機ポリイソシアネート化合物から得られるウレタンオリゴマーと、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とを反応させることによって得られる。
多価アルコールとしては例えば、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−〔ヒドロキシメチル〕−シクロヘキサン等、これら多価アルコールと多塩基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られるポリエステルポリオール、多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトンアルコール、ポリカーボネートポリオール（例えば１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等）又はポリエーテルポリオール（例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等）等が挙げられる。

有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート等のジイソシアネート類、又はジシクロペンタニルイソシアネート等のイソシアネート類が挙げられる。
ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
反応は以下のようにして行う。即ち、多価アルコールにその水酸基１当量あたり有機ポリイソシアネートをそのイソシアネート基が好ましくは１．１〜２．０当量になるように混合し、反応温度を好ましくは７０〜９０℃で反応させ、ウレタンオリゴマーを合成する。次いでウレタンオリゴマーのイソシアネート基１当量あたり、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物をその水酸基が好ましくは１〜１．５当量となるように混合し、７０〜９０℃で反応させて目的とするウレタン（メタ）アクリレートを得ることができる。
上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）は１種又は２種以上を任意割合で混合使用することができる。ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）の組成物中の使用量としては内割で、通常５〜５０重量％、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３８重量％程度である。ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）の分子量としては４００〜１００００が好ましい。

本発明において使用するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、好ましくは分子中に２個以上のエポキシ残基を有するエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられ、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応により得られる。原料となるエポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、カテコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル等のフェニルジグリシジルエーテル、ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｓ型エポキシ樹脂、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、水素化ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、水素化ビスフェノール−Ｓ型エポキシ樹脂、水素化２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化合物等の水素化ビスフェノール型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂等のハロゲノ化ビスフェノール型エポキシ化合物、ＥＯ／ＰＯ変性ビスフェノール型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル化合物等の脂環式ジグリシジルエーテル化合物、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル等の脂肪族ジグリシジルエーテル化合物、ポリサルファイドジグリシジルエーテル等のポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物、ビフェノール型エポキシ樹脂、ポリエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。

これらエポキシ化合物の市販品としては、例えばｊＥＲ８２８、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００３、ｊＥＲ１００４（いずれもジャパンエポキシレジン製）、エポミックＲ−１４０、エポミックＲ−３０１、エポミックＲ−３０４（いずれも三井化学製）、ＤＥＲ−３３１、ＤＥＲ−３３２、ＤＥＲ−３２４（いずれもダウ・ケミカル社製）、エピクロン８４０、エピクロン８５０（いずれも大日本インキ製）ＵＶＲ−６４１０（ユニオンカーバイド社製）、ＹＤ−８１２５（東都化成社製）等のビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ＵＶＲ−６４９０（ユニオンカーバイド社製）、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、ＹＤＦ−８１７０（いずれも東都化成社製）、エピクロン８３０、エピクロン８３５（いずれも大日本インキ製）等のビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、ＨＢＰＡ−ＤＧＥ（丸善石油化学製）、リカレジンＨＢＥ−１００（新日本理化製）等の水素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ＤＥＲ−５１３、ＤＥＲ−５１４、ＤＥＲ−５４２（いずれもダウ・ケミカル社製）等の臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、エポライト３００２（共栄社化学製）等のＰＯ変性ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、セロキサイド２０２１（ダイセル製）、リカレジンＤＭＥ−１００（新日本理化製）、ＥＸ−２１６（ナガセ化成製）等の脂環式エポキシ樹脂、ＥＤ−５０３（旭電化製）、リカレジンＷ−１００（新日本理化製）、ＥＸ−２１２、ＥＸ−２１４、ＥＸ−８５０（いずれもナガセ化成製）等の脂肪族ジグリシジルエーテル化合物、ＦＬＥＰ−５０、ＦＬＥＰ−６０（いずれも東レチオコール製）等のポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物、ＹＸ−４０００（ジャパンエポキシレジン製）等のビフェノール型エポキシ化合物、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｐ（いずれも共栄社化学製）等のポリエーテル型エポキシ化合物が挙げられる。
上記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）は１種又は２種以上を任意割合で混合使用することができる。エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）の組成物中の使用量としては内割で、２〜５０重量％、好ましくは２〜４０重量％、特に好ましくは３〜３５重量％程度である。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物に含有される光重合開始剤（Ｄ）としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュアー１８４；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（イルガキュアー２９５９；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（イルガキュアー１２７；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（イルガキュア６５１；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]（エサキュアＯＮＥ；ランバルティ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ダロキュア１１７３；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（イルガキュアー９０７；チバスペシャリティーケミカルズ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ルシリンＴＰＯ：ＢＡＳＦ製）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュアー８１９；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。

光重合開始剤（Ｄ）として、好ましくは、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュアー１８４；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（イルガキュアー２９５９；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（イルガキュアー１２７；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）、オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]（エサキュアＯＮＥ；ランバルティ製）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（イルガキュアー９０７；チバスペシャリティーケミカルズ製）、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ルシリンＴＰＯ：ＢＡＳＦ製）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュアー８１９；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）が挙げられる。

これらの光重合開始剤は１種類でも複数でも任意の割合で混合して使用することができ、アミン類等の光重合開始助剤と併用することも可能である。
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物中の光重合開始剤（Ｄ）の含有量としては通常、１〜１０重量％が用いられ、好ましくは３〜８重量％程度である。
本発明で使用しうるアミン類等の光重合開始助剤としては、例えば、ジエタノールアミン、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる。光重合開始助剤を併用する場合、本発明の紫外線硬化型脂組組成物中の含有量としては０．０５〜５重量％が好ましく、特に好ましくは０．１〜３重量％程度である。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物では、分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクレート（Ａ）以外の希釈成分として、その他のエチレン性不飽和化合物（Ｅ）を使用することができる。その他のエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレートモノマー等を挙げることができ、それらは任意に使用しても良い。

その他のエチレン性不飽和化合物（Ｅ）としての（メタ）アクリレートモノマーは、分子中に１個の（メタ）アクリレート基を有する単官能モノマーと分子中に２個以上の（メタ）アクリレート基を有する多官能モノマーに分類できる。
分子中に１個の（メタ）アクリレート基を有する単官能モノマーとしては、例えばジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルジオキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、モルフォリン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート等が挙げられる。

また、分子中に２個以上（メタ）アクリレート基を有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えばネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、等が挙げられる。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物として（メタ）アクリレートモノマーを使用する場合、これら（メタ）アクリレートモノマーは１種でも使用することができるが、２種以上を任意の割合で混合使用することもできる。また、生産性の安定の観点から単官能モノマーは、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルジオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートが好ましく、二官能以上のモノマーは、分子量の大きいものが好ましい。
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物中の、その他のエチレン性不飽和化合物（Ｅ）を使用する場合の含有量としては、適宜変更しても差し支えないが、通常５〜４０重量％程度である。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物においては、必要によりリン酸（メタ）アクリレートを加えることができる。リン酸（メタ）アクリレートは、アルミニウム、銀又は銀合金と接着剤硬化物との接着性を向上させるが、金属膜を腐食させる恐れがありその使用量は制限される。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物に含有し得るリン酸（メタ）アクリレートとしては、リン酸エステル骨格を有する（メタ）アクリレートであれば、モノエステル、ジエステルあるいはトリエステル等特に限定されず、例えば、エチレンオキサイド変性フェノキシ化リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ブトキシ化リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性オクチルオキシ化リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート等が挙げられ、日本化薬（株）社製ＰＭ−２（エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレート）等として入手可能である。本発明においては、エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレートが好ましく用いられる。リン酸（メタ）アクリレートは１種でも使用することができるが、２種以上を任意の割合で混合使用することもできる。リン酸（メタ）アクリレートを本発明の接着用樹脂組成物中に含有させる場合、その含有量は通常０．００５〜５重量％、好ましくは０．０５〜３重量％である。

本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物には、必要に応じて酸化防止剤、有機溶剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、蛍光増白剤、光安定剤（例えば、ヒンダードアミン化合物等）、充填剤等の添加剤を加えてもよい。
光安定剤としての、ヒンダードアミン化合物の具体例として例えば、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルアルコール、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアルコール、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレート（ＬＡ−８２）、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレートが挙げられ、更にチバスペシャルティーケミカルズ社製の、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ １１９ＦＬ、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２０ＦＤＬ、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＭ ９４４ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２ＬＤ、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３Ｓ、ＴＩＮＵＶＩＮ １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ ７６５、ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ、ＴＩＮＵＶＩＮ １１１ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ ７８３ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ ７９１ＦＢ、ＴＩＮＵＶＩＮ ＸＴ８５０ＦＦ、ＴＩＮＵＶＩＮ ＸＴ８５ＦＦ、などが挙げられる。

また、本発明ではカバー層表面に指紋油が付着した際に容易に拭き取れるように、シリコン系またはフッ素系のレベリング剤、表面潤滑剤などでハードコート層表面を改質することができる。好ましいものとしては、シリコン系レベリング剤、例えば、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ＢＹＫ−ＵＶ３５３０、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（商品名 ビックケミー（株）製 ポリ（ジ）メチルシロキサン化合物）、あるいはフッ素系表面改質剤、例えば、モディパーＦ−１００、Ｆ−１１０、Ｆ−２００、Ｆ−２０２、Ｆ−２０２０、Ｆ−２２０、Ｆ−５００、Ｆ−６００（商品名 日本油脂（株）製、フッ素含有ブロックコポリマー）、フタージェント７１０ＦＬ、７１０ＦＸ、７３０ＦＬ、７３０ＦＸ、７５０ＦＬ、７５０ＦＸ（商品名（株）ネオス製、フッ素含有オリゴマー）、等がある。その添加量は、本発明の紫外線硬化型樹脂組成物中の含有量としては０．０１〜５重量％が好ましく、特に好ましくは０．１〜３重量％である

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物は、前記した各成分を攪拌混合により２０〜８０℃で混合溶解して得ることができ、組成物を得た後、濾過してもよい。また、本発明の硬化物は、下記の方法により紫外線、可視光線などの光線を本発明の紫外線硬化型樹脂組成物に照射する事により得ることができる。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物はＢ型粘度計で測定した２５℃の粘度が４００〜６０００ｍＰａ・Ｓであることが好ましい。樹脂組成物の粘度が４００ｍＰａ・Ｓより低い場合は１００μｍ程度の厚さで塗布するためには粘度が低すぎるため、膜厚が薄くなる傾向にあり、６０００ｍＰａ・Ｓより高い場合は１００μｍ程度の厚さに塗布するためには、粘度が高すぎるため、膜厚が厚くなる傾向がある。
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物の光照射硬化は、紫外〜近紫外の光線を照射するランプであれば光源を問わない。例えば、低圧、高圧又は超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、（パルス）キセノンランプ、また無電極ランプなどが挙げられる。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を用いた光透過層用保護コート剤は、膜厚が５０〜１００μｍとなるようにできれば塗工方法は問わないが、塗工方法として、例えば、スピンコート法、２Ｐ法、ロールコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。

また、次世代の高密度光ディスクには読み取り及び／又は書き込みに４００ｎｍ前後の青色レーザーが使用されることから、膜厚９０−１００μｍの硬化物において４０５ｎｍの透過率が８０％以上であることが好ましい。
更には、本発明による光ディスクにおいては、記録光及び／又は再生光が入射する側に当該紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層が構成されているものが好適なものとして挙げられる。また、本発明の光透過層用保護コート剤を用いて形成した光透過層の物理的強度が弱い場合は、必要により当該光透過層の表面にハードコート処理を行うことができる。

以下、本発明について実施例を用いて詳細に説明する。
実施例及び試験例
実施例１〜４及び比較例１〜３の樹脂組成物につき、構成材料及び使用量と記項目を評価したその結果を表１に示した。なお、記載中の「部」は重量部を示す。

本発明において、ガラス転移点温度及び力学的損失係数ｔａｎδの値は、ＪＩＳ Ｋ ７２４４−５に基づく動的粘弾性測定法に従い測定した。即ち、ＦｕｓｉｏｎランプＤバルブを使用し、１Ｊ／ｃｍ²の積算光量において長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、厚さ１ｍｍの大きさになるように硬化させてサンプル片を作製し、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製粘弾性測定装置ＤＭＳ６１００により測定を行った。測定は曲げモードで行い、振幅荷重１０ｍＮ、周波数１０Ｈｚ、昇温速度２℃／分の条件で−５０℃〜２００℃の範囲で測定を行った。なお、ガラス転移点温度はｔａｎδの値が最大値を取る温度とした。

本発明において反り、耐久性、耐磨耗性テストは、下記１〜４のステップを踏みブルーレイディスクを作成して行った。
１．銀反射膜基板は、１．１ｍｍ厚、直径１２ｃｍのブルーレイディスク用のデータが形成されているＰＣ基板に神戸製鋼所社製銀合金ＧＢ−１００を使用し、平均３０ｎｍの膜厚になるようスパッタし、銀反射膜付きディスク基板を作製した。
２．銀反射膜面が上になるようスピンテーブルに乗せ、内径１１．５ｍｍまで覆う様に円状のキャップ処理を行い、ついで本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を２．５ｇ中心部のキャップ上に供給した。
３．本発明の紫外線硬化型樹脂組成物の粘度に合わせ、１０００ｒｐｍから１５００ｒｐｍの速度範囲で４秒から７秒間スピンコートし、各塗布膜厚が９５μｍから１０５μｍとなるよう塗布した。スピンコート終了間際にキセノンフラッシュランプを２ショット照射し、表面の流動性が無くなる程度に硬化させた。
４．キセノンフラッシュランプを使用し、上側から８０Ｊで８ショット照射して本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を完全硬化させ、光透過層を有するブルーレイディスクを得た。

（ａ）反り
樹脂層の膜厚と反りの数値は、光ディスクの機械特性測定装置であるＤｒ．Ｓｃｈｅｎｋ社製Ｐｒｏｍｅｔｅｕｓ ＭＴ−１４６を用いて行った。反りの値はディスクの外周になるにつれて顕著に差が現れるため、外周端に近い半径５８ｍｍの値で評価した。
表中の初期の反り、耐久試験後の反りは下記数式１、数式２により算出した。
（数式１）初期の反り＝塗布後の基板の反り−塗布前の基板の反り
（数式２）耐久性試験後の反り＝８０℃、８５％ＲＨ、２４０時間後の塗布基板の反り−塗布前の基板の反り
反りの単位は度で表示。下記基準で判定を行った。
○（良） ・・・初期反り＞−０．６ 且つ、耐久性試験後の反り量＞−０．６
×（不可）・・・初期反り≦−０．６ 又は／且つ、耐久性試験後の反り量≦−０．６

（ｂ）耐久性試験
耐久性試験としては、前記の工程で作製したブルーレイディスクを８０℃、８５％ＲＨ条件下の恒温恒湿層内に２４０時間静置し、ブルーレイディスク信号データ測定装置であるパルステック社製ＯＤＵ−１０００を用いて評価を行った。評価判定にはジッターを測定し、下記基準で判定を行った。ジッターはブルーレイディスクの電気信号のひとつであり、これらの数値が高いほどブルーレイディスクの信号データが劣化しており１０％以上となるとデータの読み書きが困難となる。
○（良） ・・・ジッター値１０％未満。
×（不可）・・・ジッター値１０％以上。

（ｃ）耐摩耗性テスト
耐摩耗性テストとしては、前記の工程で作製したブルーレイディスクの光透過層面を東洋精機製作所製テーバーアブレージョンテスターＴＳ（磨耗輪Ｎｏ．ＣＳ−１０Ｆ）により２５０ｇ荷重、７０ｒｐｍの速度で５回転磨耗し、前記耐久性試験と同様にジッターを評価し判定を行った。
○（良） ・・・ジッター値１０％未満。
×（不可）・・・ジッター値１０％以上。

なお、表１中に略称で示した各成分は下記の通りである。
ＥＭ−１：エチレンオキサイド１０モル変性ビスフェノールＡ型ジアクリレート、第一工業製薬社製
ＥＭ−２：ポリエチレングリコール（分子量３００）ジアクリレート、第一工業製薬社製ＥＭ−３：エチレンオキサイド３モル変性トリメチロールプロパントリアクリレート、日本化薬社製
ＥＭ−４：エチレンオキサイド４モル変性ビスフェノールＡ型ジアクリレート、第一工業製薬社製
ＵＡ−１：ポリテトラメチレングリコール（分子量８５０）１モルとイソホロンジイソシアネート２モル反応後、２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応して得られたウレタンアクリレート
ＵＡ−２：ポリプロピレングリコール（分子量１０００）１モルとトリレンジイソシアネート２モルとを反応させた後、２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応して得られたウレタンアクリレート
ＥＰＡ−１：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エポキシ当量：１８５ｇ／当量）をエポキシ基１モル当量とアクリル酸１モルを酸価０．５ｍｇ・ＫＯＨ／ｇまで反応して得られたエポキシアクリレート。
イルガキュアー１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャルティーケミカル社製 光重合開始剤
エサキュアＯＮＥ：オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]、ランバルティ社製 光重合開始剤
ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製 光重合開始剤
ＡＭ−１：ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、日立化成工業社製
ＡＭ−２：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
ＡＭ−３：ラウリルアクリレート、日本油脂社製
ＬＡ−８２：１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタアクリレート、旭電化社製
ＰＭ−２：エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレート、日本化薬社製
ＰＭＰ：４−メルカプトフェノール
ＫＢＭ−８０３：３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、信越化学社製
ＢＹＫ−３３３：シリコンレベリング剤、ビックケミー社製
Ｌ−７００２：シリコンレベリング剤、東レ・ダウコーニング社製
フタージェント７３０ＦＬ、フッ素モノマー含有オリゴマー、ネオス社製

表１から明らかなように本発明の紫外線硬化型樹脂組成物及びその硬化物である実施例１〜４は、硬化後および耐久性試験後の反りが少なく、耐久性に優れ、さらには耐磨耗性において優れた性能を持つことが分かる。一方、比較例１〜３においては、ｔａｎδの最大値が０．３５より小さい、またはガラス転移点温度が６５℃より高い樹脂組成の場合は耐久性試験後の反りが大きくなり、ｔａｎδの最大値が０．７５より大きい、またはガラス転移点温度が１０℃より低い樹脂組成の場合は耐磨耗性が劣る結果となっている。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物及びその硬化物では表面の磨耗耐性を補うためのハードコート層を必要としないため、光ディスクの生産工程を簡略化でき、生産効率を向上させる事が可能となっている。よって、本発明は、青色レーザーを用いて記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層を形成する光透過層用保護コート剤として極めて有用である。

本発明は、硬化後の反りが少なく、耐久性、耐磨耗性に優れた次世代高密度光ディスクを効率的に生産することを可能とする。青色レーザーを用いた次世代高密度光ディスクの光透過層用保護コート剤を提供するものであるが、その他、赤色レーザーを用いた光ディスク用材料や、透明性、低反り、耐磨耗性、耐腐食性の保護性能を要する基板のコート剤としても有用である。

Claims (11)

1. 樹脂組成物中に、１５〜７０重量％の分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、５〜５０重量％のウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）、２〜５０重量％のエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）、及び１〜１０重量％の光重合開始剤（Ｄ）を含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、その硬化膜のガラス転移点温度が１０〜６５℃で、且つ硬化膜の力学的損失係数ｔａｎδの最大値が０．３５〜０．７５の範囲であることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
2. 分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）が、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及びエチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選択される１種又は２種以上である、請求項１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
3. 樹脂組成物中に、２０〜６０重量％の分子内にエチレンオキサイド鎖を有する（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、５〜４０重量％のウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）、２〜４０重量％のエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）、及び１〜１０重量％の光重合開始剤（Ｄ）を含有する、請求項１又は２に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
4. 前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールと、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応物である請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
5. 前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールＡ型エポキシジアクリレートである請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
6. 光重合開始剤（Ｄ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン］、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドからなる群から選択される１種又は２種以上である請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
7. （Ａ）以外の、その他のエチレン性不飽和化合物（Ｅ）を含有する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
8. リン酸（メタ）アクリレートを更に含有する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
9. 青色レーザーにより記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層用保護コート剤である請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
10. 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に紫外線を照射することを含む、前記組成物の硬化物の製造方法。
11. 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に紫外線を照射して得られる硬化物の層を有する光ディスク。