JP5424381B2 - 光半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents
光半導体封止用樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5424381B2 JP5424381B2 JP2008328413A JP2008328413A JP5424381B2 JP 5424381 B2 JP5424381 B2 JP 5424381B2 JP 2008328413 A JP2008328413 A JP 2008328413A JP 2008328413 A JP2008328413 A JP 2008328413A JP 5424381 B2 JP5424381 B2 JP 5424381B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- fine particles
- optical semiconductor
- resin composition
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Description
〔1〕 分子末端にアルコキシシリル基を有する分子量100〜3000のポリシロキサン誘導体と、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子とを40〜70℃で重合反応させて得られる光半導体封止用樹脂組成物であって、前記ポリシロキサン誘導体が式(I):
で表される化合物、式(II):
で表される化合物、及びこれらの部分加水分解縮合物からなる群より選ばれる原料化合物を少なくとも1つ含有し、前記金属酸化物微粒子が微粒子表面にヒドロキシル基を0.1重量%以上含有する、光半導体封止用樹脂組成物、
〔2〕 分子末端にアルコキシシリル基を有する分子量100〜3000のポリシロキサン誘導体と、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子とを40〜70℃で重合反応させる工程を含む、前記〔1〕記載の光半導体封止用樹脂組成物の製造方法であって、前記ポリシロキサン誘導体が式(I):
で表される化合物、式(II):
で表される化合物、及びこれらの部分加水分解縮合物からなる群より選ばれる原料化合物を少なくとも1つ含有し、前記金属酸化物微粒子が微粒子表面にヒドロキシル基を0.1重量%以上含有する、光半導体封止用樹脂組成物の製造方法、ならびに
〔3〕 前記〔1〕記載の光半導体封止用樹脂組成物を加熱して硬化させてなる、光半導体封止用樹脂
に関する。
で表される化合物、式(II):
で表される化合物、及びこれらの部分加水分解縮合物からなる群より選ばれる原料化合物を少なくとも1つ含有することが好ましく、ポリシロキサン誘導体はこれらの原料化合物を公知の方法に従って縮合させて得られ、該原料化合物は縮重合することにより、Si−O−Si骨格のランダム構造、ラダー構造、カゴ構造等を有する化合物となる。なお、本明細書において、部分加水分解縮合物とは、式(I)で表わされる化合物のみ、式(II)で表わされる化合物のみ、あるいは式(I)で表される化合物と式(II)で表わされる化合物の混合物、を加水分解して縮重合させたものであり、組成は特に限定されない。
ゲルろ過クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算にて求める。
内部標準物質を用いた1H−NMRによる定量及び示差熱熱重量分析による重量減少の値から算出する。
本明細書において、金属酸化物微粒子の平均粒子径とは一次粒子の平均粒子径を意味し、金属酸化物微粒子の粒子分散液について動的光散乱法で測定して算出される体積中位粒径(D50)のことである。
微粒子分散液に表面処理剤としてエチルトリメトキシシランを加えて反応させ、遠心分離もしくはpH変動によって微粒子を凝集沈降させて、濾別回収、洗浄、乾燥し、示差熱熱重量分析によって重量減量を求めて含有量を算出する。
攪拌機、還流冷却機、及び窒素導入管を備えた容器に、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子として、平均粒子径10〜30nmのコロイダルシリカゾル(商品名「スノーテックスOS」、日産化学社製、固形分濃度20重量%、反応性官能基として水酸基を含有、反応性官能基含有量0.1重量%以上)34g(ポリシロキサン誘導体100重量部に対して19重量部)を入れ、さらにメタノール34g、2-メトキシエタノール20gを添加後、そこに、分子末端にアルコキシシリル基を有するポリシロキサン誘導体〔商品名「KR500」、信越化学社製、式(I)のR1、R2、R3及びR4 はメチル基、分子量1000〜2000、メトキシ含有量28重量%〕35gを2-プロパノール10gに溶解した液を、滴下ロートを用いて30分かけて滴下して、70℃で1時間反応させた。その後、室温(25℃)まで冷却して、減圧下、溶媒を留去して濃縮することにより、実施例1の液状の透明樹脂組成物を得た。得られた組成物の25℃における粘度は15Pa・sであった。また、得られた組成物は、一部を採取して150℃の乾燥機に3時間放置した際の重量変化から反応率を求めたところ、反応率は54%であった。
実施例1と同様の装置に、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子として、平均粒子径7nmの酸化ジルコニア水分散液(商品名「NZD-3007」、住友大阪セメント社製、固形分濃度40重量%、反応性官能基として水酸基を含有、反応性官能基含有量1.0重量%以上)25g(ポリシロキサン誘導体100重量部に対して56重量部)を入れ、さらにメタノール20g、2-メトキシエタノール20gを添加後、濃塩酸を用いて液のpHを2.5に調整した。そこに、分子末端にアルコキシシリル基を有するポリシロキサン誘導体〔商品名「X-40-9225」、信越化学社製、式(I)のR1、R2、R3及びR4 はメチル基、分子量2000〜3000、メトキシ含有量24重量%〕18gを2-プロパノール20gに溶解した液を、滴下ロートを用いて30分かけて滴下して、60℃で1時間反応させた。その後、室温(25℃)まで冷却して、減圧下、溶媒を留去して濃縮することにより、実施例2の半固形状の透明樹脂組成物を得た。得られた組成物の25℃における粘度は25Pa・s、反応率は62%であった。
実施例1と同様の装置に、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子として、平均粒子径50nmのアルミナゾル(商品名「アルミナゾル520」、日産化学社製、固形分濃度30重量%、反応性官能基として水酸基を含有、反応性官能基含有量1.0重量%以上)25g(ポリシロキサン誘導体100重量部に対して50重量部)を入れ、さらにテトラヒドロフラン20g、2-メトキシエタノール20gを添加後、そこに、分子末端にアルコキシシリル基を有するポリシロキサン誘導体(X-40-9225)15gを2-プロパノール15gに溶解した液を、滴下ロートを用いて30分かけて滴下して、60℃で1時間反応させた。その後、室温(25℃)まで冷却して、減圧下、溶媒を留去して濃縮することにより、実施例3の半固形状の透明樹脂組成物を得た。得られた組成物の25℃における粘度は30Pa・s、反応率は69%であった。
実施例1と同様の装置に、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子として、平均粒子径15nmの酸化チタン分散液(商品名「ELCOM NT-1089TTV」、触媒化成社製、メタノール分散液、固形分濃度30重量%、反応性官能基として水酸基を含有、反応性官能基含有量1.0重量%以上)35g(ポリシロキサン誘導体100重量部に対して50重量部)に、ポリシロキサン誘導体(X-40-9225)20gを2-プロパノール20gに溶解した液を、滴下ロートを用いて30分かけて滴下して、70℃で1時間反応させた。その後、室温(25℃)まで冷却して、減圧下、溶媒を留去して濃縮することにより、実施例4の液状の透明樹脂組成物を得た。得られた組成物の25℃における粘度は15Pa・s、反応率は48%であった。
市販のシリコーンエラストマー(商品名「SCR1011」、信越化学社製)30gに、平均粒子径300nmのシリカ粉末(商品名「クォートロン SP-03F」、扶桑化学社製)5g(シリコーン誘導体100重量部に対して17重量部)を混合して、比較例1の樹脂組成物を得た。
シリコーンエラストマー(SCR1011)30gに、平均粒子径20nmの酸化チタン粉末(商品名「TT-51A」、石原産業社製)5g(シリコーン誘導体100重量部に対して17重量部)を混合して、比較例2の樹脂組成物を得た。
実施例1において、コロイダルシリカゾル34.0gを用いる代わりに、微粒子表面の反応性官能基がシランカップリング剤で保護された、平均粒子径10〜20nmのオルガノシリカゾル(商品名「ST-IPA」、日産化学社製、2-プロパノール分散液、固形分濃度20重量%、反応性官能基として水酸基を含有、反応性官能基含有量0.1重量%未満)51.0g(ポリシロキサン誘導体100重量部に対して29重量部)を用いる以外は、実施例1と同様にして、比較例3のシリコーン樹脂組成物を得た。
次に、得られた組成物の特性を、以下の試験例1〜3の方法に従って評価した。結果を表1に示す。
得られた組成物を用いて、青色LED(商品名「C460MB290」、クリー社製)に表1に示す成型機により定法に従って封止を行った。具体的には、トランスファー成型加工機(型式:TDF-37、東邦インターナショナル社製)を用いて成型する場合には、組成物を成型機内で150℃で4分間処理後に封止を行い、120℃で1時間、さらに150℃で1時間加熱を行った。真空プレス装置(ニチゴーモートン社製)を用いて成型する場合には、組成物を装置内で150℃で3分間処理後に封止を行い、その後100℃で1時間、150℃で1時間乾燥機内に保存して反応を完結させた。封止前後の青色LEDの明るさを瞬間マルチ測光システム(MCPD-3000、大塚電子社製)により測定し、下記の式に従って光取り出し効率を求めた。
光取り出し効率(%)=(封止後の輝度/封止前の輝度)×100
得られた組成物を-150℃から25℃まで10℃/分にて昇温した際の線膨張係数を、熱機械分析装置(TMA、セイコーインスツルメント社製)により測定した。
得られた組成物について、ショアD硬度計にてショアD硬度を測定した。
Claims (8)
- 分子末端にアルコキシシリル基を有する分子量100〜3000のポリシロキサン誘導体と、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子とを40〜70℃で重合反応させて得られる光半導体封止用樹脂組成物であって、前記ポリシロキサン誘導体が式(I):
で表される化合物、式(II):
で表される化合物、及びこれらの部分加水分解縮合物からなる群より選ばれる原料化合物を少なくとも1つ含有し、前記金属酸化物微粒子が微粒子表面にヒドロキシル基を0.1重量%以上含有する、光半導体封止用樹脂組成物。 - 金属酸化物微粒子の含有量が、ポリシロキサン誘導体100重量部に対して、10〜200重量部である、請求項1記載の光半導体封止用樹脂組成物。
- 金属酸化物微粒子の平均粒子径が1〜100nmである、請求項1又は2記載の光半導体封止用樹脂組成物。
- 金属酸化物微粒子が、水、アルコール、又はそれらの混合物中に分散されてなる、請求項1〜3いずれか記載の光半導体封止用樹脂組成物。
- アルコキシ基の含有量が、ポリシロキサン誘導体1分子中、18〜55重量%である、請求項1〜4いずれか記載の光半導体封止用樹脂組成物。
- 25℃における粘度が0.01〜30Pa・sである、請求項1〜5いずれか記載の光半導体封止用樹脂組成物。
- 分子末端にアルコキシシリル基を有する分子量100〜3000のポリシロキサン誘導体と、微粒子表面に反応性官能基を有する金属酸化物微粒子とを40〜70℃で重合反応させる工程を含む、請求項1〜6いずれか記載の光半導体封止用樹脂組成物の製造方法であって、前記ポリシロキサン誘導体が式(I):
で表される化合物、式(II):
で表される化合物、及びこれらの部分加水分解縮合物からなる群より選ばれる原料化合物を少なくとも1つ含有し、前記金属酸化物微粒子が微粒子表面にヒドロキシル基を0.1重量%以上含有する、光半導体封止用樹脂組成物の製造方法。 - 請求項1〜6いずれか記載の光半導体封止用樹脂組成物を加熱して硬化させてなる、光半導体封止用樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008328413A JP5424381B2 (ja) | 2008-12-24 | 2008-12-24 | 光半導体封止用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008328413A JP5424381B2 (ja) | 2008-12-24 | 2008-12-24 | 光半導体封止用樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010150342A JP2010150342A (ja) | 2010-07-08 |
JP5424381B2 true JP5424381B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=42569782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008328413A Expired - Fee Related JP5424381B2 (ja) | 2008-12-24 | 2008-12-24 | 光半導体封止用樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5424381B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5602379B2 (ja) * | 2009-04-03 | 2014-10-08 | 日東電工株式会社 | 金属酸化物微粒子含有シリコーン樹脂組成物 |
CN103642386A (zh) * | 2009-06-24 | 2014-03-19 | 旭化成电子材料株式会社 | 聚硅氧烷缩合反应物 |
JP5596960B2 (ja) * | 2009-11-06 | 2014-09-24 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 絶縁膜の形成方法 |
JP4746704B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2011-08-10 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ポリシロキサン縮合反応物 |
JP5827864B2 (ja) | 2011-06-14 | 2015-12-02 | 日東電工株式会社 | 封止用シートおよび光半導体素子装置 |
JP5949184B2 (ja) * | 2012-06-06 | 2016-07-06 | 日立化成株式会社 | 光半導体装置の製造方法 |
WO2016024604A1 (ja) * | 2014-08-14 | 2016-02-18 | コニカミノルタ株式会社 | 無機微粒子含有ポリシルセスキオキサン組成物およびその製造方法、ならびに発光装置およびその製造方法 |
JP6561815B2 (ja) * | 2015-12-14 | 2019-08-21 | 豊田合成株式会社 | 半導体発光装置の製造方法 |
JP7337840B2 (ja) * | 2018-11-30 | 2023-09-04 | デンカ株式会社 | 積層体 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01170668A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-05 | Daihachi Kagaku Kogyosho:Kk | 被覆用塗料組成物の製造方法 |
JP3456240B2 (ja) * | 1993-12-17 | 2003-10-14 | 昭和電工株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法 |
JP2002273233A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-09-24 | Asahi Kasei Corp | 変性光触媒、それを用いた光触媒組成物 |
DE10102739A1 (de) * | 2001-01-23 | 2002-07-25 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Sol-Gel-Kondensaten auf Basis polyfunktioneller Organosilane sowie deren Verwendung |
JP2003275597A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-09-30 | Asahi Kasei Corp | 変性光触媒、及びそれを用いた光触媒組成物 |
JP4882413B2 (ja) * | 2005-02-23 | 2012-02-22 | 三菱化学株式会社 | 半導体発光デバイス用部材及びその製造方法、並びにそれを用いた半導体発光デバイス |
JP4119939B2 (ja) * | 2005-02-23 | 2008-07-16 | 三菱化学株式会社 | 半導体発光デバイス用部材及びその製造方法、並びにそれを用いた半導体発光デバイス |
JP4791083B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2011-10-12 | 信越化学工業株式会社 | 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物 |
JP2007116139A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-05-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体発光デバイス用部材及びその製造方法、並びにそれを用いた半導体発光デバイス |
JP2007277073A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-10-25 | Jsr Corp | 酸化物微粒子分散体およびその製造方法 |
JP2007277505A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-10-25 | Jsr Corp | 酸化物微粒子分散体およびその製造方法 |
JP2008120848A (ja) * | 2006-11-08 | 2008-05-29 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 無機酸化物透明分散液と透明複合体およびその製造方法、発光素子封止用組成物並びに発光素子 |
JP5332101B2 (ja) * | 2006-12-01 | 2013-11-06 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物透明分散液と透明複合体、発光素子封止用組成物および発光素子並びに透明複合体の製造方法 |
JP2009120437A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Niigata Univ | シロキサンをグラフト化したシリカ及び高透明シリコーン組成物並びに該組成物で封止した発光半導体装置 |
JP2010037457A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Nitto Denko Corp | 無機微粒子を含有するシリコーン樹脂組成物 |
JP4785912B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2011-10-05 | 日東電工株式会社 | シリコーン樹脂組成物 |
JP5072820B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2012-11-14 | 日東電工株式会社 | シリコーン樹脂組成物 |
JP4850893B2 (ja) * | 2008-12-24 | 2012-01-11 | 日東電工株式会社 | シリコーン樹脂用組成物 |
JP4772858B2 (ja) * | 2008-12-24 | 2011-09-14 | 日東電工株式会社 | シリコーン樹脂組成物 |
-
2008
- 2008-12-24 JP JP2008328413A patent/JP5424381B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010150342A (ja) | 2010-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5424381B2 (ja) | 光半導体封止用樹脂組成物 | |
JP5072820B2 (ja) | シリコーン樹脂組成物 | |
KR101569533B1 (ko) | 실리콘 수지용 조성물 | |
JP5393107B2 (ja) | シリコーン樹脂組成物 | |
US8173743B2 (en) | Silicone resin composition | |
TWI680152B (zh) | 表面改質金屬氧化物粒子分散液及其製造方法、表面改質金屬氧化物粒子-矽酮樹脂複合組成物、表面改質金屬氧化物粒子-矽酮樹脂複合物、光學構件以及發光裝置 | |
JP4785912B2 (ja) | シリコーン樹脂組成物 | |
US8329290B2 (en) | Silicone resin composition | |
JP5602379B2 (ja) | 金属酸化物微粒子含有シリコーン樹脂組成物 | |
JP5170765B2 (ja) | 熱硬化性組成物及び光半導体装置 | |
EP3101062B1 (en) | Nanoparticle, method for producing nanoparticle, addition curing silicone resin composition, and semiconductor apparatus | |
JP2012012563A (ja) | 熱硬化性シリコーン樹脂用組成物 | |
JP2010037457A (ja) | 無機微粒子を含有するシリコーン樹脂組成物 | |
KR20160127041A (ko) | 광전자 응용제품을 위한 하이브리드 재료 | |
JP5106307B2 (ja) | 金属酸化物微粒子を含有してなる樹脂組成物 | |
JP4785085B2 (ja) | 熱硬化性シリコーン樹脂組成物 | |
JP4772858B2 (ja) | シリコーン樹脂組成物 | |
CN108779334A (zh) | 用于封装led的材料 | |
EP3147329B1 (en) | Heat-curable silicone resin composition, optical semiconductor device and semiconductior package using molded product of same | |
JP4850893B2 (ja) | シリコーン樹脂用組成物 | |
JP5137775B2 (ja) | シリコーン樹脂用組成物 | |
JP5811036B2 (ja) | 縮合硬化性ポリシロキサン組成物 | |
JP6514148B2 (ja) | 縮合硬化型シリコーン樹脂組成物及び半導体装置 | |
KR20120079966A (ko) | 광학소자 봉지용 실리콘 수지 조성물 | |
JP2013035940A (ja) | 無機酸化物粒子含有シリコーン樹脂シート |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130107 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |