JP5304822B2 - 温度センサ - Google Patents
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Description
該温度センサは、表面にPt等からなる電極膜が設けられたY2O3・Ycr/MnO3等の酸化物からなる感温素子と、上記電極膜に接続されたPt等からなる電極線と、該電極線に電気的に接続される信号線を内蔵するシースピンと、上記サーミスタ素子を覆うガラスモールドからなる2層構造の保護層とから構成される(特許文献1参照)。
ところが、保護層を2層構造で形成すると、温度センサの構成が複雑になると共に製造コストが増大してしまうという問題がある。
上記感温素子、上記電極膜、及び上記リード線の線膨張係数をそれぞれTa(/℃)、Tb(/℃)、及びTd(/℃)としたとき、Ta≦Tb≦Tdの関係を満足し、
上記低膨張セラミックスは、窒化珪素のマトリックス粒子よりなるマトリックス相を有し、
上記リード線は、Ni基合金又はフェライト系ステンレス鋼よりなり、
上記電極膜は、Crを主成分とするCr−Fe合金からなることを特徴とする温度センサにある(請求項1)。
そのため、上記感温素子、上記電極膜、及び上記リード線の線膨張係数を段階的に変化させつつ相互に近づけることができる。
そのため、上記温度センサにおいては、上記感温素子、上記電極膜、上記リード線との線膨張係数差をより一層小さくすることができる。それ故、より一層断線などが起こりにくい。
そのため、脱貴金属化を図ることが可能になり、上記温度センサの低コストでの製造が可能になる。
本発明の温度センサは、上述のごとく、上記感温素子と上記電極膜と上記リード線とを備える。そして、上記感温素子、上記電極膜、及び上記リード線の線膨張係数をそれぞれTa(/℃),Tb(/℃)、及びTd(/℃)としたとき、Ta≦Tb≦Tdの関係を満足する。
Ta≦Tb≦Tdという関係を満足しない場合には、例えば−50℃〜1050℃というワイドレンジ環境下において熱応力を十分に緩和することが困難になるおそれがある。
この場合には、上記電極膜と上記リード線との間に上記接合材を有することにより、線膨張係数がよりなだらかな勾配を形成することができる。そのため、上記温度センサにおいては、ワイドレンジ環境下においてより一層熱応力が緩和され、上記温度センサの信頼性をより向上させることができる。
この場合には、断線を防止できるという本発明の作用効果がより顕著になる。即ち、上記シースピンから伸びるリード線が直接上記電極膜に接続された構成の温度センサにおいては、Ptからなる電極線を使用すると断線が起りやすくなる。本発明の構成を採用することにより、Ptからなる電極線の使用を回避することが可能になり、上記シースピンから伸びるリード線を直接上記電極膜に接続させる構成を採用しても断線を十分に防止することが可能になる。
具体的には、上記感温素子は、例えば、非酸化物からなる絶縁性のマトリックス粒子よりなるマトリックス相を有する低熱膨張セラミックスにより構成することができる。
この場合には、感度の良い温度センサを実現することができる。
この場合には、感度の良い温度センサが実現できる共に、還元劣化を防止できる耐熱性に優れた温度センサを実現することができる。
より具体的には、上記マトリックス粒子としては、例えば窒化珪素又は酸窒化物系セラミックス等からなる粒子を採用することができる。好ましくは窒化珪素系セラミックスからなる粒子がよい。
また、上記第2相粒子としては、炭化ケイ素等からなる粒子を採用することができる。
Cr及びFeを含有する合金においては、Crの含有量が多いほど低線膨張係数材料となり、上記感温素子の線膨張係数に近づけることが可能になる。また、Pt等の貴金属と比較して、Crを含有する合金は、強度が高く断線し難い。さらに、Feを入れることで材料の延性を改善でき、線膨張係数の調整が可能になる。
上記電極膜の線膨張係数Tb(/℃)は、Tb≦11×10-6であることが好ましい。
この場合には、上記感温素子、及び上記リード線と上記電極膜との線膨張差をより小さくすることができる。また、上記接合材を備える場合には、上記感温素子、上記接合材、及び上記リード線と上記電極膜との線膨張差をより小さくすることができる。そのためこの場合には、ワイドレンジでの使用環境化においても熱応力をより一層緩和でき、信頼性をより向上することができる。
この場合には、上記感温素子、及び上記リード線と上記電極膜との熱膨張差、又は上記感温素子、上記接合材、及び上記リード線と上記電極膜との熱膨張差をより一層小さくすることができる。そのため、上記温度センサの高温環境下での耐久性をより向上させることができる。また、ワイドレンジでの使用環境化においても熱応力をさらにより一層緩和でき、信頼性をより向上することができる。
上記リード線の線膨張係数は例えば4×10-6〜14×10-6/℃にすることができる。
この場合には、上記感温素子及び上記電極膜と上記リード線との熱膨張差又は上記感温素子、上記電極膜、及び上記接合材と上記リード線との熱膨張差をより一層小さくすることができる。そのため、上記温度センサの高温環境下での耐久性をより向上させることができる。また、ワイドレンジでの使用環境化においても熱応力をより緩和でき、信頼性をより向上できる。
Ni基合金としては、例えばNCF601(JIS G4901)等を採用することができる。NCF601(JIS G4901)は、具体的には、C:0.10wt%以下、Si:0.50wt%以下、Mn:1.0wt%以下、P:0.030wt%以下、S:0.015wt%以下、Ni:58.00〜63.00wt%、Cr:21.00〜25.00wt%、Cu:1.00wt%、Al:1.00〜1.70wt%、Fe:残部という組成有する。
また、フェライト系ステンレス鋼としては、例えばFe−Cr−Al合金からなるSUH21(JIS G4312)等を採用することができる。SUH21(JIS G4312)は、具体的には、Cr:17〜21wt%、Al:2.0〜4.0wt%、C:0.10wt%以下、Si:1.50wt%以下、Mn:1.0wt%以下、P:0.040wt%以下、S:0.030wt%以下、Fe:残部という組成を有する。
上記接合材Tc(/℃)は、Tc≦12×10-6であることが好ましい。
この場合には、上記感温素子、上記電極膜、及び上記接合材と上記リード線との線膨張
差をより一層小さくすることができる。そのため上記温度センサは、ワイドレンジ環境下においても熱応力を緩和でき、信頼性を向上できる。
上記接合材の線膨張係数は、Ni基合金からなるリード線を採用した場合には、9×10-6〜12×10-6/℃であることがより好ましく、上記接合材はペースト状のFe−Cr−Al合金を焼付けてなることが好ましい。
この場合には、Alの不動態膜が形成されるため、高温での耐酸化性に優れる。
Cr−Fe合金においては、Crの比率が大きい程、線膨張係数が低くなるため、より熱応力を緩和できる。
焼付け温度が1000℃未満の場合には、接合強度が不足したり、金属粉末の焼結が不十分になったりするおそれがある。一方、1490℃を超える場合には、合金が溶融し、リード線と電極膜との接合が困難になるおそれがある。焼付け温度は1200℃以下であることがより好ましい。
この場合には、製造時に感温素子にクラックが発生することを防止することができる。
この理由を説明する。即ち、上記電極膜は、上記感温素子の一対の表面においてその全面に形成されており、上記電極膜は熱処理を行って形成されるため、上記感温素子端部には引張応力が加わっている。上記接合材が、上記電極膜が形成された上記感温素子の端部まで存在すると、上記接合材も熱処理を行って形成されるため、上記感温素子にさらに引張応力が加わる。その結果、感温素子にクラックが発生するおそれがある。
上述のように、上記感温素子と上記接合材との接合面においては、上記感温素子の端部と上記接合材との最短距離が少なくとも0.1mm以上離れていれば、上記接合材から上記感温素子への熱応力は上記感温素子端部へ影響しなくなり、クラックの発生を防止することができる。
この場合には、上記感温素子と上記電極膜と上記リード線との接合部における熱応力を緩和させることができると共に、接合部の保持力を向上させて振動に対する耐久性をより向上させることができる。
また、上記温度センサにおいて、上記電極膜と上記リード線とが上記接合材を介して接合されている場合には、上記保護層により、上記感温素子と上記電極膜と上記リード線と上記接合材との接合部における熱応力を緩和させることができると共に、接合部の保持力を向上させて振動に対する耐久性をより向上させることができる。
上記保護層は、例えばガラスにより形成することができる。
次に、本発明の実施例にかかる温度センサについて説明する。
図1〜図3に示すごとく、本例の温度センサ1は、温度によって電気特性が変化する低熱膨張セラミックスからなる感温素子2と、その表面に設けられた一対の電極膜20と、これに接合された外部回路接続用の一対のリード線21とを有する。リード線21は電極膜20に接合材22によって接合されている。
リード線21はNi基合金(NCF601)である大同スペシャルメタル株式会社製の「インコネル(INCONEL)601」からなる。リード線21の線膨張係数は、14×10-6/℃である。
保護層52は、1000℃以上の高温にて感温素子2を保護する効果を有する材料で構成される。その材料としては、無機材料、非晶質ガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。それぞれが単独で所望の範囲の線熱膨張係数を有すれば単独で用いてもよいが、所望の線膨張係数を有するように非晶質ガラスと結晶化ガラスとを混合したもの、ガラスに無機材料粉末を添加したもの等を用いて構成してもよい。ガラスに添加する無機材料粉末としては、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化クロム(Cr2O3)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、感温素子2を構成する低熱膨張セラミックス等が挙げられる。保護層52を構成する材料としては、高温で安定な結晶化ガラスに感温素子2を構成する低熱膨張セラミックスを40重量%以上添加して線膨張係数を調整したものがより好ましい。
図2に示すごとく、温度センサ1においては、カバー4よりも後端側において、ガードチューブ11が、シースピン3の外周を覆うように設けられている。そしてガードチューブ11は、その後端部112においてシースピン3の後端部302と固定されている。ガードチューブ11の後端部112とシースピン3の後端部302とは、全周溶接されている。また、ガードチューブ11の先端部111は、シースピン3に固定されてはいないが、シースピン3の側面との間にほとんどクリアランスを設けずに、シースピン3の側面と干渉するように形成されている。
また、ガードチューブ11の外周にはリブ12が配されている。そして、リブ12は、ガードチューブ11を介してシースピン3を保持している。
また、第1延設部122の外周には、シースピン3、ガードチューブ11及び外部リード17の一部を保護する保護チューブ13の一端が溶接固定されている。
また、第2延設部123においては、リブ12がガードチューブ11に対して全周溶接されている。
ガードチューブ11、シースピン3、及びカバー4は、ステンレス鋼またはNi基耐熱合金からなる。更に、リブ12、保護チューブ13も、ステンレス鋼またはNi基耐熱合金からなる。
また、ガードチューブ11の厚みは、シースピン3の外管部34の厚みよりも大きくしてあり、ガードチューブ11は、シースピン3の外管部34よりも剛性が高い。
また、保護層52は、室温から850℃の温度範囲においてカバー4と化学反応を生じない。好ましくは、室温から1000℃の温度範囲において外側保護層52がカバー4と化学反応を生じないことがよい。
まず、以下のように感温素子2を製造する。
すなわち、窒化珪素(Si3N4)粉末(平均粒径0.7μm)52.2vol%と炭化ケイ素(SiC)粉末(平均粒径0.2μm)40vol%と、焼結助剤としての酸化イットリウム(Y2O3)粉末(平均粒径0.5μm)5.5vol%と、添加剤としてのホウ化チタン(TiB2)粉末(平均粒径0.4μm)2.3vol%とを混合し、エタノールを用いて24時間ボールミルで混合した。
次いで、混合原料を金型中に入れ、圧力20MPaで一軸プレス成形を行い、N2雰囲気、温度1850℃、プレス圧20MPaという条件でホットプレスを1時間行なった。これにより、縦1mm×横1mm×高さ0.5mmの直方体形状(板状)の焼結体(低熱膨張セラミックス)からなる感温素子2を得た。
即ち、まず、NAS4425A5系の鋼粒子(平均粒径10μm)80〜85wt%と、アクリル共重合体4〜6wt%と、フタル酸ビス(メチルヘキシル)0.1〜1wt%と、ソルベントナフサ1〜2wt%と、乳酸ブチル5〜10wt%と、シリコン樹脂1wt%以下とを混合して、ペースト状の接合材を作製した。
そして、図5及び図6に示すごとく、電極面20とリード線との当接部にペースト状の接合材220をペーストポッティング方式で塗布した。その後、温度1200℃で1時間加熱することにより、焼き付けを行なった。これにより、図1に示すごとく、感温素子2の電極面20とリード線21とを接合材22により接合した。
以上により、温度センサ1を得た。
図1に示すごとく、本例の温度センサ1は、低熱膨張セラミックスからなる感温素子2を備える。そして、温度センサ1においては、Cr−Fe合金からなる電極膜20と、Ni基合金からなるリード線21とを、ペースト状のFe−Cr−Al合金を焼付けてなる接合材22によって接合している。
このように、リード線21と電極膜20との接合部周辺の材質を特定することにより、感温素子2、電極膜20、接合材22、及びリード線21の線膨張係数を相互に近づけることができる。さらに、感温素子2を構成する低熱膨張セラミックスの線膨張係数をTa(/℃)、電極膜20の線膨張係数をTb(/℃)、接合材22の線膨張係数をTc(/℃)、及びリード線21の線膨張係数をTd(/℃)とすると、Ta≦Tb≦Tc≦Tdとすることが可能になり、これらの線膨張係数を段階的に近づけることができる。
そのため、感度の良い温度センサが実現できると共に、還元劣化を防止できる耐熱性に優れた温度センサを実現することができる。
そのため、感温素子2と電極膜20とリード線21と接合材22との接合部における熱応力を緩和させることができると共に、接合部の保持力を向上させて振動に対する耐久性をより向上させることができる。
本例は、実施例1とは感温素子に対する電極膜の形成方法等を変更して温度センサを作製する例である。本例の温度センサは、後述する電極膜の形成方法等を変更した点を除いては、実施例1と同様の構成を有する。
次に、感温素子の高さ方向の対向する一対の面に、Cr−Fe合金ペーストを10〜20μm程度の厚さに厚膜印刷し、温度1200℃にて焼き付けることにより電極膜を形成した。Cr−Fe合金ペーストは、粒度約10μm以下のものである。
即ち、まず、SUH21相当のNAS4425A5系の鋼粒子(日本冶金工業株式会社製、粒径10μm以下)80〜85wt%と、アクリル共重合体4〜6wt%と、フタル酸ビス(メチルヘキシル)0.1〜1wt%と、ソルベントナフサ1〜2wt%と、乳酸ブチル5〜10wt%と、シリコン樹脂1wt%以下とを混合して、ペースト状の接合材を作製した。
次いで、実施例1と同様にして、シースピンから伸びるリード線に接合され、保護層に覆われた感温素子を、加熱したカバー内に挿入し、冷却し、カバーをシースピンの側面に溶接した。
このようにして、本例の温度センサを得た。
本例の温度センサは、その他、実施例1と同様の作用効果を示すことができる。
本例は、感温素子の電極膜に接合したリード線を、シースピンから伸びる信号線に接合した構成の温度センサの例である。
具体的には、図7に示すごとく、本例の温度センサ6においては、実施例1と同様に、直方体状の感温素子2と、その表面に設けられた一対の電極膜20と、これに接合されたリード線21とを有し、リード線21は、電極膜20に接合材22によって接合されている。
また、信号線215は、Ni基合金(NCF601)である大同スペシャルメタル株式会社製の「インコネル(INCONEL)601」からなる。その線膨張係数は、14×10-6/℃である。
その他の構成は、実施例1と同様である。
本例の温度センサは、その他、実施例1と同様の作用効果を示すことができる。
本例は、感温素子と接合材との接合面において、感温素子の端部と接合材の外縁との最短距離と、クラックの発生との関係を調べる例である。即ち、電極面とリード線との当接部に形成する接合材の大きさの異なる複数の温度センサ(試料X1〜試料X5)を作製し、接合材形成後の感温素子に発生するクラックの有無を調べる。
本例においては、ペースト状の接合材の塗布量を変更することにより、電極膜上における接合面積を代えて大きさの異なる接合材を形成した。
その他は、実施例1と同様にして、温度センサを作製することができる。
また、各試料について、接合材を形成した後に、感温素子に発生しうるクラックの有無を顕微鏡により調べた。クラックの有無は、各試料X1〜X5と同様の条件で作製した温度センサ5つについてそれぞれ行った(N=5)。その結果を表1に示す。なお、表1においては、クラックが観察された場合を「×」として表し、クラックが観察されなかった場合を「○」として表す。
このように、本例によれば、感温素子2と接合材22との接合面における感温素子2の端部28と接合材22との最短距離は、少なくとも0.1mm以上であることが好ましいことがわかる。
本例は、接合材を用いずに電極膜とリード線とを接合して温度センサを作製する例である。具体的には、図9に示すごとく、電極膜20とリード線21とをレーザー溶接により接合する。また、本例においては、保護層を形成せずに、温度センサ7を作製する。本例の温度センサ7は、接合材を用いずにレーザー溶接により電極膜20とリード線21とを接合し、保護層を形成していない点を除いては、実施例1と同様の構成を有する。
このようにして、本例の温度センサ7を得た。
そのため、接合材を用いた所謂拡散接合よりも接合部の強度を高くすることができる。
また、接合材を用いた接合の場合には真空炉等による熱処理が必要になるが、本例のように溶接による接合を行った場合には、接合時に熱処理を行う必要がない。そのため、生産性が高くなる。また、残留熱ひずみの発生を防止することができるため、耐熱応力を向上させることができる。
なお、本例においては、保護層を形成せずに温度センサを作製したが、実施例1と同様に、リード線を接合した感温素子をディップして、乾燥後に熱処理することにより、保護層を形成することもできる。
2 感温素子
20 電極膜
21 リード線
22 接合材
Claims (12)
- 温度によって電気特性が変化する線膨張係数3×10-6〜5×10-6/℃の低熱膨張セラミックスからなる感温素子と、該感温素子の表面に設けられた線膨張係数が11×10 -6 /℃以下の一対の電極膜と、該電極膜に接合された線膨張係数が15×10-6/℃以下の一対のリード線とを有する温度センサであって、
上記感温素子、上記電極膜、及び上記リード線の線膨張係数をそれぞれTa(/℃)、Tb(/℃)、及びTd(/℃)としたとき、Ta≦Tb≦Tdの関係を満足し、
上記電極膜は、Crを主成分とするCr−Fe合金からなることを特徴とする温度センサ。 - 請求項1に記載の温度センサにおいて、上記電極膜と上記リード線とは、Fe−Cr−Al合金又はCr−Fe合金からなる接合材を介して接合されており、かつ上記接合材の線膨張係数をTc(/℃)としたとき、Ta≦Tb≦Tc≦Tdの関係を満足することを特徴とする温度センサ。
- 請求項2に記載の温度センサにおいて、上記接合材の線膨張係数T c (/℃)は、9×10 -6 ≦T c ≦12×10 -6 /℃であることを特徴とする温度センサ。
- 請求項2又は3に記載の温度センサにおいて、上記接合材は、Crを60〜90wt%、Feを40〜10wt%含む合金からなることを特徴とする温度センサ。
- 請求項2〜4のいずれか一項に記載の温度センサにおいて、上記接合材は、ペースト状のFe−Cr−Al合金又はCr−Fe合金を温度1000〜1490℃で焼き付けてなることを特徴とする温度センサ。
- 請求項5に記載の温度センサにおいて、上記ペースト状のFe−Cr−Al合金又はCr−Fe合金は、Fe−Cr−Al合金又はCr−Fe合金よりなる鋼粒子80〜85wt%と、アクリル共重合体4〜6wt%と、ソルベントナフサ1〜2wt%と、乳酸ブチル5〜10wt%とを含有することを特徴とする温度センサ。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の温度センサにおいて、上記電極膜は、上記感温素子の表面に粒度30μm以下のCr−Fe合金ペーストを印刷して焼き付けてなることを特徴とする温度センサ。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の温度センサにおいて、上記電極膜は、上記感温素子の表面にCr−Fe合金ペーストを10〜20μmの厚さで印刷して焼き付けてなることを特徴とする温度センサ。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の温度センサにおいて、上記電極膜は、上記感温素子における対向する一対の表面にそれぞれ全面にわたって形成されており、上記感温素子と上記接合材との接合面においては、上記感温素子の端部と上記接合材との最短距離が少なくとも0.1mm以上であることを特徴とする温度センサ。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載の温度センサにおいて、上記感温素子は、窒化珪素のマトリックス粒子よりなるマトリックス相を有することを特徴とする温度センサ。
- 請求項1〜10のいずれか一項に記載の温度センサにおいて、上記リード線は、Ni基合金又はフェライト系ステンレス鋼よりなることを特徴とする温度センサ。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の温度センサにおいて、上記感温素子と上記電極膜とを上記リード線の一部と共に封止する保護層を有することを特徴とする温度センサ。
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