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JP5282470B2 - 画像処理装置、画像形成装置および画像処理方法 - Google Patents

画像処理装置、画像形成装置および画像処理方法 Download PDF

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JP5282470B2 JP2008193292A JP2008193292A JP5282470B2 JP 5282470 B2 JP5282470 B2 JP 5282470B2 JP 2008193292 A JP2008193292 A JP 2008193292A JP 2008193292 A JP2008193292 A JP 2008193292A JP 5282470 B2 JP5282470 B2 JP 5282470B2
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Description

本発明は、画像形成に関し、より詳細には、画像を形成するドット位置を制御して高精細画像を提供する画像処理装置、画像形成装置および画像処理方法に関する。
近年、電子写真法を使用した画像形成は、高速かつ高画質化の検討が行われており、フォトリソグラフィーの微細化に伴い、単一の半導体チップから複数のレーザビームを照射することが可能な半導体レーザも普及している。このことは、半導体レーザから照射される単位面積当たりのレーザビームの本数が増えることを意味するので、感光体ドラムを照射する際のドット径が微少化でき、より高精細かつ高速な画像形成を行うことが可能となるものと考えられる。
ところで、電子写真法により中間調を含む画像形成を行う場合に濃度の小さな孤立ドットは、静電荷の保持における安定性が比較的悪く、大域的には面積階調により形成される中間調の階調再現性を低下、ひいては画質劣化を生じさせる場合がある。
このため、濃度の低い孤立ドットとならないように、従来では、また階調性を低下させることがないように、主走査方向に隣接した前後2画素の濃度を参照して、孤立ドットを濃い側に寄せて形成させる処理が行われている。
半導体レーザが微少な画像ドットの静電潜像を形成できるようになるにつれて、従来では孤立ドットとならない位置にある画像ドットでも孤立ドットとして生成される場合もある。また、画像ドットの位置などによっては、主走査方向ばかりではなく、副走査方向に対しても画像ドットをシフトさせることにより、さらに高画質な画像形成が可能となるものと考えられる。
レーザ照射を行う画素の周囲画素を考慮して画像形成を行う画像形成処理は、例えば、特開2004−336487号公報(特許文献1)に開示されている。
特開2004−336487号公報
上述した従来技術は、注目画素を含む画像のMTFをフィルタリング処理を使用して制御するものであり、孤立ドットの生成および生成された孤立ドットを、シフトさせる処理を用いるものではない。また、特許文献1は、マルチビームを照射することができる半導体レーザにより従来では孤立ドットとして取り扱われるべき画像ドットを、半導体レーザのマルチビーム照射能力を有効に利用して画質劣化を防止することについては何ら開示するものではない。
すなわち、本発明は、半導体レーザが単一の半導体チップから複数のレーザビームを照射する場合の孤立ドットによる画質劣化を改善する、画像処理装置、画像形成装置および画像処理方法を提供することを目的とする。
また、本発明のさらに他の目的は、形成される画像の特性に応じて孤立ドットの処理を切り替えることにより、高画質・高精細な画像を効率的に提供することが可能な、画像処理装置、画像形成装置および画像処理方法を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる画像処理装置は、画像ドットを含む複数の画素から構成される画像データを、主走査方向および副走査方向に前記画素単位に分割し、分割した前記画素のうち補正対象となる画素である注目画素を、複数の画像ドットを含む複数の画像区画に分割する分割手段と、前記注目画素の隣接画素の濃度の濃淡に基づいて、濃度が高い前記隣接画素の2次元方向である濃度方向に前記注目画素の濃度値を再現する面積割合の画像ドットを寄せるように、前記画像区画の画像ドットを補正する補正手段と、を備えることを特徴とする。また、本発明は、上記画像処理装置で実行される画像処理方法、上記画像処理装置を備えた画像形成装置である。
本発明によれば、孤立ドットによる画像の劣化を適切に改善することができ、高画質・高精細な画像を効率的に提供することが可能となるという効果を奏する。また、本発明によれば、入力された画像の向きにかかわらず、孤立ドットによる画像の劣化を適切に改善することができるという効果を奏する。
以下、本発明を、実施形態を以て説明するが、本発明は、後述する実施形態に限定されるものではない。図1に、画像形成装置の実施形態を示す。画像形成装置100は、CCD(Charge Coupled Device)などを含んで構成されるスキャナなどから画像を取得し、取得した画像データに対応して半導体レーザおよび搬送系を制御し、画像形成を行っている。
画像形成装置100は、半導体レーザ、ポリゴンミラーなどの光学要素を含む光学装置102と、感光体ドラム、帯電装置、現像装置などを含む像形成部112と、中間転写ベルトなどを含む転写部122を含んで構成される。光学装置102は、後述するVCSEL等の半導体レーザなどの光源から放出された光ビームを、ポリゴンミラー102cなどにより偏向させ、fθレンズ102bに入射させている。
光ビームは、図示した実施形態ではシアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)、ブラック(K)の各色に対応した数で発生されていて、fθレンズ102bを通過した後、反射ミラー102aで反射される。また、半導体レーザは、単一の半導体チップから複数のレーザビームを放出することができる、面発光レーザ(以下、VCSELとして参照する。)が使用されていて、主走査方向および副走査方向に複数のレーザビームを照射させている。
WTLレンズ102dは、光ビームを整形した後、反射ミラー102eへと光ビームを偏向させ、露光のために使用される光ビームLとして感光体ドラム104a、106a、108a、110aへと、光ビームを像状照射する。感光体ドラム104a、106a、108a、110aへの光ビームLの照射は、上述したように複数の光学要素を使用して行われるため、主走査方向および副走査方向に関して、タイミング同期が行われている。なお、以下、主走査方向を、光ビームの走査方向として定義し、副走査方向を、主走査方向に対して直交する方向、多くの画像形成装置100では、感光体ドラム104a、106a、108a、110aの回転する方向として定義する。
感光体ドラム104aは、アルミニウムなどの導電性ドラム上に、少なくとも電荷発生層と、電荷輸送層とを含む光導電層を備えている。光導電層は、それぞれ感光体ドラム104a、106a、108a、110aに対応して配設され、コロトロン、スコロトロン、または帯電ローラなどを含んで構成される帯電器104b、106b、108b、110bにより表面電荷が付与される。
各帯電器104b、106b、108b、110bにより感光体ドラム104a、106a、108a、110a上に付与された静電荷は、光ビームLにより像状露光され、静電潜像が形成される。感光体ドラム104a、106a、108a、110a上に形成された静電潜像は、現像スリーブ、現像剤供給ローラ、規制ブレードなどを含む現像器104c、106c、108c、110cにより現像され、現像剤像が形成される。
感光体ドラム104a、106a、108a、110a上に担持された現像剤は、搬送ローラ114a、114b、114cにより矢線Aの方向に移動する中間転写ベルト114上に転写される。中間転写ベルト114は、C、M、Y、Kの現像剤を担持した状態で2次転写部へと搬送される。2次転写部は、2次転写ベルト118と、搬送ローラ118a、118bと含んで構成される。2次転写ベルト118は、搬送ローラ118a、118bにより矢線Bの方向に搬送される。2次転写部には、給紙カセットなどの受像材収容部128から上質紙、プラスチックシートなどの受像材124が搬送ローラ126により供給される。
2次転写部は、2次転写バイアスを印加して、中間転写ベルト114上に担持された多色現像剤像を、2次転写ベルト118上に吸着保持された受像材124に転写する。受像材124は、2次転写ベルト118の搬送と共に定着装置120へと供給される。定着装置120は、シリコーンゴム、フッソゴムなどを含む定着ローラなどの定着部材130を含んで構成されていて、受像材124と多色現像剤像とを加圧加熱し、印刷物132として画像形成装置100の外部へと出力する。多色現像剤像を転写した後の中間転写ベルト114は、クリーニングブレードを含むクリーニング部116により転写残現像剤が除去された後、次の像形成プロセスへと供給されている。
なお、図1に示した画像形成装置は、フルカラー複写機として説明したが、本実施形態の画像形成装置は、コピー、ファクシミリ、プリンタ、スキャナ、ネットワーク接続機能などを含む、いわゆる複合機として構成することができ、白黒高速機として実装することもできる。
図2は、画像形成装置100が実装するレーザ制御部200の実施形態である。レーザ制御部200は、スキャナなどから取得したアナログ画像をディジタル処理する画像処理部202からの画像データを受け取り、VCSELなどから構成されるLDアレイ218を駆動して感光体ドラムに静電潜像を形成させている。レーザ制御部200は、コントローラ220と、露光制御部204とを含んで構成されている。コントローラ220は、いわゆるASICなどのマイクロコンピュータとして構成されている。上述したレーザ制御部200は、画像形成装置100の中の画像処理全体の処理を行う画像処理装置として機能する。
上述したVCSELを使用した画像形成装置としては様々な技術が知られている。例えば、一般的な画像形成装置(書き込み光学系)において、光源ユニットが図3に示すように、格子状に複数の光源(複数の半導体レーザ)が配置された半導体レーザアレイ、または、同一チップ上に複数光源(複数の面発光レーザ(VCSEL,面発光型半導体レーザ)が格子状に配置された面発光レーザから構成されるとき、複数の光源の配列方向がポリゴンミラーのような偏向器の回転軸に対してある角度θを有するように、光源ユニット1001の配置と角度を調整するものである。
図3では、光源の縦配列方向をa〜c、横配列方向を1〜4とし、例えば、図3の左上の光源をa1のように表記する。光源ユニット1001が角度θをもって配置されていることにより、光源a1と光源a2とは異なる走査位置を露光し、この2光源により1つの画素(1画素)を構成する場合、すなわち、図3において、2光源で1画素を実現する場合を考える。例えば2光源a1,a2で1画素、2光源a3,a4で1画素を構成していくとすると、図中の光源によって図3右端に示すような画素が形成される。図の縦方向を副走査方向としたとき、2光源により構成される画素の中心間距離が600dpi相当であるとする。このとき、1画素を構成する2光源の中心間隔は1200dpi相当となり、画素密度に対して光源密度が2倍となっている。よって1画素を構成する光源の光量比を変えることで、画素の重心位置を副走査方向にずらすことが可能となり、高精度な画像形成が実現できる。
図2に戻り、コントローラ220は、本実施形態では、後述するように、画像分割部208が画素を分割して生成された画像区画に対して画像ドットを設定するための制御手段として機能する。コントローラ220は、データを記憶し、処理を実行するため、レジスタメモリ、ROM、EPROMなどの記憶手段を搭載しており、アセンブラ言語で記述したプログラムを実行して画像寄せ処理を含む処理を行う。また、コントローラ220は、シリアル通信を介して露光制御部204と通信しており、画素分割部208の処理結果を受け取って、画像寄せ処理を実行する。コントローラ220は、画像寄せ処理の結果設定された画像ドットのデータを、画素分割部208が使用可能な形式で登録するか、または画像分割部208に送付して、処理対象の画素についての画像ドットパターンを生成させている。なお、図2に示したレーザ制御部200は、コントローラ220と、露光制御部204とが別体であるものとして説明したが、本発明の他の実施形態では、露光制御部204と、コントローラ220とは、一体として構成することもできる。
また、コントローラ220は、レジスタメモリ222のメモリ領域を、画像寄せパターンを登録するために確保している。コントローラ220は、画素分割部208からの画像寄せ処理依頼を、例えば、IRQ(Interrupt ReQuest)として受領し、画像ドットを割当てるべき画素である注目画素および注目画素に隣接する隣接画素の濃度値を取得して、画像寄せ処理を開始する。
露光制御部204は、FIFO(First in First out)タイプのバッファメモリ206を含んでいる。バッファメモリ206は、画像処理部202から送られる1200×1200dpiの2bit信号を受領して、複数の主走査ライン分だけ蓄積し、より下流側のデータ処理部からの読み出しに応じて、蓄積したデータを、先入れ・先出し方式で下流側のデータ処理部に渡している。この段階では、画像データは、1200×1200dpiの2ビット信号で記述されている。
バッファメモリ206の出力は、画素分割部208とスムージング処理部210とに入力される。画素分割部208は、1200×1200dpiの2ビット信号を、説明する実施形態では主走査方向および副走査方向に4分割し、4800×4800dpiの画像ドットの画像データに変換する。なお、処理対象信号の2ビットは、中間調を指定するために用いる値であり、例えば、00が白、11が黒、01および10が中間調に相当する濃度値を与える。
画素分割部208は、4800×4800dpiの画像ドットに対して対応する1200×1200dpiの画像濃度を再現するための所定のパターンを与える画像有りフラグを参照し、4800×4800dpiの画像区画について画像ドットの画像パルス列を生成し、セレクタ212のA入力に入力している。
スムージング処理部210は、バッファメモリ206から取得した画像データを、例えば主走査方向に9ライン、副走査方向に9ラインなど所定の領域分だけ取得し、取得した画像データの濃度指定ビット値を検査する。検査の結果、現在処理している画像データが中間調を含まないデータであって、キャラクタや線画であると判断した場合、スムージング処理部210は、取得した領域単位でエッジ処理などのスムージング処理を施し、処理結果の1200×1200dpiで2ビットのデータを、セレクタ212のB入力に渡している。
また、スムージング処理部210は、処理対象の領域が中間調を含まないと判断した場合、セレクト信号をアサート(ハイレベル)し、セレクタのセレクト入力に入力する。セレクト信号がアサートされている期間は、B入力からの信号が下流側のデータ処理部に渡される。また、セレクト信号がアサートされていない期間は、A入力に入力された4800×4800dpiの1ビット信号が出力され、高精細画像の出力を行っている。
バッファメモリ206から入力された1200×1200dpiの2ビット信号に対し、露光制御部204が並列処理を実行することにより、キャラクタ、または線画などから中間調に画像が急に変化した場合であっても、画素分割部208が並列的にその時点で出力するべき高精細ドットの計算を実行しているのでスムーズに解像度の切り換え処理が可能となる。
セレクタ212の出力は、γ変換部214に送られる。γ変換部214は、画像パルス列に対応し、LDアレイ218のレーザ発振特性に応じた出力レベルを生成してドライバアレイ216に送る。ドライバアレイ216は、PWM信号(Pulse Width Modulation)などを使用してLDアレイ218の駆動パルス列を生成する。ドライバアレイ216からの駆動パルス列は、VCSELとして実装されたLDアレイ218の半導体レーザチップを駆動して、感光体ドラム上にレーザビームを照射させ、感光体ドラム上に静電潜像を形成させている。
図4は、画素分割部208が処理対象とする画像領域300の詳細な実施形態を示す。画素分割部208は、図4に示すように、画像領域300を、注目画素304を含む9個の画素302に分割する。そして、分割した1200dpiの9画素を処理単位として、後述するように、コントローラ220等が各種の処理を実行する。画素分割部208は、さらに、現在処理対象の画素である注目画素304をまず、主走査方向および副走査方向に4分割し、主走査方向に4800ドットおよび副走査方向に4800ドットの画像区画306を割り当てる。
当該4800×4800dpiの各画像区画306には、画像区画306の位置に対応してレジスタメモリ222上に、画像ドットを設定するか否かの指令を行うための画像有りフラグを設定するためのアドレスが割り当てられている。コントローラ220は、4800×4800dpiを構成する画像区画306に対して画像有りフラグの設定制御を実行し、4800×4800dpiの画像領域に対し、注目画素304の2ビットで与えられる画像濃度を再現させている。
なお、画像有りフラグの設定制御は、1200×1200dpiの2ビット信号が2′b00(白)の場合は、画像区画306に対してまったく画像有りフラグを設定しないことにより行われる。また、2ビット信号が、2′b11(黒)の場合は、全画像区画を対象として画像有りフラグを設定することにより行われる。また、中間調に対応する2′b01および2′b10については、画像濃度を再現させるように適切な割合で、かつ隣接画素に寄せて画像区画306に対して画像有りフラグを設定することにより行われる。
本実施形態は、4800×4800dpiの高精細ドットが孤立ドットを形成してしまわないように、画像ドットのパターンを、1200×1200dpiの隣接画素に近接して形成するものである。この処理を、本実施形態では、画像寄せ処理として参照する。本実施形態では、半導体レーザとしてVCSELといった複数のレーザビームを、1200dpi相当の単一の主走査ライン内で生成することができるので、従来のように、主走査方向ばかりではなく、副走査方向にも画像寄せ処理が可能となり、2次元方向で最適な位置での画像寄せ処理が可能となる。
本実施形態での画像寄せ処理は、上述したように、処理対象として1200×1200dpiの注目画素304に隣接する8つの隣接画素を含む9画素を使用する。画素分割部208は、注目画素304を含む9画素の画像データをコントローラ220に送る。コントローラ220は、注目画素304を除く画素の濃度値を、図4中、上側の列、下側の列について合計する。また、コントローラ220は、図4中、左手側の列および右手側の列についてもそれぞれ濃度値を合計し、計4列のそれぞれの濃度を決定する。その後、コントローラ220は、上下の列および左右の列の濃度を比較し、隣接8画素の方向を選択し、画像寄せ方向データに設定する。
この場合、コントローラ220は、当該画像濃度判断により与えられた画像寄せ方向を8隣接画素に対応する8ビットの画像寄せ方向データを生成し、レジスタメモリ222に格納する。画像寄せ方向データは、例えば、最上位ビットが、前上寄せに対応し、最下位ビットが、後下寄せに対応するようにして設定されるが、本実施形態では、画像寄せデータの形式について特に限定されるものではない。その後、コントローラ220は、注目画素304内での画像寄せ方向データにしたがって画像寄せパターンを与えるように、画像区画について設定されたアドレスに画像有りフラグを設定する。尚、この画像有りフラグの設定例については後述する。
なお、本実施形態では、画像寄せ方向データは、特定のフォーマットで生成する必要はないが、後述するように好ましい実施形態では、8ビットのバイナリデータで、16種類の画像寄せパターンを、最小数として登録された画像寄せパターンから生成させることができる。
画素分割部208は、設定された画像有りフラグおよび画像有りフラグが設定されたアドレスに対応する画像パルスを生成させ、画像データとしてセレクタのA入力を生成させる。なお、図4には、各画素の濃度の濃淡により、画像寄せを行う方向決定処理を例示的に示す。なお、上寄せ、下寄せ、前寄せ、後ろ寄せの他、前上寄せ、後上寄せ、前下寄せ、後下寄せの対角線上についても、各列の比較から設定される。例えば、上寄せ、前寄せのいずれにも対応する場合、前上寄せとして設定することができる。
図5は、本実施形態で、注目画素304の画像ドットに画像有りフラグを設定する場合の画像寄せパターン400の実施形態を示す。なお、2′b00は、全体が白であり、2′b11は、全体が黒であるものとして説明する。したがって、中間調として表現される濃度値は、2′b01、2′b10となる。画像寄せパターン400は、画像区画306に対して画像有りフラグが設定された画像ドットによるパターンとして構成される。また、画像ドットは、注目画素304の濃度値を概ね再現する面積割合を与えるように設定される。
注目画素304の濃度値が、2′b10の場合、画像有りビットが設定される画像ドットは、約2/3とされ、それぞれの画像寄せ方向に対応して注目画素2′b01に類似する画像寄せパターンが与えられている。なお、画像区画306内に付されている数字は、01、10の場合のMSB(Most Significant Bit)の値を示す。
注目画素304が、2′b01である場合、約1/3面積に対応する画像区画306に画像有りフラグが設定される。また、その画像寄せパターンは、前上、後上、前、後、上、下、前下、後下の他、寄せ無しに対応するように、画像区画306が割り当てられている。さらに画像区画306には、各画像区画について画像有りフラグを設定するため、レジスタメモリ222におけるアドレスが確保されている。
図5に示すように、画像寄せパターンは、本実施形態では、2′b01および2′b10について、寄せ無しを含んで、各中間調レベルにそれぞれ9パターン、合計で18パターンが存在する。本実施形態における好ましい実施形態では、図5に示した18パターンを全部レジスタメモリに登録するのではなく、例えば、図7に示すように、最小限の画像寄せパターンをセットとして登録する。そして画像有りフラグを設定することが必要な画像区画位置は、コントローラ220が登録された画像寄せパターンから計算し、画像有りフラグを設定することが必要な登録画像寄せパターンの回転または並進に対応する画像区画の位置を決定し、画像有りフラグを登録する。後述するように、このように登録された画像寄せパターンを回転または並進させて画像寄せ方向を決定するので、入力された画像データが縦向きまたは横向きであるかによらず、孤立ドットによる画像の劣化を適切に改善することが可能となる。
コントローラ220が最小の登録パターンを登録することにより、レジスタメモリの消費量が削減でき、また、ルックアップテーブルなどを都度参照することなく、コントローラ220内のビット演算のみで対応する画像ビットのアドレスを計算できるので、I/Oアクセスを排除でき、コントローラ220のクロックサイクル程度の処理速度を実現することができる。
図6は、注目画素内に規定される画像ドットを識別するためのアドレス割当て500の実施形態を示す。アドレス割当ては、レジスタメモリ222の実アドレスを使用して計算することもできるが、高速処理の点から、画像区画に対して仮想アドレスを割当て、仮想アドレスに対して実アドレスをマッピングする処理を採用することが好ましい。以下、仮想アドレスの割当て処理について説明する。
本実施形態において、1200dpiの注目画素304を、4800dpiに分割する場合、画素分割部208は、特定の実施形態として4×4の16個の画像区画306に分割する。画像区画306の実アドレスには、分割時点では、画像有りフラグが設定されていない。なお、本実施形態では、画像区画306に対して画像有りフラグが設定されているか、または画像有りフラグを設定するべき画像区画を、画像ドットとして参照し、図中、ハッチングで表示する。
仮想アドレスとしては、画像区画の分割数を、基数とする進数表示を採用することが、画像寄せパターンの回転に対応する画像区画306を高速に計算するために好ましい。画素分割部208は、仮想アドレスを4×4の固定された仮想アドレスとしてレジスタメモリ222に記憶させることができる。また、画素分割部208は、分割数の増減やレーザビーム数の増減に最小のコントローラ220の修正で対応できるように、仮想アドレスの分割数を設定値としてレジスタメモリ222に登録し、生成される画像区画の1列ごとに桁上がりする方式で、分割数を基数とするN進数(Nは、2以上の正の整数である。)として割当てる処理を採用することができる。この実施形態では、分割数の変更やレーザビーム数の変更に容易に対応でき、分割数の増加に伴ってメモリ消費量やプログラミングを大幅に修正することなく、より柔軟性の高い処理が可能となる。
仮想アドレスに対しては、それぞれ画像有りフラグを設定するレジスタメモリ222上の実アドレスがマッピングされていて、画像寄せパターンの回転に対応する画像区画に対応するレジスタメモリ222のアドレスに対して、画像有りフラグを設定することができる。図6に示した実施形態では、16個のアドレスを便宜上4進数で表し、紙面左手最上段から、右手側に向かって00、01、02、03のアドレスが割り当てられており、最後尾の画像区画には、33(4進数)=1111(2進数)の値が与えられている。
なお、図示した実施形態では、4進数を使用して仮想アドレスを生成しているが、仮想アドレスを2進数で表し、上位2ビットと下位2ビットを分離して計算しても同一の結果が得られ、計算処理上で、計算効率および注目画素304の分割数を考慮して設定するべきN進数は、適宜設定することができる。例えば、図6に示した画像ドット502に記載された仮想アドレス03は、4進数表記の値であり、2進表記では、仮想アドレスは、03=00|11となる。2進表記を使用する場合には、上位2ビット504と下位2ビット506に対して独立してN進数での進数演算を適用する。なお、上記上位ビットおよび下位ビットの表示において、キャラクタ|の左右で、上位2ビット、下位2ビットを示す。
図7は、レジスタメモリ222に登録される画像寄せパターン・セット600の実施形態を示す。図7に示した画像寄せパターン・セット600は、コントローラ220が管理するROMなどに登録されており、コントローラ220の起動と同時にレジスタメモリ222の割り当てられたアドレスに登録される。レジスタメモリ222内には、画像寄せパターンの最小セットを登録するメモリ領域602に対応して、当該画像寄せパターンについて画像有りフラグが設定されるべき画像区画306の仮想アドレスを登録するメモリ領域604が確保されている。さらに、メモリ領域606には、例えば8ビットで画像寄せすることが必要な場合の寄せ方向を判断するための画像寄せ方向データの検査ビット位置を指定する値が設定されている。すなわち、レジスタメモリ222には、上述したメモリ領域602、メモリ領域604、メモリ領域606の3つの領域が設けられている。
画像寄せ方向データは、コントローラ220による画像寄せ方向判断処理で画像寄せ方向が判定された段階で、該当するアドレス位置に画像寄せ方向を示す値を設定することにより生成される。なお、コントローラ220が生成する画像寄せ方向データは、8ビットではなく、登録される画像寄せパターンの実施形態および最適な最小セットを構成する画像寄せパターンの数などにより適宜設定することができる。また、図7に示した実施形態では、8ビットすべてが0である場合、8方向に対しての検査結果は、すべてFaultの値が返される。この場合、本実施形態では、画像寄せ処理をせずに中央領域に画像有りフラグを設定する処理を行う。
本実施形態では、画像寄せパターンの18パターンは、図7に示すように、コーナパターン、ラインパターン、およびセンタパターンのセットがそれぞれの濃度レベルに対応し合計6パターンに集約できる。コントローラ220は、図6に示した画像寄せパターンを形成する画像区画306に割り当てられた仮想アドレスから登録された画像寄せパターンを回転させた場合に相当する画像寄せパターンを与える画像区画の仮想アドレスを計算し、画像有りフラグを設定する。
尚、上述の説明においては、画像寄せパターンの18パターンが、濃度レベルに応じて6つのパターンに集約されるが、例えば、図5に示した画像有りフラグが設定された画像区画位置が、注目画素内では左右対称または上下対称、あるいは45゜線対称となっていない場合も存在する。具体的には、画像有りフラグが設定された画像区画位置が、左右対称または上下対称、45゜線対称とならない場合(例えば、最下段最右列の画像区画位置の上段の画像区画位置には画像有りフラグが設定されているが、最下段最左列の画像区画位置の上段の画像区画位置には画像有りフラグが設定されていない場合等)には、各画像寄せパターンを回転によってではなく鏡像によって画像有りフラグを画像区画位置に設定することによって、画像寄せパターンを合計8パターンに集約し、仮想アドレスの計算および画像有りフラグの設定を行うことも可能である。
具体的には、図5に示す18パターンの画像寄せパターンを、注目画素が2′b01である場合を例にとると、(上寄せ、前後寄せなし)、(上下寄せなし、前寄せ)、(上寄せ、前寄せ)、(上下寄せなし、前後寄せなし)の4つの画像寄せパターンをあらかじめ記憶させ、(上寄せ、前後寄せなし)の画像寄せパターンの上下鏡像として(下寄せ、前後寄せなし)の画像寄せパターンを設定し、(上下寄せなし、前寄せ)の画像寄せパターンの左右鏡像として(上下寄せなし、後寄せ)の画像寄せパターンを設定することができる。さらに、(上寄せ、前寄せ)の画像寄せパターンの左右鏡像として(上寄せ、後寄せ)の画像寄せパターンを設定し、同じく(上寄せ、前寄せ)の画像寄せパターンの上下鏡像として(下寄せ、前寄せ)の画像寄せパターン、さらに(上寄せ、前寄せ)の画像寄せパターンの180゜回転として(下寄せ、後寄せ)の画像寄せパターンを設定することができる。このように、注目画素304が2′b01に対して4つの画像寄せパターン、およびこれと同様に注目画素304が2′b10に対して4つの画像寄せパターンの合計8つの画像寄せパターンを記憶させることによって、上述したような非対称に画像有りフラグが設定された場合であっても適用可能である。
図8は、本実施形態で使用する進数計算処理700を説明した図である。進数計算処理700は、コントローラ220が実装するプログラムのサブルーチンなどとして構成され、本実施形態における画像寄せパターン回転手段として機能する。図8に示した進数計算は、4進数で表示された仮想アドレス値の上位桁と下位桁とに処理を分離して行われる。
画像寄せパターンの左右シフトは、仮想アドレスの上位桁を保存し、下位桁の値を、当該進数の補数の値に置換することにより行われる。なお、「補数」とは、本実施形態では、所定の数が、所定の基準(N−1)となる数となるために加える必要がある数のことを意味する。すなわち、説明している実施形態では、0の補数は、3であり、1の補数は、2であり、3の補数は0である。
例えば、最左欄の00の画像区画を右シフトさせた仮想アドレスは、0の補数である3の値で下位桁を置換することにより、03として計算される。また、上下方向のアドレスシフトは、下位桁の値を保存し、2桁目の値を、当該値の補数値で置換することにより計算される。この処理に用いる置換処理は、種々の方法で行うことができる。例えば、設定するべき補数を計算させ、保存するべき桁および設定するべき桁を与えるようにシフト計算し、シフト計算の結果に対して補数の値を置換するべき桁に加算することにより行うことができる。この他、生成するべき仮想アドレスの値を、上位桁および下位桁の値から直接計算することができる。本実施形態で、シフト計算する場合、シフトレジスタなどを併用して、コントローラ220への負荷を低減させることもできる。
また、左右上下シフト以外に適用することができる進数計算処理は、上位桁の値と下位桁の値の交換であり、上位桁を下位桁の値に設定し、下位桁を上桁の値に設定することにより、90°回転が可能となる。この場合にも、シフト計算を効率的に使用することができる。具体的には、30で与えられる仮想アドレスを、仮想アドレス=03を計算することにより、図8の最左ラインの仮想アドレスから−90°回転させた場合最上位ラインの仮想アドレスの値を生成することができる。本実施形態では、上述した進数計算を使用することにより、登録された画像寄せパターンの回転と等価な仮想アドレスを効率的に生成することができる。
図9は、本実施形態のコントローラ220が実行する画像寄せ処理の実施形態のフローチャートを示す。図9の処理は、ステップS800から開始し、ステップS801で取得した複数の主走査方向ラインに関する画像データのうち、注目画素304を取り囲む隣接画素の濃度値を計算し、それぞれ左右の列および上下の列での濃度値を計算する。ステップS802では、計算された列および行の濃度値を、主走査方向および副走査方向の隣接画素の画素列単位に比較して画像寄せ方向を判断し、8ビットの画像寄せ方向データの該当するビットアドレスを設定する。
ステップS803では、レジスタメモリ222のメモリ領域606を参照して、検査ビットの値を取得し、画像寄せ方向データが指定する画像寄せパターンおよび登録された仮想アドレスの値を、メモリ領域604から取得する。なお、画像寄せパターン602のレジスタメモリ222のアドレスには、画像有りフラグがすでに設定されていても良いし、以下の処理に応答して画像有りフラグを他の画像区画と同様都度設定することもできる。
ステップS804では、登録された画像寄せパターンと、画像寄せ方向データにより決定された方向とが一致するか否かを、画像寄せ方向データの8ビットアドレスの比較により決定する。例えば、図7に示した実施形態では、前前上、前下に対応する画像寄せパターンが登録されており、画像寄せ方向データと、登録された画像寄せパターンに与えられるべき検査ビットが一致している場合、方向一致と判断し、それ以外は、方向不一致と判断することができる。登録された画像寄せパターンと決定された画像寄せパターンとが一致する場合(yes)には、メモリ領域604に登録された仮想アドレスにマッピングされたレジスタメモリ222のアドレスに画像有りフラグを設定する。その後、処理をステップS807へと分岐させ、画像有りフラグを設定し、画素分割部208が取得可能とする。また、本実施形態で、画像寄せパターンがすでに画像有りフラグが設定された状態で登録されている場合には、ステップS807へと処理を分岐させ、以後の処理を行わず登録された仮想アドレス値をそのまま使用して画像有りフラグを設定し、画素分割部208が取得可能とする。
画像寄せ方向と決定された方向が一致していない場合(no)、ステップS805で決定された8ビットの画像寄せ方向データを使用して、仮想アドレスを計算するための進数計算ルーチンを選択し、対応する進数計算ルーチンを実行させ、画像寄せ方向データに対応する仮想アドレスを計算する。その後、ステップS806で、計算された仮想アドレスにマッピングされたレジスタメモリ222のアドレスに画像有りフラグを設定し、画素分割部208が取得可能とし、処理をステップS808で終了させる。
以上の処理により、最小限の画像寄せパターンを登録するだけで、画像寄せ処理に必要となる画像寄せパターンを生成することが可能となる。また、以上の処理は、ルックアップテーブルなどを構成することなくコントローラ220内の演算処理だけで画像寄せパターンを形成できるので、画素分割処理に対して最小限のメモリ領域追加および最小限の時間遅延で画像寄せ処理を実行することができる。また、本実施形態は、画像形成効率に対して最小限の影響を与えるだけで、画像分割処理および画像寄せ処理を追加することができる。さらに、画像寄せ処理について、主走査方向の前後ばかりではなく、副走査方向に対しても最適な画像寄せ処理が可能となるので、孤立ドットに起因する中間調画像の劣化を防止することができる。
さらに、本実施形態では、画像寄せパターンの修正などがあった場合にでも、最小限の画像寄せパターンの修正を行うだけで済むので、メンテナンスコストや開発コストも低減することができる。また、解像度減少または増加に伴う処理ルーチンの追加修正も最小限とすることができる。
尚、上述したステップS800〜S808に示す画像寄せ処理では、理解を容易にするため、分割処理部208が、注目画素304を含む周辺の合計9画素に画像データを分割した後、コントローラ220が分割した各画素について画像寄せ方向を判断し、さらにその方向があらかじめ登録された画像寄せパターンに一致するか否かを判定することによって、仮想アドレスとして割り当てられたアドレス値に画像有りフラグを設定することとした。しかし、物理的には、上述した各処理が時系列に行われるものではなく、ステップS803において、コントローラ200が画像寄せパターンと仮想アドレスを決定すると、その画像寄せパターンが示す画像寄せ方向が、あらかじめレジスタメモリ222に記憶された画像寄せパターンに一致するか、または近似する画像寄せパターンを選択し、選択した画像寄せパターンおよびその画像寄せパターンの回転または鏡像となる画像寄せパターンに対応する仮想アドレスの画像区画に対して画像有りフラグを設定して一度に画像寄せ処理を行っている。
また、他の実施形態では、ルックアップテーブルとして18パターン全部に対応するレジスタメモリ222のアドレス割当てテーブルを作成しておくことができる。画像寄せパターンの回転を行う場合には、登録された最小限の画像寄せパターンと、画像寄せデータとにより指定されるレジスタメモリ222のアドレスのセットを、アドレス割当てテーブルから取得し、取得したアドレスに対して画像有りフラグを設定することもできる。なお、当該他の実施形態では、レジスタメモリ222のメモリ消費量が増加し、画像寄せパターンの修正などの手間がかかり、ルックアップ処理が2回必要になるものの、処理速度が許容できる場合や、特定の画像形成装置の仕様などに応じて画像寄せパターンを生成させるために使用することができる。
また、さらに他の実施形態では、画像寄せパターンを最小の数だけ登録しておき、さらに画像寄せパターンを構成する画像区画の実アドレス全部を画像寄せパターンについて登録するルックアップテーブルを構成し、レジスタメモリ222に登録しておくこともできる。この場合、画像寄せパターンの回転は、画像寄せ方向データにより指定される回転角を使用し、2次元の回転移動行列により画像寄せパターンを回転させて、それぞれの画像区画306に割り当てられた座標を比較することにより行われる。この実施形態では、座標比較により得られた画像区画について、レジスタメモリ222上の実アドレスに画像有りビットを設定する。
この実施形態では、画像寄せパターンと、画像寄せパターンを構成する画像区画と、検査ビットと、画像区画に割り当てられたレジスタメモリ222上の実アドレスとを登録するルックアップテーブルを作成する。この他、画像区画306に対して座標値を割当て、各画像区画が、登録された画像寄せパターンの回転した場合の値を登録するルックアップテーブルを作成することにより、回転された画像寄せパターンに対応する実アドレスに画像有りフラグを設定することができる。なお、この実施形態では、追加のルックアップテーブルが要求され、さらに、2次元の回転移動計算を各画像区画ごとに行わなければならず、計算処理量は、進数計算処理を使用する場合に比較して増加するものの、最小数の画像寄せパターンを使用して2次元的な画像寄せが可能となる。
図10は、本実施形態で、登録された画像寄せパターンから、画像有りビットを設定するアドレスを計算する場合、画像寄せパターンの回転と仮想アドレス計算の対応関係の実施形態を示す。登録された画像寄せパターン900の画像区画に割り当てられた仮想アドレスの下位桁を補数置換すると、画像寄せパターン902で示されるように、画像寄せパターン900を90°回転させた画像寄せパターン902に対応する仮想アドレスが得られる。また、画像寄せパターン900の画像区画の仮想アドレスの2桁目を、当該値の補数で置換して仮想アドレスとする場合、登録された画像寄せパターン900を、180°回転させた画像寄せパターン904に対応する仮想アドレスが得られる。
さらにもう一度、1桁目の値を、当該値の補数で置換することにより、画像寄せパターン900を270°回転した画像寄せパターン906に対応する仮想アドレスが得られる。なお、1桁目および2桁目の値をそれぞれ補数で置換することにより、画像寄せパターン900から直接的に画像寄せパターン904で示される仮想アドレスを生成させることができる。
図11は、登録された画像寄せパターンから画像有りビットを設定するために仮想アドレスを計算する場合の、回転と仮想アドレス計算の関係の他の実施形態を示す。登録された画像寄せパターン1000に対して、1桁目の値と2桁目の値とを交換した仮想アドレスを生成すると、画像寄せパターン1000を、−90°回転した画像寄せパターン1002に対応する仮想アドレスが生成される。また、画像寄せパターン1002に対し、仮想アドレスの2桁目の値を、当該値の補数に置換することにより、画像寄せパターン1000に対して270°回転した画像寄せパターン1004に対応する仮想アドレスが生成される。さらに1桁目の値と2桁目の値とを交換することにより、登録された画像寄せパターン1000に対して180°回転された画像寄せパターン1006に対応する仮想アドレスが生成される。
これらの進数計算処理は、サブルーチンなどとして容易に構成することができ、またその実装シーケンスについても適宜計算効率を高めるために変更することができる。また、図10および図11に示した実施形態では、4進数を使用して説明したが、2進表現の仮想アドレスを使用して、上位2ビット、下位2ビットに対して同様の処理を行うことにより、同様の処理を行うことができる。また、さらに画素の分割数が、任意の正の整数の場合でも、分割生成された画像区画に対し、同様の仕方で仮想アドレスを割当てることにより、分割数の設定値を修正するだけで、画素の分割数、すなわち解像度またはレーザビーム本数に容易に対応することができる。
図12−1、12−2は、図10および図11に示した進数計算ルーチンの実装形式の実施形態を示す。図12−1は、図10に対応する処理のための進数計算ルーチンのシーケンスであり、図12−2は、図11で説明した処理のためのルーチンのシーケンスである。以下、登録画像寄せパターンに対していずれかの桁を当該桁数の補数で置換する処理を鏡像計算として参照し、上位桁と下位桁の交換を回転計算として参照する。図12−1では、1桁目の置換で、画像寄せパターンの90°回転に対応する鏡像計算が行われ、生成された90°回転の画像寄せパターンに対して2桁目の鏡像計算を行うことで180°回転に対応する画像寄せパターンが与えられる。さらに生成された180°回転の画像寄せパターンに対して再度、1桁目の値を当該値の補数で置換する鏡像計算を行うことにより270°回転に相当する鏡像計算による画像寄せパターンが生成される。
また、図12−2では、まず、桁の値を交換することにより−90°回転の回転計算が実行され、−90°回転の結果に対して鏡像計算を行うことにより、270°回転に相当する画像寄せパターンが生成される。一方、登録された画像寄せパターンに対して直接鏡像計算を行うことにより、登録された画像寄せパターンに対して180°回転させた画像寄せパターンが生成される。
このように、上述した実施の形態では、単位面積当たりに照射可能なレーザビームの数が増加することは、主走査方向ばかりではなく、副走査方向に対しても画像ドットをシフトさせる2次元方向でのマージンが提供される。
また、上述した実施の形態では、画像ドットが微細化することに対応して、主走査方向のみではなく、副走査方向についても画像ドットをシフトさせて画像形成を行う。画像ドットのシフトは、画像形成するべき注目画素304について注目画素304を取り囲む8画素の濃度を検査し、濃度の高い画素方向に注目画素304を構成する画像ドットのパターンを設定する。
また、上述した実施の形態では、画像ドットのパターン設定を高速かつ効率的に行うため、注目画素304の画像寄せパターンを同一パターンで分類して登録する。このため、登録される画像寄せパターンの数は、注目画素内で画像ドットを配置するために必要な画像寄せパターンの全数よりも少なくすることができる。上述した実施の形態では、シフト方向に一致しない画像寄せパターンは、登録された画像寄せパターンを回転させた位置に対応する画像ドットから構成される画像ドットのパターンとして生成される。シフト方向に一致しない画像寄せパターンは、同一の画像寄せパターンに分類された画像寄せパターンを、0°、90°、180°、270°で回転させた位置に相当する画像区画に画像有りビットを設定することにより生成される。
また、上述した実施の形態では、複数のレーザビームを照射する半導体レーザとしては、面発光レーザ(Vertically Cavity Surface Emitting Laser)を使用することができ、主走査方向および副走査方向に複数のレーザビームを生成することができる。このため、主走査方向ばかりではなく、副走査方向についても画像ドットの画像寄せ処理が可能となり、画像ドットの最適な画像寄せ処理が可能となる。さらに、2値画像と中間調画像とに対応して処理を切り換えるので、制御装置に対して過度のオーバヘッドを生じさせることなく、また画像形成速度を低下させることなく、微細ドットに対する画像寄せ処理を実行することができる。
以上説明したように、本実施形態では、主走査方向ばかりではなく、副走査方向についても画像ドットの画像寄せ処理が可能となり、画像ドットの最適な画像寄せ処理が可能となる。さらに、2値画像と中間調画像とに対応して処理を切り換えるので、制御装置に対して過度のオーバヘッドを生じさせることなく、また画像形成速度を低下させることなく、微細ドットに対する画像寄せ処理を実行することが可能な、画像処理装置、画像形成装置および画像処理方法を提供することが可能となる。
また、本発明の上記機能は、アセンブラ言語により記述され、マイクコンピュータのROM、EPROM、EEPROM、またはマイクロコンピュータとは分離してマイクロコンピュータに接続可能なROM、EPROM、EEPROMなどにROMライタなどを使用して記憶して、頒布することができる。
これまで本発明を実施形態をもって説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、他の実施形態、追加、変更、削除など、当業者が想到することができる範囲内で変更することができ、いずれの態様においても本発明の作用・効果を奏する限り、本発明の範囲に含まれるものである。
本実施形態の画像形成装置の実施形態を示した図である。 画像形成装置が実装するレーザ制御部の実施形態を示した図である。 光源ユニットが半導体レーザアレイ、または面発光レーザから構成される場合の例を示す図である。 画素分割部が処理対象とする画像領域の実施形態を示した図である。 本実施形態で、注目画素の画像ドットに画像有りフラグを設定する場合の画像寄せパターンの実施形態を示した図である。 注目画素内に規定される画像ドットを識別するためのアドレス割当ての実施形態を示した図である。 レジスタメモリに登録される画像寄せパターン・セットの実施形態を示した図である。 本実施形態で使用する進数計算処理を説明した図である。 本実施形態のコントローラ220が実行する画像寄せ処理の実施形態のフローチャートである。 登録された画像寄せパターンから、画像有りビットを設定するアドレスを計算する場合、画像寄せパターンの回転と仮想アドレス計算の対応関係の実施形態を示した図である。 登録された画像寄せパターンから画像有りビットを設定するために仮想アドレスを計算する場合の、回転と仮想アドレス計算の関係の他の実施形態を示した図である。 図10に示した進数計算ルーチンの実装形式の実施形態を示した図である。 図11に示した進数計算ルーチンの実装形式の実施形態を示した図である。
符号の説明
100…画像形成装置、102…光学装置、102a、102e…反射ミラー、102b…fθレンズ、102c…ポリゴンミラー、104a、106a、108a、110a…感光体ドラム、104b、106b、108b、110b…帯電器、104c、106c、108c、110c…現像器、112…像形成部、114…中間転写ベルト、114a、114b、114c…搬送ローラ、118…2次転写ベルト、120…定着装置、122…転写部、124…受像材、130…定着部材、132…印刷物、200…レーザ制御部、202…画像処理部、204…露光制御部、206…バッファメモリ、208…画素分割部、210スムージング処理部、212…セレクタ、214…γ変換部、216…ドライバアレイ、218…LDアレイ、220…コントローラ、222…レジスタメモリ、300…画像領域、400…画像寄せパターン、500…アドレス割当て、600…画像寄せパターン・セット、700…進数計算処理

Claims (11)

  1. 画像ドットを含む複数の画素から構成される画像データを、主走査方向および副走査方向に前記画素単位に分割し、分割した前記画素のうち補正対象となる画素である注目画素を、複数の画像ドットを含む複数の画像区画に分割する分割手段と、
    前記注目画素の隣接画素の濃度の濃淡に基づいて、濃度が高い前記隣接画素の2次元方向である濃度方向に前記注目画素の濃度値を再現する面積割合の画像ドットを寄せるように、前記画像区画の画像ドットを補正する補正手段と、
    を備えることを特徴とする画像処理装置。
  2. 前記隣接画素数よりも少ない数の、前記画像区画の画像ドットを寄せる方向を前記画像区画単位で定めたパターン画素を記憶するパターン記憶手段をさらに備え、
    前記補正手段は、前記パターン画素で定められた前記画像ドットに基づいて、前記注目画素の画像ドットを、前記画像区画単位で前記濃度方向に寄せて補正する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の画像処理装置。
  3. 前記補正手段は、前記隣接画素の前記主走査方向および前記副走査方向の濃度を加算し、加算した前記濃度が最も高い方向を前記濃度方向として決定する、
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の画像処理装置。
  4. 前記補正手段は、決定した前記濃度方向が、前記パターン画素に定められた前記画像区画の画像ドットをシフトさせる方向に一致しない場合には、前記隣接画素数よりも少ない数の前記パターン画素の中から前記濃度方向を満たすような前記パターン画素を選択することによって、前記画像区画の画像ドットを前記濃度方向に寄せて補正する、
    ことを特徴とする請求項3に記載の画像処理装置。
  5. 前記補正手段は、さらに、前記注目画素の濃度が中間調であるか否かを判定し、前記注目画素の濃度が中間調であると判定した場合に、前記隣接画素数よりも少ない数の前記パターン画素の中から前記濃度方向を満たすような前記パターン画素を選択する、
    ことを特徴とする請求項4に記載の画像処理装置。
  6. 前記パターン記憶手段は、さらに、前記画像ドットが書き込まれた位置を示すアドレス値を前記画像区画に対応付けて記憶し、
    前記補正手段は、さらに、前記画像区画の数に対応した進数に基づいて前記アドレス値に対応する仮想アドレス値を算出し、計算した前記仮想アドレス値の前記画像区画に書き込まれた前記画像ドットを前記濃度方向に寄せて補正する、
    ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の画像処理装置。
  7. 前記補正手段は、前記仮想アドレス値を前記進数の補数に置換することによって算出する、
    ことを特徴とする請求項6に記載の画像処理装置。
  8. 前記画像ドットを形成させるようにレーザ光を照射する半導体レーザ、
    をさらに備えることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の画像処理装置。
  9. 前記半導体レーザは、面発光レーザである、
    ことを特徴とする請求項7に記載の画像処理装置。
  10. 原稿を読み取って、画像ドットを含む複数の画素から構成される画像データを生成する読取手段と、
    前記画像データを、主走査方向および副走査方向に前記画素単位に分割し、分割した前記画素のうち補正対象となる画素である注目画素を、複数の画像ドットを含む複数の画像区画に分割する分割手段と、
    前記注目画素の隣接画素の濃度の濃淡に基づいて、濃度が高い前記隣接画素の2次元方向である濃度方向に前記注目画素の濃度値を再現する面積割合の画像ドットを寄せるように、前記画像区画の画像ドットを補正する補正手段と、
    を備えることを特徴とする画像形成装置。
  11. 分割手段が、画像ドットを含む複数の画素から構成される画像データを、主走査方向および副走査方向に前記画素単位に分割し、分割した前記画素のうち補正対象となる画素である注目画素を、複数の画像ドットを含む複数の画像区画に分割する分割ステップと、
    補正手段が、前記注目画素の隣接画素の濃度の濃淡に基づいて、濃度が高い前記隣接画素の2次元方向である濃度方向に前記注目画素の濃度値を再現する面積割合の画像ドットを寄せるように、前記画像区画の画像ドットを補正する補正ステップと、
    を含むことを特徴とする画像処理方法。
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