JP5217791B2 - 発光装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
本発明に係る発光装置は、発光素子、反射層及び半透明半反射層からなる共振器構造を備えるが、半透明半反射層が屈折率1以上であることから、当該半透明半反射層から入射してこようとする外光は、全反射条件からより遠い条件下、当該層内で屈折することになる。一方、仮に、屈折率が1を下回る場合を考えると、この場合、外光は、全反射条件からより近い条件下、当該層内で屈折することになる。
これら両者の場合を比べると、外光反射の絶対量自体が、後者に比べて前者の方が相対的に小さくなると考えられる。よって、本発明によれば、外光反射低減効果が得られることになるのである。
d2=(p+1/2)・λ/2−(φ1−φ2)・λ/4π … 式(1)
ここで、λは前記カラーフィルタの透過率のピークに相当する波長であり、φ1は、前記発光機能層とは反対側から前記半透明半反射層に進行する波長λの光が、前記半透明半反射層の前記発光機能層とは反対側の界面で反射するときの位相変化であり、φ2は、前記発光機能層側から前記反射層に進行する波長λの光が、前記反射層で反射するときの位相変化であり、pは、正の整数である。
この態様によれば、前記共振器構造が、減衰的干渉を生じさせるための光学的距離を基準に構成されていることから、前述の効果がより実効的に奏される。これを満たす、より具体的な構成ないし構造については、実施の形態において説明される。
d1=(p+1/2)・λ/2−(φ1−φ2)・λ/4π−nz・tz … 式(2)
ここで、λは前記カラーフィルタの透過率のピークに相当する波長であり、φ1は、前記発光機能層とは反対側から前記半透明半反射層に進行する波長λの光が、前記半透明半反射層の前記発光機能層とは反対側の界面で反射するときの位相変化であり、φ2は、前記発光機能層側から前記反射層に進行する波長λの光が、前記反射層で反射するときの位相変化であり、pは、正の整数であり、nzは前記半透明半反射層の波長λに関する屈折率である。
この態様によれば、前記共振器構造が、減衰的干渉を生じさせるための光学的距離を基準に構成されていることから、前述の効果がより実効的に奏される。これを満たす、より具体的な構成ないし構造については、実施の形態において説明される。
なお、半透明半反射層の物理的な厚さtzの変化(製造プロセス上利用される各種パラメータの調整、あるいはそれらの誤差等による。)は、通常、屈折率の変化をもたらす。したがって、好ましくは、この物理的な厚さtzを積極的に調整することを通じて、屈折率が1以上である、という条件が満たされるような屈折率に係る調整が行われるとよい。
この態様によれば、まず、物理的厚さ及び合金組成比率の調整を通じて、半透明半反射層の屈折率の好適に調整を行うことができる。
また、本態様によれば、半透明半反射層の材料設計に関する設計自由度が高められる。例えば、前記1種の単位元素の組成比率が増大すれば屈折率は減少し、かつ、前記物理的厚さが増大すれば屈折率は増大する、等といった関係がある場合には、物理的厚さを相対的に大きくするなら、前記1種の単位元素の組成比率を上げる、などといった材料設計が可能になる。逆に、合金組成を予め所望のものに定めた後に、物理的厚さを定めることもできる。
ここで、一般に、合金組成比率の変化に伴っては、透明度等の光学的特性や、強度、温度変化に対する感応度(熱膨張率等)等の機械的・力学的・物理的特性、各種化学物質等に対する耐性等の化学的特性等々もまた変化し得るのが通常である。したがって、実際上の装置に、どのような合金組成比率をもつ材料を利用するかは、様々な事情が勘案された上で決定されるのが好ましい。
このような事情を鑑みるに、例えば上述のように、最初に好ましい合金組成比率を定めた後にも、厚さを調整することで、屈折率を調整可能である、等という本態様は、極めて有利である。これにより、全般的な観点からみて諸々の要求を満たした半透明半反射層を提供することができるからである。
この態様によれば、半透明半反射層が、好適に「屈折率が1以上である」ということが満たされる。なお、半透明半反射層を構成する材料として、このMgAgを利用する場合には、その膜厚は、12.5nm以上とすることが好ましく、また、MgAgの組成比率は、Mgを10とした場合のAgの比率が10以下であることが好ましい。その限界的な意義は、後の実施の形態における説明を参照されたい。
本発明によれば、上述した各種の発光装置を備えてなるので、外光反射低減効果が実効的に享受される。したがって、より高品質の画像を表示することが可能である。
図1は、本発明の実施の形態に係る発光装置としての有機EL装置1の概略を示す断面図である。有機EL装置1は、発光パネル3とカラーフィルタパネル30とを備える。
本実施形態では、第1の電極層18(18R,18G,18B)は、画素(発光素子2)にそれぞれ設けられる画素電極であり、例えば陽極である。第1の電極層18は、例えばITO(Indium Tin Oxide)又はZnO2のような透明材料から形成されている。第1の電極層18の厚さは、発光色に応じて異なっている。つまり、第1の電極層18R,18G,18Bは、互いに異なる厚さを有する。
この第2の電極層22は、上述のうちでは特にMgAg等の屈折率が1以上の材料から作られるのが好ましいが、この点については、後の作用効果の説明の際に、より具体的なデータ等についての説明も交えながら、改めて説明することとする。
接着剤28は、カラーフィルタパネル30のカラーフィルタ36と発光パネル3のパッシベーション層27(図2参照)の間に配置され、カラーフィルタパネル30における基板32とカラーフィルタ36を発光パネル3の各層に対して平行に支持する。
以下に、より具体的に説明する。
図2は、カラーフィルタ36を通じて発光パネル3の発光素子2に向けて外光が到来したときの光の軌跡を簡略的に示す模式図である。カラーフィルタ36を透過した外光は、透明な接着剤28を通って、さらにパッシベーション層27を透過し、半透明半反射性の第2の電極層22に到達する。外光の一部は、パッシベーション層27と第2の電極層22の界面(第2の電極層22の発光機能層20とは反対側の界面)で反射する。この反射のときの位相変化をφ1とする。
反射層12での反射光は、絶縁体透明層14、第1の電極層18、発光機能層20を透過し、その一部が半透明半反射性の第2の電極層22を透過して発光素子2から接着剤28へと進行し、上述したパッシベーション層27と第2の電極層22の界面での反射光と干渉する。なお、図2において各界面での光の屈折による光路変化の図示は省略して、光路は直線で示している。
2・d2=(p+1/2)・λ−(φ1−φ2)・λ/2π … 式(3)
ここで、d2は、反射層12の発光機能層20側の界面と、第2の電極層22の発光機能層20とは反対側の界面との間の光学的距離(nm)である。光学的距離d2は、絶縁体透明層14、第2の電極層22及びこれらの間の層の屈折率と厚さの積の総和である。
d2R=(p+1/2)・λR/2−(φ1R−φ2R)・λR/4π … 式(4)
d2G=(p+1/2)・λG/2−(φ1G−φ2G)・λG/4π … 式(5)
d2B=(p+1/2)・λB/2−(φ1B−φ2B)・λB/4π … 式(6)
ここで、d2Rは、発光素子2Rについての光学的距離d2、λRはカラーフィルタ36Rの透過率のピークに相当する波長610nm、φ1Rは波長λRでの位相変化φ1、φ2Rは波長λRでの位相変化φ2である。
また、d2Gは、発光素子2Gについての光学的距離d2、λGはカラーフィルタ36Gの透過率のピークに相当する波長550nm、φ1Gは波長λGでの位相変化φ1、φ2Gは波長λGでの位相変化φ2であり、d2Bは、発光素子2Bについての光学的距離d2、λBはカラーフィルタ36Bの透過率のピークに相当する波長470nm、φ1Bは波長λBでの位相変化φ1、φ2Bは波長λBでの位相変化φ2である。
d1=d2−nz・tz
ゆえに d1=(p+1/2)・λ/2−(φ1−φ2)・λ/4π−nz・tz … 式(7)
ここで、nzは波長λの光に関する第2の電極層22の屈折率であり、tzは第2の電極層22の厚さである。
d1R=(p+1/2)・λR/2−(φ1R−φ2R)・λR/4π−nzR・tz … 式(8)
d1G=(p+1/2)・λG/2−(φ1G−φ2G)・λG/4π−nzG・tz … 式(9)
d1B=(p+1/2)・λB/2−(φ1B−φ2B)・λB/4π−nzB・tz … 式(10)
ここで、d1Rは、発光素子2Rについての光学的距離d1、nzRは波長λRの光に関する第2の電極層22の屈折率nzである。
また、d1Gは、発光素子2Gについての光学的距離d1、nzGは波長λGの光に関する第2の電極層22の屈折率nzであり、d1Bは、発光素子2Bについての光学的距離d1、nzBは波長λBの光に関する第2の電極層22の屈折率nzである。
以上、別個の界面での反射光を減衰的干渉により低減するために好適な条件を説明した。
以下では、以上のような構成を備える有機EL装置の作用効果について、既に参照した図1及び図2に加えて、図3乃至図9を参照しながら説明する。
これらの図3乃至図9は、上に説明した構造をもつ有機EL装置に基づき、光学シミュレーションを実行した結果を示している。なお、このシミュレーション結果は、株式会社豊田中央研究所が製作した光学シミュレーションプログラムである商品名「Opt Designer」を使用して得られている。なお、この点については、後に参照する図10乃至図14についても同様である。
まず、本実施形態の有機EL装置の作用効果の説明に入る前提として、前記第2の電極層22に関する、その厚さとその屈折率との関係について説明する。
図3の上方には、かかる関係についてのグラフが示されている。
この図に示すように、まず、第2の電極層22の厚さの相違にかかわらず、波長が大きくなるにつれて、その屈折率はほぼ比例的に増大していくことが確認される。
これに加え、この図からは、第2の電極層22の厚さが増大していくにつれて、その屈折率は大きくなっていくことが確認される。すなわち、図3では、膜厚がT1=11nm、T2=12.5nm、T3=20nmのそれぞれの場合の屈折率が示されているが、膜厚T1の場合は、波長が600nm半ばあたりまで、屈折率は1に届かない。これに対して、膜厚T2及び膜厚T3の場合は、全波長領域にわたって屈折率は1以上となる。特に、この図から、全波長領域において屈折率が1以上となるための限界的な値が、膜厚T2であることがわかる。
また、この図3の上方の結果は、第2の電極層22が、MgとAgを含む合金であり、かつ、前者が10に対して後者が1の重量比の関係にある合金から作られている場合に基づいている。かかる事情は、後に参照する図4乃至図9においても前提とされている。
なお、前述の光学的距離d1G、及び光学的距離d2Gを求めるための、式(5)及び式(9)に代入すべき値としては、例えば図4に示されるような値(今の場合、緑色光が問題となっているので、同図の「発光素子2G」の列にある値)を用いることができる。このような値を用いながら、p=1とし、かつ、nzG=1.24、tz=12.5nmとした場合における、光学的距離d1G及び光学的距離d2Gはそれぞれ、d1G=約406.2nm、d2G=約422.0nmとなる。
また、上記シミュレーションを実行する場合において、絶縁体透明層14の厚さ、発光機能層20の厚さは発光素子2R,2G,2Bで共通にし、第1の電極層18の厚さが発光素子2R,2G,2Bに応じて異なることを条件とした。
さらに、シミュレーションの実際において、各層の材料、厚さ及び屈折率は、図5の通りに設定される。ちなみに、ここに示される数値に従って、光学的距離d1G相当の値である光学的距離d1G’値を算出すると、d1G’=約426.3nmとなる。この光学的距離d1G’と前記の光学的距離d1Gとの間に相違があるのは、後者の算出根拠たる式(5)及び式(9)では積層構築物を構成する各層間の他の界面による反射が考慮されていないこと等による。このように光学的距離d1G’及び光学的距離d1Gは必ずしも一致するとは限らないが、光学的距離d1G’が光学的距離d1Gに基づいていることに変わりはない。
なお、前記の図4及び図5においては、後述する図6及び図7に示す青色光及び赤色光に関する同様の数値についても、併せ掲載している。
すなわち、まず、図3の下方に示す、波長に従って変化する反射率を示す曲線の各々において、その最小値に着目する。これらの最小値は、同図に示すように、膜厚T1,T2,T3に関する曲線のそれぞれに関し、m1,m2,m3である。
残る線分R2及び線分R3についても、同様である。ただし、これら線分R2及び線分R3の図3中上方の端点をみれば、いずれにおいても、屈折率は1以上であることがわかる。
すなわち、前記の式(5)及び式(9)は、上述のように減衰的干渉を生じさせるための光学的距離d1G及び光学的距離d2Gを求めるための式ではあるが、波長λG及びその付近の波長において反射率が最小となるべき光学的距離d1G及び光学的距離d2Gを求めるための式であるということも不可能ではない。シミュレーションは、これら光学的距離d1G及び光学的距離d2Gにほぼ一致する条件で行われているから、その結果たる図3の下方における最小値m1,m2,m3もまた、当然、その反射率が最小となるべき光学的距離d1G及び光学的距離d2Gを反映しているといえる。特に、光学的距離d1Gは、上述の式(9)に示すように、第2の電極層22の屈折率nzG(及び物理的な厚さtzG)に応じて変化する。
以上をまとめると、屈折率nzGの変化が、光学的距離d1Gに影響を与え、更にそのことが反射率低減効果、具体的には前記最小値m1,m2,m3に影響を及ぼす、という一連の関係をみてとることができる。
この図に示すように、曲線Grefはピーク波長550nm付近で極めて低い反射率値をとり、曲線Brefはピーク波長470nm付近で極めて低い反射率値をとり、曲線Rrefはピーク波長610nmで極めて低い反射率値をとる。
なお、上記で「視感度特性としての反射率」とは、多数の発光素子2をカラーフィルタ36越しに総合的に見た場合の反射率を意味する。具体的には、図8のグラフを積分した結果得られるものである。
なお、上記の説明及び図3等から明らかなように、可視光領域(400nm〜800nm)で波長400nmにおける第2の電極層22の屈折率は1以上であることが望ましい。一方、屈折率の実質的な上限値としては、波長800nmにおける屈折率で規定することが望ましく、第2の電極層22の屈折率の上限値は3以下であればよく、また、図3より上限値は2.5以下としてもよい。
次に、第2の電極層22の組成が、当該第2の電極層22の屈折率に及ぼす影響について説明する。
図10は、第2の電極層22の膜厚を、前記図8及び図9と同様、12.5nm(=膜厚T2)に固定したまま、その組成成分たるMgとAgとの組成比率を変化させた場合に、屈折率がどうなるかを示すグラフである。
この図10に示すように、MgとAgとの組成比率が10:1である場合(図中符号「C1」参照)を基準として、Agの比率が高まっていくと、屈折率は次第に小さくなっていくことが確認される。図10では、Mg:Ag=10:3の場合が「C2」として、同じく10:5の場合が「C3」として、それぞれ示されている。また、Agが含まれていない場合、即ちMg単体の場合が「C0」として示されている。
この図11により、まず、膜厚が大きくなればなるほど、屈折率は大きくなることがわかる。例えば、図11の符号「C1」が付された曲線と、図10の符号「C1」が付された曲線(いずれも、Mg:Ag=10:1の場合の曲線である。)とを比較するとわかるように、膜厚が大きい方が、全体的に底上げされるかの如く、屈折率の値が全波長領域で大きくなっていることがわかる。
一方、図11によれば、MgAgにおけるAgの組成比率が増大すればするほど、屈折率は減少していくこともわかる。この傾向は、図10を参照して説明した傾向と同じである。なお、図11では、Mg:Ag=10:10の場合が「C4」として示されている。また、符号「C0」、「C3」の意味合いは、図10の場合と同じである。
ここで、前述した、屈折率が1以上であることが望ましいという観点に配慮しながら、図10及び図11を再見する。すると、図10では符号「C3」が付された曲線の場合、波長の小さい領域で、屈折率が1以下となる部分が存在する。ところが、同じ組成比率でも、図11における符号「C3」が付された曲線の場合、全波長領域で屈折率が1以上となっていることがわかる。これは、前述のように、図11の場合、膜厚が20nmとされていて、図10の12.5nmの場合よりも、膜厚が大きくされていることによる。
要するに、これら図10及び図11からは、第2の電極層22の膜厚を大きくすれば、上述のような屈折率に関する「全体的な底上げ」を実現することができることから、その場合には、Agの比率を一定程度高めることができる、という一定の関係を読み取ることができる。図11をみると、膜厚が20nmであれば、限界的な組成比率は、その波長が400nm近傍で屈折率が若干「1」を下回る部分をもつものの、Mg:Ag=10:10と設定しうると考えられる。
なお、この図12は、以下の各前提を置いた上での結果である。(i)図12中の各組成比率としての曲線C1,C3,C4の意味合いは図11の場合と同様である、(ii)膜厚も図11と同様、20nmである、(iii)図12は、緑色光に関する反射率のシミュレーションである。
この図13に示すように、曲線Grefはピーク波長550nm付近で極めて低い反射率値をとり、曲線Brefはピーク波長470nm付近で極めて低い反射率値をとり、曲線Rrefはピーク波長610nmで極めて低い反射率値をとる。
このように、本実施形態の有機EL装置では、第2の電極層22の屈折率が1以上であるのみならず、その合金組成比率を適当に調整することにより、よりよい反射率低減効果が得られる。
(1) 上述した実施の形態では、透明な第1の電極層18が陽極、半透明半反射性の第2の電極層22が陰極であるが、第1の電極層18が陰極で第2の電極層22が陽極であってもよい。
(2) 上述した実施の形態では、第1の電極層18と反射層12が別個の層であるが、第1の電極層18を反射層と兼用してもよい。
(4) 上述した実施の形態に係る発光装置は、有機EL装置であるが、本発明に係る発光装置は、無機EL装置であってもよい。
そして、この形態でも、発光素子2R,2G,2Bに応じて、第1の電極層18の厚さが異なっている。これは、上述の実施形態と同様、前述の式(4)乃至式(6)から算出される光学的距離d2、及び、式(8)乃至式(10)により算出される光学的距離d1、を満たそうとするためである。
例えば、図16に示すように、発光素子2R,2G,2Bの別に応じて、発光機能層20R,20G,20Bの厚さを異ならせてもよい。あるいは、図17に示すように、発光素子2R,2G,2Bの別に応じて、絶縁体透明層14の厚さを異ならせてもよい。
次に、本発明に係る有機EL装置を適用した電子機器について説明する。図18は、上記実施形態に係る発光装置を画像表示装置に利用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ2000は、画像表示装置としての有機EL装置1と本体部2010とを備える。本体部2010には、電源スイッチ2001およびキーボード2002が設けられている。
図19に、上記実施形態に係る発光装置を適用した携帯電話機を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001およびスクロールボタン3002、ならびに画像表示装置としての有機EL装置1を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、有機EL装置1に表示される画面がスクロールされる。
図20に、上記実施形態に係る発光装置を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistant)を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001および電源スイッチ4002、ならびに画像表示装置としての有機EL装置1を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機EL装置1に表示される。
Claims (6)
- 第1の電極層と、第2の電極層と、前記第1の電極及び前記第2の電極の間に配置された発光機能層とを有する発光素子と、
前記発光機能層で発せられた光を前記発光機能層に向けて反射する反射層と、
前記発光機能層を挟んで前記反射層の反対側に配置され、前記発光機能層で発せられた光の一部を前記発光機能層に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層と、
前記半透明反射層を挟んで前記発光機能層の反対側に配置され、前記半透明半反射層を透過した光を透過させるカラーフィルタと、
を備え、
前記半透明半反射層は、屈折率が1以上であり、
前記半透明半反射層は所定の物理的な厚さt z をもち、かつ、
前記反射層の前記発光機能層側の界面から、前記半透明半反射層における前記反射層に対向する界面までの光学的距離が、式(2)で算出される光学的距離d 1 に基づいて定められることを特徴とする記載の発光装置。
d 1 =(p+1/2)・λ/2−(φ 1 −φ 2 )・λ/4π−n z ・t z … 式(2)
ここで、λは前記カラーフィルタの透過率のピークに相当する波長であり、
φ 1 は、前記発光機能層とは反対側から前記半透明半反射層に進行する波長λの光が、
前記半透明半反射層の前記発光機能層とは反対側の界面で反射するときの位相変化であり、
φ 2 は、前記発光機能層側から前記反射層に進行する波長λの光が、前記反射層で反射するときの位相変化であり、
pは、正の整数であり、
n z は前記半透明半反射層の波長λに関する屈折率である。 - 前記半透明半反射層の屈折率は3以下であることを特徴とする、請求項1に記載の発光装置。
- 前記半透明反射層の屈折率は2.5以下であることを特徴とする、請求項2に記載の発光装置。
- 前記半透明半反射層は、少なくとも2種以上の単位元素からなる合金を含み、
そのうちの1種の単位元素の組成比率の変化、及び、当該半透明半反射層の物理的厚さの変化に応じて、前記屈折率が変化する場合において、
当該半透明半反射層の合金組成は、前記物理的厚さに応じ、又は、
当該半透明半反射層の前記物理的厚さは、前記合金組成に応じて定められる、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の発光装置。 - 前記半透明半反射層は、MgAgを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の発光装置。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の発光装置を備える、
ことを特徴とする電子機器。
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