JP5116754B2 - 光学式検出装置および電子機器 - Google Patents
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Description
発光素子と、
上記発光素子から出射された光束を測定対象物に照射する照射光学系と、
上記測定対象物からの反射光を集光する反射光光学系と、
上記反射光光学系により集光された上記測定対象物からの反射光を検出する受光素子と、
上記受光素子からの受光信号を処理する信号処理部と
を備え、
上記受光素子は、上記測定対象物からの反射光の強度分布を検出するエリアセンサであって、
上記信号処理部は、
上記発光素子から出射された光束の光軸をz軸とし、上記z軸に直交しかつ上記発光素子と上記受光素子とを結ぶ直線方向に沿った直線をx軸とし、上記z軸と上記x軸との交点を通りかつ上記z軸および上記x軸に直交する直線をy軸とし、上記x軸と上記y軸を含む平面をxy座標平面とするとき、上記受光素子からの上記受光信号に基づいて、上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形の正と負のピーク強度または上記受光素子上の光スポットの重心位置の少なくとも一方から上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方を検出すると共に、
上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方の所定時間前後の差に基づいて、上記測定対象物の移動方向または移動速度の少なくとも一方を検出することを特徴とする。
また、信号処理部により、受光素子上の光スポット位置を表す光スポットの重心位置から測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方を検出することによって、簡便な信号処理部で測定対象物の位置情報を検出できる。
さらに、信号処理部により、xy座標平面上の測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方の所定時間前後の差に基づいて、測定対象物の移動方向または移動速度の少なくとも一方を検出することによって、簡便な信号処理部により測定対象物の移動情報を検出することが可能となる。
また、この発明の光学式検出装置は、
発光素子と、
上記発光素子から出射された光束を測定対象物に照射する照射光学系と、
上記測定対象物からの反射光を集光する反射光光学系と、
上記反射光光学系により集光された上記測定対象物からの反射光を検出する受光素子と、
上記受光素子からの受光信号を処理する信号処理部と
を備え、
上記受光素子は、上記測定対象物からの反射光の強度分布を検出するラインセンサであって、
上記信号処理部は、
上記発光素子から出射された光束の光軸をz軸とし、上記z軸に直交しかつ上記発光素子と上記受光素子とを結ぶ直線方向に沿った直線をx軸とし、上記z軸と上記x軸との交点を通りかつ上記z軸および上記x軸に直交する直線をy軸とし、上記x軸と上記y軸を含む平面をxy座標平面とするとき、上記受光素子からの上記受光信号に基づいて、上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形の正と負のピーク強度または上記受光素子上の光スポットの重心位置の少なくとも一方から上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方を検出すると共に、
上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方の所定時間前後の差に基づいて、上記測定対象物の移動方向または移動速度の少なくとも一方を検出することを特徴とする。
上記構成によれば、発光素子から出射された光束を照射光学系により測定対象物に照射し、その測定対象物からの反射光を反射光光学系により集光して受光素子上に光スポットを形成し、その光スポット形状を表す光強度分布の微分波形の正と負のピーク強度または光スポットの重心位置の少なくとも一方からxy座標平面上の測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方を検出するので、複雑な画像信号処理回路を必要とせず簡便な処理で測定対象物の位置情報を検出できる。したがって、複雑な画像信号処理回路なしに簡単な構成で手などの人の動きを容易に検出できる小型で安価な光学式検出装置を実現できる。
また、信号処理部により、受光素子からの受光信号に基づいて受光素子上の光スポット形状の微分波形を演算し、その微分波形の正と負のピーク強度から測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方を検出することによって、簡便な信号処理部で測定対象物の位置情報を検出できる。
また、信号処理部により、受光素子上の光スポット位置を表す光スポットの重心位置から測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標を検出することによって、簡便な信号処理部で測定対象物の位置情報を検出できる。
さらに、信号処理部により、xy座標平面上の測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の所定時間前後の差に基づいて、測定対象物の移動方向または移動速度の少なくとも一方を検出することによって、簡便な信号処理部により測定対象物の移動情報を検出することが可能となる。
上記受光素子が上記エリアセンサであるときは、上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形のゼロクロス位置から上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方を検出し、
上記受光素子が上記ラインセンサであるときは、上記微分波形のゼロクロス位置から上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方を検出する。
上記受光素子は、複数の画素が行方向と列方向に格子状に配列されたエリアセンサであり、
上記エリアセンサの配列された複数の画素の行方向は、上記x軸に平行であり、上記エリアセンサの配列された複数の画素の列方向は、上記y軸に平行であり、
上記信号処理部は、
上記x軸に平行な行毎に、その行の画素上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形を演算し、その微分波形の正と負のピーク強度から上記測定対象物の概略位置を表すx座標を検出する微分波形演算か、または、その行の画素上の光スポットの重心位置から上記測定対象物の概略位置を表すx座標を検出する重心位置演算の少なくとも一方を行うと共に、
上記y軸に平行な列毎に、その列の画素上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形を演算し、その微分波形の正と負のピーク強度から上記測定対象物の概略位置を表すy座標を検出する微分波形演算か、または、その列の画素上の光スポットの重心位置から上記測定対象物の概略位置を表すy座標を検出する重心位置演算の少なくとも一方を行う。
上記信号処理部は、
上記発光素子から出射された発光光束全体が上記測定対象物に照射されるとき、上記受光素子上の光スポット位置から三角測量法を用いて上記測定対象物の上記z軸方向のz座標を検出する。
上記信号処理部は、
上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形の正と負のピーク強度が略同一であるときに、上記受光素子上の光スポット位置から三角測量法を用いて上記測定対象物の上記z軸方向のz座標を検出する。
上記光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備えたことを特徴とする。
上記光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の移動情報により電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備えたことを特徴とする。
上記光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備え、
上記制御装置は、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記測定対象物の予め決められた状態が一定時間連続したと判別すると、上記電子機器本体の動作状態を制御することが許可され、
上記電子機器本体の動作状態を制御することが許可されたとき、上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記電子機器本体の動作状態を制御することを特徴とする。
上記光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備え、
上記制御装置は、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記電子機器本体の動作状態についての設定を行った後、上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記測定対象物の予め決められた状態が一定時間連続したと判別すると、上記設定された電子機器本体の動作状態について制御を実行することを特徴とする。
上記光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備え、
上記光学式検出装置は、
出射光軸または受光軸をz軸とし、上記z軸に直交しかつ上記出射光軸と上記受光軸とを含む平面に沿った直線をx軸とし、上記z軸と上記x軸との交点を通りかつ上記z軸および上記x軸に直交する直線をy軸とし、上記x軸と上記y軸を含む平面をxy座標平面とするとき、上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標とy座標および上記z軸方向のz座標を上記位置情報として検出すると共に、
上記制御装置は、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の概略位置を表すx座標とy座標に基づいて、上記xy座標平面に沿って上記測定対象物が移動したと判別すると、上記電子機器本体を制御するための複数の動作状態についてのメニューを順送りして選択すると共に、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物のz座標に基づいて、上記測定対象物までの距離が予め決定された条件で変化したと判別すると、上記メニューから選択された動作状態について制御を実行することを特徴とする。
図1はこの発明の第1実施形態の光学式検出装置の構成を示す断面図である。この第1実施形態の光学式検出装置10は、図1に示すように、基板1上に所定の間隔をあけて搭載された発光素子2および受光素子3と、上記発光素子2を覆うように透光性樹脂でモールドされた透光性樹脂部4と、上記受光素子3を覆うように透光性樹脂でモールドされた透光性樹脂部5とを備えている。上記透光性樹脂部4に、発光素子2から発光光束が出射する照射光学系の一例としての発光レンズ部4aを形成している。また、上記透光性樹脂部5は、反射光が入射する反射光光学系の一例としての受光レンズ部5aを形成している。さらに、上記光学式検出装置10は、発光レンズ部4aと受光レンズ部5aを除く透光性樹脂部4,5の外側を覆うように遮光性樹脂でモールドされた遮光性樹脂部6を備えている。
図3は発光光束から任意の距離だけ離れた位置で測定対象物H(この実施の形態では人の手)が横切るときの各時刻における測定対象物Hと光スポットの状態を示している。図3の上段が受光素子3(イメージセンサ)上に光スポットが照射されるエリアを示しており、図3の下段が光学式検出装置10の発光光束と測定対象物Hの位置関係を示している。
図4(A)〜図4(C)は、図3の時刻t(1),t(2),t(3)における第2の位置演算方法を説明する図である。図4(A)に示す左列は、各時刻における光スポットイメージを示しており、図4(B)に示す中列のグラフは、任意のy値で切り出したx軸方向の強度分布を示している。ここで、発光素子2の出射光の光軸をz軸とし、そのz軸に直交しかつ発光素子2と受光素子3とを結ぶ直線をx軸(図4(A)に示す左列で水平方向)とし、z軸とy軸の交点を通りかつz軸とy軸に夫々直交する直線をy軸(図4(A)に示す左列で垂直方向)としている。また、図4(C)に示す右列のグラフは、中列の光スポットプロファイルをxで微分した微分プロファイル(空間微分波形)を示している。
第3の位置演算方法を図4を用いて説明する。図4の中列の光スポットプロファイルのように、測定対象物Hの位置によってプロファイルが分布するx座標上の中心位置が異なる(図4では時刻t(1),t(2),t(3)において中心位置はg(1),g(2),g(3))。信号処理部7において、この中心位置を重心演算により検出することにより、測定対象物Hの位置を検出することができる。
第4の位置演算方法を図4を用いて説明する。第3の位置演算方法と同様、図4の中列の光スポットプロファイルのように測定対象物Hの位置によってプロファイルが分布する中心が異なるので、光スポットプロファイルのピーク位置を検出することにより測定対象物Hの位置を検出することができる。具体的には、図4の右列のように微分波形が正と負が反転するx座標(ゼロクロス点:d1,d2,d3)を検出することにより検出できる。図5を用いた説明は省略する。
上述の第1〜第4の位置演算方法で求められる位置を適宜複数用いて、その平均化処理や組み合わせを利用することにより、測定対象物Hの位置をより確実に検出することが可能である。
の条件を満足する必要がある。
図10はこの発明の第2実施形態の光学式検出装置を示す模式図である。この第2実施形態の光学式検出装置10は、第1実施形態の光学式検出装置10と同一の構成をしており、同一構成部には同一参照番号を付している。
図14はこの発明の第3実施形態の光学式検出装置の概略構成を示す模式図である。この第3実施形態の光学式検出装置は、信号処理部7(図2に示す)の演算機能を除いて第1実施形態や第2実施形態の光学式検出装置と同一の構成をしており、同一構成部には同一参照番号を付している。この第3実施形態の光学式検出装置の信号処理部7は、受光素子3上の光スポット位置から測定対象物20までの距離を演算する機能が備わっており、この点で第1実施形態や第2実施形態の光学式検出装置と異なる。
図16Aと図16Bはそれぞれ光学式検出装置が搭載された電子機器の一例であるテレビ受像機および空気調和機を示している。
図17はこの発明の第5実施形態の光学式検出装置が搭載された電子機器の一例としてのシステムキッチン300を示している。
図19A〜図19Cはこの発明の第6実施形態の光学式検出装置が搭載された電子機器の一例である電子レンジ500を示している。
2…発光素子
3…受光素子
4…透光性樹脂部
4a…発光レンズ部
5…透光性樹脂部
5a…受光レンズ部
6…遮光性樹脂部
7…信号処理部
8…ドライバ
10…光学式検出装置
11…照射領域
12…発光光束
20…測定対象物
100…テレビ受像機
101,201,303,401,501…制御装置
200…空気調和機
300…システムキッチン
400…モバイルフォン
500…電子レンジ
H…手
Claims (11)
- 発光素子と、
上記発光素子から出射された光束を測定対象物に照射する照射光学系と、
上記測定対象物からの反射光を集光する反射光光学系と、
上記反射光光学系により集光された上記測定対象物からの反射光を検出する受光素子と、
上記受光素子からの受光信号を処理する信号処理部と
を備え、
上記受光素子は、上記測定対象物からの反射光の強度分布を検出するエリアセンサであって、
上記信号処理部は、
上記発光素子から出射された光束の光軸をz軸とし、上記z軸に直交しかつ上記発光素子と上記受光素子とを結ぶ直線方向に沿った直線をx軸とし、上記z軸と上記x軸との交点を通りかつ上記z軸および上記x軸に直交する直線をy軸とし、上記x軸と上記y軸を含む平面をxy座標平面とするとき、上記受光素子からの上記受光信号に基づいて、上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形の正と負のピーク強度または上記受光素子上の光スポットの重心位置の少なくとも一方から上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方を検出すると共に、
上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方の所定時間前後の差に基づいて、上記測定対象物の移動方向または移動速度の少なくとも一方を検出することを特徴とする光学式検出装置。 - 発光素子と、
上記発光素子から出射された光束を測定対象物に照射する照射光学系と、
上記測定対象物からの反射光を集光する反射光光学系と、
上記反射光光学系により集光された上記測定対象物からの反射光を検出する受光素子と、
上記受光素子からの受光信号を処理する信号処理部と
を備え、
上記受光素子は、上記測定対象物からの反射光の強度分布を検出するラインセンサであって、
上記信号処理部は、
上記発光素子から出射された光束の光軸をz軸とし、上記z軸に直交しかつ上記発光素子と上記受光素子とを結ぶ直線方向に沿った直線をx軸とし、上記z軸と上記x軸との交点を通りかつ上記z軸および上記x軸に直交する直線をy軸とし、上記x軸と上記y軸を含む平面をxy座標平面とするとき、上記受光素子からの上記受光信号に基づいて、上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形の正と負のピーク強度または上記受光素子上の光スポットの重心位置の少なくとも一方から上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方を検出すると共に、
上記xy座標平面上の上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方の所定時間前後の差に基づいて、上記測定対象物の移動方向または移動速度の少なくとも一方を検出することを特徴とする光学式検出装置。 - 請求項1または2に記載の光学式検出装置において、
上記受光素子が上記エリアセンサであるときは、上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形のゼロクロス位置から上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の少なくとも一方を検出し、
上記受光素子が上記ラインセンサであるときは、上記微分波形のゼロクロス位置から上記測定対象物の概略位置を表すx座標またはy座標の一方を検出することを特徴とする光学式検出装置。 - 請求項1に記載の光学式検出装置において、
上記受光素子は、複数の画素が行方向と列方向に格子状に配列されたエリアセンサであり、
上記エリアセンサの配列された複数の画素の行方向は、上記x軸に平行であり、上記エリアセンサの配列された複数の画素の列方向は、上記y軸に平行であり、
上記信号処理部は、
上記x軸に平行な行毎に、その行の画素上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形を演算し、その微分波形の正と負のピーク強度から上記測定対象物の概略位置を表すx座標を検出する微分波形演算か、または、その行の画素上の光スポットの重心位置から上記測定対象物の概略位置を表すx座標を検出する重心位置演算の少なくとも一方を行うと共に、
上記y軸に平行な列毎に、その列の画素上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形を演算し、その微分波形の正と負のピーク強度から上記測定対象物の概略位置を表すy座標を検出する微分波形演算か、または、その列の画素上の光スポットの重心位置から上記測定対象物の概略位置を表すy座標を検出する重心位置演算の少なくとも一方を行うことを特徴とする光学式検出装置。 - 請求項1から4までのいずれか1つに記載の光学式検出装置において、
上記信号処理部は、
上記発光素子から出射された発光光束全体が上記測定対象物に照射されるとき、上記受光素子上の光スポット位置から三角測量法を用いて上記測定対象物の上記z軸方向のz座標を検出することを特徴とする光学式検出装置。 - 請求項1から4までのいずれか1つに記載の光学式検出装置において、
上記信号処理部は、
上記受光素子上の光スポット形状を表す光強度分布の微分波形の正と負のピーク強度が略同一であるときに、上記受光素子上の光スポット位置から三角測量法を用いて上記測定対象物の上記z軸方向のz座標を検出することを特徴とする光学式検出装置。 - 請求項1から6までのいずれか1つに記載の光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備えたことを特徴とする電子機器。 - 請求項1から6までのいずれか1つに記載の光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の移動情報により電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備えたことを特徴とする電子機器。 - 請求項1から6までのいずれか1つに記載の光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備え、
上記制御装置は、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記測定対象物の予め決められた状態が一定時間連続したと判別すると、上記電子機器本体の動作状態を制御することが許可され、
上記電子機器本体の動作状態を制御することが許可されたとき、上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記電子機器本体の動作状態を制御することを特徴とする電子機器。 - 請求項1から6までのいずれか1つに記載の光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備え、
上記制御装置は、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記電子機器本体の動作状態についての設定を行った後、上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報または移動情報の少なくとも一方に基づいて、上記測定対象物の予め決められた状態が一定時間連続したと判別すると、上記設定された電子機器本体の動作状態について制御を実行することを特徴とする電子機器。 - 請求項5または6に記載の光学式検出装置と、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物の位置情報に基づいて、電子機器本体の動作状態を制御する制御装置と
を備え、
上記光学式検出装置は、
出射光軸または受光軸をz軸とし、上記z軸に直交しかつ上記出射光軸と上記受光軸とを含む平面に沿った直線をx軸とし、上記z軸と上記x軸との交点を通りかつ上記z軸および上記x軸に直交する直線をy軸とし、上記x軸と上記y軸を含む平面をxy座標平面とするとき、上記xy座標平面上の上記測定対象物のx座標とy座標および上記z軸方向のz座標を上記位置情報として検出すると共に、
上記制御装置は、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物のx座標とy座標に基づいて、上記xy座標平面に沿って上記測定対象物が移動したと判別すると、上記電子機器本体を制御するための複数の動作状態についてのメニューを順送りして選択すると共に、
上記光学式検出装置により検出された上記測定対象物のz座標に基づいて、上記測定対象物までの距離が予め決定された条件で変化したと判別すると、上記メニューから選択された動作状態について制御を実行することを特徴とする電子機器。
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