JP5079150B2 - 位相差フィルム - Google Patents
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Description
本発明は位相差フィルムに関するものであり、所望の波長分散特性を有し、光弾性定数が低く、耐熱性が高く、溶融加工性に優れた位相差フィルムである。
かかる位相差フィルムは、例えば液晶表示装置、記録装置に用いられる光ピックアップ、光記録媒体等の光学装置、発光素子、光演算素子、光通信素子、タッチパネルに好適に用いられる。
かかる位相差フィルムは、例えば液晶表示装置、記録装置に用いられる光ピックアップ、光記録媒体等の光学装置、発光素子、光演算素子、光通信素子、タッチパネルに好適に用いられる。
光学フィルムは、位相差フィルム、偏光板の保護フィルムとして用いられる。位相差フィルムは、液晶表示装置等に用いられ、色補償、視野角拡大、反射防止等の機能を有している。位相差フィルムとしては、λ／４板、λ／２板が知られており、その材料として、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン等が用いられている。これら材料からのλ／４板、λ／２板は、短波長ほど位相差が大きくなるという性質がある。そのため、λ／４板、λ／２板として機能しうる波長が特定の波長に限られるという問題点があった。
広帯域において波長を制御する方法として、位相差の波長依存性が異なる２枚以上の複屈折フィルムを特定の角度で積層する方法が知られている（特許文献１）。この方法は、複数の位相差フィルムを貼り合わせる工程、貼り合わせる角度を調整する工程等が必要となり生産性に問題がある。また、位相差フィルム全体の厚さが大きくなるため、光線透過率が低下して暗くなるという問題もある。
近年、このような積層をせずに、一枚のフィルムにより広帯域で波長を制御する方法が提案されている（特許文献２）。これは、正の屈折率異方性を有する単位と、負の屈折率異方性を有する単位とからなるポリカーボネート共重合体を用いる方法である。しかしこのポリカーボネート共重合体は、フルオレン系ビスフェノール由来の単位を含有するため溶融温度が高く、溶融加工する際に分解によるゲル物が発生しやすいという問題がある。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、フィルムの延伸加工に高い温度を必要とし、従来と異なる特別な加工設備を必要とする。また、光弾性定数が高く応力による複屈折が大きく、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こるという問題がある。
一方、光ファイバー、光ディスク等に用いる、脂肪族ジオールを用いた光弾性定数の低いポリカーボネート共重合体は既に提案されている（特許文献３）。しかし、この文献には、フィルムの延伸や波長分散性についての検討はなされていない。また、この文献に記載のポリカーボネート共重合体の光弾性定数は、位相差フィルムや偏光板の保護フィルムとして使用する場合、さらなる低減が必要である。
また、フルオレン環およびイソソルビド成分を含有するポリカーボネート共重合体を用いた光弾性定数の低い位相差フィルムが報告されている（特許文献４）。このポリカーボネート共重合体は、三元共重合体であるため、波長分散性を制御するためには、三成分の組成比率を精密にコントロールする必要があり、安定して製造するのは容易ではない。また、熱安定性が低いため、溶融加工時に分子量が低下し易いという欠点がある。
フルオレン系ビスフェノール骨格を含有するポリカーボネート共重合体からなる位相差フィルムも提案されている（特許文献５、特許文献６）。またフルオレン系ビスフェノール骨格を含有するポリカーボネート共重合体からなる偏光板保護フィルムも提案されている（特許文献７）。しかしいずれにおいても、ガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、フィルムの延伸加工に高い温度を必要とし、従来と異なる特別な加工設備を必要とする。また、光弾性定数が高く応力による複屈折が大きく、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こるという問題がある。
本発明は、所望の波長分散特性をもち、光弾性が低く、溶融加工性に優れたポリカーボネート共重合体樹脂からなる位相差フィルムを提供することを目的とする。
本発明者は、鋭意検討の結果、側鎖にフルオレン構造を有するジオールと特定の脂肪族ジオールとの共重合ポリカーボネートによりなる位相差フィルムが、位相差が短波長になるほど小さくなる逆波長分散性を示し、かつ光弾性定数が低く、また溶融加工性に優れていることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明によれば、
１．下記式
で表される単位（Ａ４）および下記式
で表される単位（Ｂ１）を含むポリカーボネート共重合体からなり、下記（ｉ）を満足する位相差フィルム。
（ｉ）単位（Ａ４）と単位（Ｂ１）とのモル比（Ａ４／Ｂ１）が４０／６０以上６０／４０以下であり、下記式（１）〜（３）を満たす
Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０） （１）
０．６＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （２）
１．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （３）
（但し、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）は夫々、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値を示す。）
２．光弾性定数の絶対値が３０×１０−１２Ｐａ−１以下である前項１記載の位相差フィルム。
３．位相差フィルムは、縦一軸延伸、横一軸延伸あるいは二軸延伸の方法により、（イ）延伸温度がポリカーボネート共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して（Ｔｇ−２０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲、（ロ）延伸倍率が１．０５〜５倍、の条件で延伸されたフィルムである、前項１記載の位相差フィルム。
４．有機ＥＬディスプレイ用の位相差フィルムである、前項１記載の位相差フィルム。
５．前項１記載の位相差フィルムを具備した液晶表示装置。
６．前項１記載の位相差フィルムを具備した有機ＥＬディスプレイ。
７．前項１記載の位相差フィルムと偏光層とからなる円偏光フィルム。
８．前項７の円偏光フィルムを反射防止フィルムとして用いた表示素子。
９．反射防止フィルムは、有機ＥＬディスプレイ用反射防止フィルムである前項８記載の表示素子。
が提供される。
１．下記式
（ｉ）単位（Ａ４）と単位（Ｂ１）とのモル比（Ａ４／Ｂ１）が４０／６０以上６０／４０以下であり、下記式（１）〜（３）を満たす
Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０） （１）
０．６＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （２）
１．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （３）
（但し、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）は夫々、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値を示す。）
２．光弾性定数の絶対値が３０×１０−１２Ｐａ−１以下である前項１記載の位相差フィルム。
３．位相差フィルムは、縦一軸延伸、横一軸延伸あるいは二軸延伸の方法により、（イ）延伸温度がポリカーボネート共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して（Ｔｇ−２０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲、（ロ）延伸倍率が１．０５〜５倍、の条件で延伸されたフィルムである、前項１記載の位相差フィルム。
４．有機ＥＬディスプレイ用の位相差フィルムである、前項１記載の位相差フィルム。
５．前項１記載の位相差フィルムを具備した液晶表示装置。
６．前項１記載の位相差フィルムを具備した有機ＥＬディスプレイ。
７．前項１記載の位相差フィルムと偏光層とからなる円偏光フィルム。
８．前項７の円偏光フィルムを反射防止フィルムとして用いた表示素子。
９．反射防止フィルムは、有機ＥＬディスプレイ用反射防止フィルムである前項８記載の表示素子。
が提供される。
本発明の位相差フィルムは、所望の波長分散特性を持ち、光弾性定数が低く、高度な透明性、加工性に優れたポリカーボネート共重合体樹脂より構成され、延伸処理により所望の波長分散性を有し、一枚で広帯域化可能であり、液晶表示装置用、有機ＥＬディスプレイ用などの位相差フィルムとして極めて有用である。
以下、本発明を詳細に説明する。
＜ポリカーボネート共重合体＞
本発明の位相差フィルムは、単位（Ａ４）および単位（Ｂ１）を含むポリカーボネート共重合体からなる。
＜ポリカーボネート共重合体＞
本発明の位相差フィルムは、単位（Ａ４）および単位（Ｂ１）を含むポリカーボネート共重合体からなる。
（単位（Ａ４））
単位（Ａ４）は下記式で表される。
単位（Ａ４）は、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）から誘導される。
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンにエチレンオキサイドを付加することにより得られる。９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンは、例えば、フェノールと９−フルオレノンとの反応によって得ることができる。
単位（Ａ４）は下記式で表される。
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンにエチレンオキサイドを付加することにより得られる。９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンは、例えば、フェノールと９−フルオレノンとの反応によって得ることができる。
（単位（Ｂ１））
単位（Ｂ１）は下記式で表される。
上記式で表される繰り返し単位は、エーテルジオール由来の単位であり、該エーテルジオールとして具体的には、イソソルビドである。
単位（Ｂ１）は下記式で表される。
この糖質由来のエーテルジオールは、自然界のバイオマスからも得られる物質で、再生可能資源と呼ばれるものの１つである。イソソルビドは、でんぷんから得られるＤーグルコースに水添した後、脱水を受けさせることにより得られる。
特に、カーボネート構成単位がイソソルビド（１，４・３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−ソルビトール）由来のカーボネート構成単位であることが好ましい。イソソルビドはでんぷんなどから簡単に作ることができるエーテルジオールであり資源として豊富に入手することができる上、イソマンニドやイソイディッドと比べても製造の容易さ、性質、用途の幅広さの全てにおいて優れている。
（組成比）
ポリカーボネート共重合体中の、単位（Ａ４）と単位（Ｂ１）とのモル比（Ａ４／Ｂ１）は、４０／６０以上６０／４０以下である。モル比（Ａ４／Ｂ１）が４０／６０未満の場合または６０／４０を超えると、ポリカーボネート共重合体の波長分散性が逆分散性ではなくなり、光学特性に問題がある。また組成比は、仕込み比と重合後の組成比のずれを０．５ｍｏｌ％以内、好ましくは０．３ｍｏｌ％以内に制御する必要がある。０．５ｍｏｌ％を超える場合、波長分散性が大きく変化するため、品質に問題がある。モル比（Ａ４／Ｂ１）は、日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し算出する。
ポリカーボネート共重合体中の、単位（Ａ４）と単位（Ｂ１）とのモル比（Ａ４／Ｂ１）は、４０／６０以上６０／４０以下である。モル比（Ａ４／Ｂ１）が４０／６０未満の場合または６０／４０を超えると、ポリカーボネート共重合体の波長分散性が逆分散性ではなくなり、光学特性に問題がある。また組成比は、仕込み比と重合後の組成比のずれを０．５ｍｏｌ％以内、好ましくは０．３ｍｏｌ％以内に制御する必要がある。０．５ｍｏｌ％を超える場合、波長分散性が大きく変化するため、品質に問題がある。モル比（Ａ４／Ｂ１）は、日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し算出する。
（ガラス転移温度：Ｔｇ）
ポリカーボネート共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１４０〜２００℃、より好ましくは１４０〜１８０℃の範囲である。ガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃より低いと、耐熱安定性に劣り、位相差値が経時変化して表示品位に影響を与える場合がある。またガラス転移温度（Ｔｇ）が２００℃より高いと溶融重合する際に、粘度が高すぎて困難となる。ガラス転移温度（Ｔｇ）はティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製２９１０型ＤＳＣを使用し、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定する。
ポリカーボネート共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１４０〜２００℃、より好ましくは１４０〜１８０℃の範囲である。ガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃より低いと、耐熱安定性に劣り、位相差値が経時変化して表示品位に影響を与える場合がある。またガラス転移温度（Ｔｇ）が２００℃より高いと溶融重合する際に、粘度が高すぎて困難となる。ガラス転移温度（Ｔｇ）はティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製２９１０型ＤＳＣを使用し、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定する。
（光弾性定数）
ポリカーボネート共重合体の光弾性定数の絶対値は、好ましくは３０×１０−１２Ｐａ−１以下、より好ましくは２８×１０−１２Ｐａ−１以下、さらに好ましくは２５×１０−１２Ｐａ−１以下である。絶対値が３０×１０−１２Ｐａ−１より大きいと、応力による複屈折が大きく、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。光弾性定数はフィルムから長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍの試験片を切り出し、日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し測定する。
ポリカーボネート共重合体の光弾性定数の絶対値は、好ましくは３０×１０−１２Ｐａ−１以下、より好ましくは２８×１０−１２Ｐａ−１以下、さらに好ましくは２５×１０−１２Ｐａ−１以下である。絶対値が３０×１０−１２Ｐａ−１より大きいと、応力による複屈折が大きく、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。光弾性定数はフィルムから長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍの試験片を切り出し、日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し測定する。
（製造方法）
ポリカーボネート共重合体は、フルオレンジヒドロキシ成分、脂肪族ジオール成分および炭酸ジエステルを溶融重合して製造することができる。
炭酸ジエステルとしては、置換されてもよい炭素数６〜１２のアリール基、アラルキル基等のエステルが挙げられる。具体的には、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネートおよびビス（ｍ−クレジル）カーボネート等が挙げられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。
ジフェニルカーボネートの使用量は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、好ましくは０．９７〜１．１０モル、より好ましは１．００〜１．０６モルである。
ポリカーボネート共重合体は、フルオレンジヒドロキシ成分、脂肪族ジオール成分および炭酸ジエステルを溶融重合して製造することができる。
炭酸ジエステルとしては、置換されてもよい炭素数６〜１２のアリール基、アラルキル基等のエステルが挙げられる。具体的には、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネートおよびビス（ｍ−クレジル）カーボネート等が挙げられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。
ジフェニルカーボネートの使用量は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、好ましくは０．９７〜１．１０モル、より好ましは１．００〜１．０６モルである。
また溶融重合法においては重合速度を速めるために、重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物、金属化合物等が挙げられる。
このような化合物としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の、有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、４級アンモニウムヒドロキシド等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
このような化合物としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の、有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、４級アンモニウムヒドロキシド等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
アルカリ金属化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が挙げられる。
アルカリ土類金属化合物としては、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、二酢酸マグネシウム、二酢酸カルシウム、二酢酸ストロンチウム、二酢酸バリウム等が挙げられる。
含窒素化合物としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類が挙げられる。また、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が挙げられる。また、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が挙げられる。金属化合物としては亜鉛アルミニウム化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらの化合物は１種または２種以上併用してもよい。
これらの重合触媒の使用量は、ジオール成分１モルに対し好ましくは１×１０−９〜１×１０−２当量、好ましくは１×１０−８〜１×１０−５当量、より好ましくは１×１０−７〜１×１０−３当量の範囲で選ばれる。
溶融重縮合反応は、従来知られているように不活性ガス雰囲気下および減圧下で加熱しながら攪拌して生成するモノヒドロキシ化合物を留出させることで行なわれる。
反応温度は通常１２０〜３５０℃の範囲であり、反応後期には系の減圧度を１０〜０．１Ｔｏｒｒに高めて生成するモノヒドロキシ化合物の留出を容易にさせて反応を完結させる。必要に応じて末端停止剤、酸化防止剤等を加えてもよい。
また、反応後期に触媒失活剤を添加することもできる。使用する触媒失活剤としては、公知の触媒失活剤が有効に使用されるが、この中でもスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましい。更にドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等のドデシルベンゼンスルホン酸の塩類、パラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等のパラトルエンスルホン酸の塩類が好ましい。
またスルホン酸のエステルとして、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、パラトルエンスルホン酸メチル、パラトルエンスルホン酸エチル、パラトルエンスルホン酸ブチル、パラトルエンスルホン酸オクチル、パラトルエンスルホン酸フェニル等が好ましく用いられる。その中でも、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩が最も好ましく使用される。これらの触媒失活剤の使用量はアルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物より選ばれた少なくとも１種の重合触媒を用いた場合、その触媒１モル当たり好ましくは０．５〜５０モルの割合で、より好ましくは０．５〜１０モルの割合で、更に好ましくは０．８〜５モルの割合で使用することができる。
また、用途や必要に応じて熱安定剤、可塑剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、紫外線吸収剤、離型剤等の添加剤を配合することができる。
＜光学フィルム＞
光学フィルムについて説明する。この光学フィルムとは、光学用途に使用されるフィルムである。具体的には、位相差フィルム、プラセル基板フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルム、輝度上昇フィルム、光ディスクの保護フィルム、拡散フィルム等が挙げられる。特に、位相差フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルムが好ましい。
光学フィルムについて説明する。この光学フィルムとは、光学用途に使用されるフィルムである。具体的には、位相差フィルム、プラセル基板フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルム、輝度上昇フィルム、光ディスクの保護フィルム、拡散フィルム等が挙げられる。特に、位相差フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルムが好ましい。
光学フィルムの製造方法としては、例えば、溶液キャスト法、溶融押し出し法、熱プレス法、カレンダー法等公知の方法を挙げることが出来る。光学フィルムの製造法としては、溶融押し出し法が生産性の点から好ましい。
溶融押し出し法においては、Ｔダイを用いて樹脂を押し出し冷却ロールに送る方法が好ましく用いられる。このときの温度はポリカーボネート共重合体の分子量、Ｔｇ、溶融流動特性等から決められるが、１８０〜３５０℃の範囲であり、２００℃〜３２０℃の範囲がより好ましい。１８０℃より低いと粘度が高くなりポリマーの配向、応力歪みが残りやすく好ましくない。また、３５０℃より高いと熱劣化、着色、Ｔダイからのダイライン（筋）等の問題が起きやすい。
また本発明で用いるポリカーボネート共重合体は、有機溶媒に対する溶解性が良好なので、溶液キャスト法も適用することが出来る。溶液キャスト法の場合は、溶媒としては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ジオキソラン、ジオキサン等が好適に用いられる。溶液キャスト法で用いられるフィルム中の残留溶媒量は２重量％以下であることが好ましく、より好ましくは１重量％以下である。２重量％を超えると残留溶媒が多いとフィルムのガラス転移温度の低下が著しくなり耐熱性の点で好ましくない。
本発明の未延伸の光学フィルムの厚みとしては、３０〜４００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは４０〜３００μｍの範囲である。かかるフィルムをさらに延伸して位相差フィルムとする場合には、光学フィルムの所望の位相差値、厚みを勘案して上記範囲内で適宜決めればよい。
かくして得られた未延伸の光学フィルムは延伸配向され位相差フィルムとなる。延伸方法は、縦一軸延伸、テンター等を用いる横一軸延伸、あるいはそれらを組み合わせた同時二軸延伸、逐次二軸延伸等公知の方法を用いることが出来る。また連続で行うことが生産性の点で好ましいが、バッチ式で行っても良い。延伸温度は、ポリカーボネート共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、好ましくは（Ｔｇ−２０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲、より好ましくは（Ｔｇ−１０℃）〜（Ｔｇ＋３０℃）の範囲である。この温度範囲であれば、ポリマーの分子運動が適度であり、延伸による緩和が起こり難く、配向抑制容易になり所望する面内位相差が得られ易いため好ましい。
延伸倍率は目的とする位相差値により決められるが、縦、横、それぞれ、１．０５〜５倍、より好ましくは１．１〜４倍である。この延伸は一段で行ってもよく、多段で行ってもよい。なお、溶液キャスト法により得たフィルムを延伸する場合の上記Ｔｇとは、該フィルム中の微量の溶媒を含むガラス転移温度を言う。
（波長分散性）
本発明の位相差フィルムは、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域において、フィルム面内の位相差が短波長になるほど小さくなるという特徴を有する。即ち、下記式（１）
Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０） （１）
を満たす。但し、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）は夫々、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値を示す。
ここで面内の位相差値Ｒとは下記式で定義されるものであり、フィルムに垂直方向に透過する光のＸ方向とそれと垂直のＹ方向との位相の遅れを現す特性である。
Ｒ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
但し、ｎｘはフィルム面内の遅相軸（最も屈折率が高い軸）の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内でｎｘと垂直方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚みである。
本発明の位相差フィルムは、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域において、フィルム面内の位相差が短波長になるほど小さくなるという特徴を有する。即ち、下記式（１）
Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０） （１）
を満たす。但し、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）は夫々、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値を示す。
ここで面内の位相差値Ｒとは下記式で定義されるものであり、フィルムに垂直方向に透過する光のＸ方向とそれと垂直のＹ方向との位相の遅れを現す特性である。
Ｒ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
但し、ｎｘはフィルム面内の遅相軸（最も屈折率が高い軸）の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内でｎｘと垂直方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚みである。
（厚み等）
また本発明の位相差フィルムの厚みは、好ましくは２０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１５０μｍの範囲である。この範囲であれば、延伸による所望する位相差値が得やすく、製膜も容易で好ましい。
本発明の位相差フィルムは、これを構成するポリカーボネート共重合体の光弾性定数が低い。従って、応力に対する位相差の変化が少なく、かかる位相差フィルムを具備した液晶表示装置は表示安定性に優れたものとなる。
また本発明の位相差フィルムの厚みは、好ましくは２０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１５０μｍの範囲である。この範囲であれば、延伸による所望する位相差値が得やすく、製膜も容易で好ましい。
本発明の位相差フィルムは、これを構成するポリカーボネート共重合体の光弾性定数が低い。従って、応力に対する位相差の変化が少なく、かかる位相差フィルムを具備した液晶表示装置は表示安定性に優れたものとなる。
本発明の位相差フィルムは透明性が高い。厚さ１００μｍの本発明の位相差フィルムの全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。また本発明の位相差フィルムのヘイズ値は、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。
本発明は、上記位相差フィルムを具備した液晶表示装置を包含する。本発明は、本発明の位相差フィルムと偏光層とからなる円偏光フィルムを包含する。本発明は、上記円偏光フィルムを反射防止フィルムとして用いた表示素子を包含する。
本発明は、上記位相差フィルムを具備した液晶表示装置を包含する。本発明は、本発明の位相差フィルムと偏光層とからなる円偏光フィルムを包含する。本発明は、上記円偏光フィルムを反射防止フィルムとして用いた表示素子を包含する。
（好ましい態様）
本発明の位相差フィルムの態様として以下のフィルム（ＩＩ）が挙げられる。
本発明の位相差フィルムの態様として以下のフィルム（ＩＩ）が挙げられる。
（フィルム（ＩＩ））
フィルム（ＩＩ）は、下記式（２）および（３）
０．６＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （２）
１．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （３）
を満たす、いわゆる逆波長分散性を示すフィルムである。フィルム（ＩＩ）は、液晶表示装置等の位相差フィルムに好適に用いられる。
フィルム（ＩＩ）は、下記式（２）および（３）
０．６＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （２）
１．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （３）
を満たす、いわゆる逆波長分散性を示すフィルムである。フィルム（ＩＩ）は、液晶表示装置等の位相差フィルムに好適に用いられる。
フィルム（ＩＩ）は、さらに好ましくは以下の条件を満たす。
０．６５＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （２−１）
１．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．３０ （３−１）
フィルム（ＩＩ）は、特に好ましくは以下の条件を満たす。
０．７＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９１ （２−２）
１．０３＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．２０ （３−２）
０．６５＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （２−１）
１．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．３０ （３−１）
フィルム（ＩＩ）は、特に好ましくは以下の条件を満たす。
０．７＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９１ （２−２）
１．０３＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．２０ （３−２）
フィルム（ＩＩ）の波長５５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値Ｒ（５５０）は、Ｒ（５５０）＞５０ｎｍであることが好ましい。フィルム（ＩＩ）は積層することなく１枚で広帯域のλ／４板またはλ／２板として使用できる。かかる用途ではさらに、λ／４板の場合は１００ｎｍ＜Ｒ（５５０）＜１８０ｎｍ、λ／２板の場合は２２０ｎｍ＜Ｒ（５５０）＜３３０ｎｍであることが望ましい。波長分散性は、フィルムから長さ１００ｍｍ、幅７０ｍｍの試験片を切り出し、Ｔｇ＋１０℃の延伸温度で２．０倍縦延伸し、得られたフィルムを日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し測定する。
フィルム（ＩＩ）のポリカーボネート共重合体は、下記式
で表される単位（Ａ４）および下記式
で表される単位（Ｂ１）を含み、単位（Ａ４）と単位（Ｂ１）とのモル比（Ａ４／Ｂ１）が４０／６０以上６０／４０以下の範囲であり、光弾性定数の絶対値３０×１０−１２Ｐａ−１以下であることが好ましく、２５×１０−１２Ｐａ−１以下であることがより好ましい。
以下実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、実施例中「部」とは「重量部」を意味する。実施例において使用した使用樹脂および評価方法は以下のとおりである。
１．光弾性定数測定
フィルムから長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍの試験片を切り出し、日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し光弾性定数を測定した。
２．位相差、波長分散性測定
フィルムから長さ１００ｍｍ、幅７０ｍｍの試験片を切り出し、Ｔｇ＋１０℃の延伸温度で２．０倍縦延伸し、得られたフィルムを日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し位相差波長分散性を測定した。
３．Ｔｇ（ガラス転移温度）測定
ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製２９１０型ＤＳＣを使用し、窒素雰囲気下、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定した。
４．ポリマー組成比（ＮＭＲ）
日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し、ポリマー組成比を算出した。
５．粘度平均分子量
粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍＬにポリカーボネート樹脂０．７ｇを溶解し２０℃の溶液で測定した。求めた比粘度（ηｓｐ）を次式に挿入して求めた。
ηｓｐ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］２ｃ（但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０−４Ｍ０．８３
ｃ＝０．７
１．光弾性定数測定
フィルムから長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍの試験片を切り出し、日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し光弾性定数を測定した。
２．位相差、波長分散性測定
フィルムから長さ１００ｍｍ、幅７０ｍｍの試験片を切り出し、Ｔｇ＋１０℃の延伸温度で２．０倍縦延伸し、得られたフィルムを日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し位相差波長分散性を測定した。
３．Ｔｇ（ガラス転移温度）測定
ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製２９１０型ＤＳＣを使用し、窒素雰囲気下、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定した。
４．ポリマー組成比（ＮＭＲ）
日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し、ポリマー組成比を算出した。
５．粘度平均分子量
粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍＬにポリカーボネート樹脂０．７ｇを溶解し２０℃の溶液で測定した。求めた比粘度（ηｓｐ）を次式に挿入して求めた。
ηｓｐ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］２ｃ（但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０−４Ｍ０．８３
ｃ＝０．７
［参考例１］
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
イソソルビド（以下ＩＳＳと略す）７２．３２部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下ＢＣＦと略す）８０．２４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部、および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド１．８×１０−２部と水酸化ナトリウム１．６×１０−４部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の４倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてペレットを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９６００であった。ＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＣＦ／ＩＳＳ＝２９．８／７０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
イソソルビド（以下ＩＳＳと略す）７２．３２部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下ＢＣＦと略す）８０．２４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部、および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド１．８×１０−２部と水酸化ナトリウム１．６×１０−４部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の４倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてペレットを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９６００であった。ＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＣＦ／ＩＳＳ＝２９．８／７０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜光学フィルムの製造＞
次に、（株）テクノベル製１５φ二軸押出混練機に幅１５０ｍｍ、リップ幅５００μｍのＴダイとフィルム引取り装置を取り付け、得られたポリカーボネート共重合体をフィルム成形することにより透明な押出しフィルムを得た。得られたフィルムの中央部付近の厚み６８±０．８μｍである部分より５０ｍｍ×１０ｍｍサイズのサンプルを切り出し、そのサンプルを用いて光弾性定数、Ｔｇを測定した。また、同様にして切り出した長さ１００ｍｍ×幅７０ｍｍサイズのサンプルを１９６℃（Ｔｇ＋１０℃）にて長さ方向に２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み４９μｍの延伸フィルムを得た。この延伸フィルムの位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
次に、（株）テクノベル製１５φ二軸押出混練機に幅１５０ｍｍ、リップ幅５００μｍのＴダイとフィルム引取り装置を取り付け、得られたポリカーボネート共重合体をフィルム成形することにより透明な押出しフィルムを得た。得られたフィルムの中央部付近の厚み６８±０．８μｍである部分より５０ｍｍ×１０ｍｍサイズのサンプルを切り出し、そのサンプルを用いて光弾性定数、Ｔｇを測定した。また、同様にして切り出した長さ１００ｍｍ×幅７０ｍｍサイズのサンプルを１９６℃（Ｔｇ＋１０℃）にて長さ方向に２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み４９μｍの延伸フィルムを得た。この延伸フィルムの位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
［参考例２］
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
ＩＳＳ６８．１９部、ＢＣＦ９０．９４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＣＦ／ＩＳＳ＝３３．７／６７．３であり仕込み比とのずれは０．３と小さかった。
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
ＩＳＳ６８．１９部、ＢＣＦ９０．９４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＣＦ／ＩＳＳ＝３３．７／６７．３であり仕込み比とのずれは０．３と小さかった。
＜光学フィルムの製造＞
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１９重量％のドープを作製した。このドープ溶液から公知の方法によりキャストフィルム（厚み８１±０．８μｍ）を作製した。得られたフィルムの中央部付近の厚み８０±０．８μｍである部分より５０ｍｍ×１０ｍｍサイズのサンプルを切り出し、そのサンプルを用いて光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得た。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。参考例１と同様に位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表１に示す。
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１９重量％のドープを作製した。このドープ溶液から公知の方法によりキャストフィルム（厚み８１±０．８μｍ）を作製した。得られたフィルムの中央部付近の厚み８０±０．８μｍである部分より５０ｍｍ×１０ｍｍサイズのサンプルを切り出し、そのサンプルを用いて光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得た。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。参考例１と同様に位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表１に示す。
［参考例３］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ７２．３２部、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（以下ＢＰＥＦと略す）９３．０９部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９６００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝２９．８／７０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ７２．３２部、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（以下ＢＰＥＦと略す）９３．０９部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９６００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝２９．８／７０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８３±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６４μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８３±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６４μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
［実施例１］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ６１．９９部、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（以下ＢＰＥＦと略す）１２４．１２部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９４００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝３９．８／６０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ６１．９９部、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（以下ＢＰＥＦと略す）１２４．１２部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９４００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝３９．８／６０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８４±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６４μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８４±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６４μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
［実施例２］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ５１．６６部、ＢＰＥＦ１５５．１５部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９０００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝４９．８／５０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ５１．６６部、ＢＰＥＦ１５５．１５部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９０００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝４９．８／５０．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８２±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８２±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
［実施例３］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ４１．３３部、ＢＰＥＦ１８６．１８部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝５９．７／４０．３であり仕込み比とのずれは０．３と小さかった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ４１．３３部、ＢＰＥＦ１８６．１８部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＥＦ／ＩＳＳ＝５９．７／４０．３であり仕込み比とのずれは０．３と小さかった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８３±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６３μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．３と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８３±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６３μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．３と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。
［参考例７］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ５１．６６部、ＢＣＦ１３３．７４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１８９００であった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ５１．６６部、ＢＣＦ１３３．７４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１８９００であった。
＜光学フィルムの製造＞
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１９重量％のドープを作製した。このドープ溶液から公知の方法によりキャストフィルム（厚み８１±０．８μｍ）を作製した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得た。参考例１と同様に位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１９重量％のドープを作製した。このドープ溶液から公知の方法によりキャストフィルム（厚み８１±０．８μｍ）を作製した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得た。参考例１と同様に位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。
［参考例８］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ３０．９９部、ＢＰＥＦ２１７．２１部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９０００であった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ３０．９９部、ＢＰＥＦ２１７．２１部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９０００であった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８３±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６３μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８３±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６３μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。
［参考例９］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ２０．６６部、ＢＰＥＦ２４８．２４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ２０．６６部、ＢＰＥＦ２４８．２４部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８１±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８１±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６２μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。
［参考例１０］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ１５．５部、ＢＣＦ２２７．３６部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１６５００であった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ１５．５部、ＢＣＦ２２７．３６部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１６５００であった。
＜光学フィルムの製造＞
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１９重量％のドープを作製した。このドープ溶液から公知の方法によりキャストフィルム（厚み８０±０．８μｍ）を作製した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６３μｍの延伸フィルムを得た。参考例１と同様に位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表３に示す。
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１９重量％のドープを作製した。このドープ溶液から公知の方法によりキャストフィルム（厚み８０±０．８μｍ）を作製した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６３μｍの延伸フィルムを得た。参考例１と同様に位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表３に示す。
［参考例１１］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ１０．３３部、ＢＰＥＦ２７９．２７部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＩＳＳ１０．３３部、ＢＰＥＦ２７９．２７部、ジフェニルカーボネート１５４．６１部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１９２００であった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８５±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６５μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表３に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み８５±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み６５μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表３に示す。
［比較例１］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１７７５部及びナトリウムハイドロサルファイト３．５部を溶解し、塩化メチレン７９２５部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール５２．６部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させポリカーボネート樹脂を得た。得られたパウダーの粘度平均分子量は１５５００であった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１７７５部及びナトリウムハイドロサルファイト３．５部を溶解し、塩化メチレン７９２５部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール５２．６部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させポリカーボネート樹脂を得た。得られたパウダーの粘度平均分子量は１５５００であった。
＜光学フィルムの製造＞
得られたポリカーボネート樹脂を１５φ二軸押し出し混練機によりペレット化した。次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み５８±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み４１μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表１、表２に示す。本フィルムは光弾性係数が８０×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。また、波長分散性が正分散であるため、広帯域においてλ／４とならず、色抜けなどが問題となる。
得られたポリカーボネート樹脂を１５φ二軸押し出し混練機によりペレット化した。次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み５８±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み４１μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表１、表２に示す。本フィルムは光弾性係数が８０×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。また、波長分散性が正分散であるため、広帯域においてλ／４とならず、色抜けなどが問題となる。
［比較例２］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン５８５部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン１９６９部及びナトリウムハイドロサルファイト４．５部を溶解し、塩化メチレン６６０４部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール７０部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させフルオレン骨格を有するポリカーボネート樹脂を得た。得られたパウダーの粘度平均分子量は３８２００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＡ／ＢＣＦ＝３２．８／６７．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン５８５部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン１９６９部及びナトリウムハイドロサルファイト４．５部を溶解し、塩化メチレン６６０４部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール７０部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させフルオレン骨格を有するポリカーボネート樹脂を得た。得られたパウダーの粘度平均分子量は３８２００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＢＰＡ／ＢＣＦ＝３２．８／６７．２であり仕込み比とのずれは０．２と小さかった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例２と同様にしてフィルム（厚み１４１±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み１００μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。本フィルムは光弾性係数が４４×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。
次に参考例２と同様にしてフィルム（厚み１４１±０．８μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性係数、Ｔｇを参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み１００μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．２と小さいため、波長分散には影響がでなかった。結果を表１に示す。本フィルムは光弾性係数が４４×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。
［比較例３］
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
ＩＳＳ７．６７部、スピログリコール２４．２部、ＢＣＦ６．８１部、ジフェニルカーボネート３２．４５部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート共重合体を得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１６３００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＩＳＳ／ＳＰＧ／ＢＣＦ＝３４．６／５２．６／１２．８であり仕込み比とのずれは０．８と大きかった。
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
ＩＳＳ７．６７部、スピログリコール２４．２部、ＢＣＦ６．８１部、ジフェニルカーボネート３２．４５部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート共重合体を得た。得られたペレットの粘度平均分子量は１６３００であった。またＮＭＲより組成比を測定した。組成比はＩＳＳ／ＳＰＧ／ＢＣＦ＝３４．６／５２．６／１２．８であり仕込み比とのずれは０．８と大きかった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み７８（±０．８）μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性定数を参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み４８μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．８と大きいため、波長分散の制御が困難であった。結果を表１に示す。
次に参考例１と同様にしてフィルム（厚み７８（±０．８）μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性定数を参考例１と同様に評価した。参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５７ｍｍ、厚み４８μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。組成比と仕込み比のずれが０．８と大きいため、波長分散の制御が困難であった。結果を表１に示す。
［比較例４］
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン４６１部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン２１７５部およびナトリウムハイドロサルファイト４．５部を溶解し、塩化メチレン６６０４部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール７０部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させフルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体を得た。ＮＭＲより組成比を測定した。得られたパウダーの粘度平均分子量は３８２００であった。
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン４６１部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン２１７５部およびナトリウムハイドロサルファイト４．５部を溶解し、塩化メチレン６６０４部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール７０部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させフルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体を得た。ＮＭＲより組成比を測定した。得られたパウダーの粘度平均分子量は３８２００であった。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例２と同様にしてフィルム（厚み１６４（±０．８）μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性定数を参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み１００μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。本フィルムは光弾性定数が４２×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。
次に参考例２と同様にしてフィルム（厚み１６４（±０．８）μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性定数を参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み１００μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表２に示す。本フィルムは光弾性定数が４２×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。
［比較例５］
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン３３７部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン２２８０部およびナトリウムハイドロサルファイト４．５部を溶解し、塩化メチレン６６０４部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール７０部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させフルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体を得た。ＮＭＲより組成比を測定した。
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
温度計、攪拌機、還流冷却器を備えた反応器にイオン交換水９８０９部、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２７１部を加え、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン３３７部、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン２２８０部およびナトリウムハイドロサルファイト４．５部を溶解し、塩化メチレン６６０４部を加えた後、攪拌しながら１６〜２０℃にてホスゲン１０００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール７０部と４８％水酸化ナトリウム水溶液３２７部を加え、さらにトリエチルアミン１．５７部を添加して２０〜２７℃で４０分間攪拌して反応を終了した。生成物を含む塩化メチレン層を希塩酸、純水にて洗浄後、塩化メチレンを蒸発させフルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体を得た。ＮＭＲより組成比を測定した。
＜光学フィルムの製造＞
次に参考例２と同様にしてフィルム（厚み１６４（±０．８）μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性定数を参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み１００μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表３に示す。本フィルムは光弾性定数が３８×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。
次に参考例２と同様にしてフィルム（厚み１６４（±０．８）μｍ）を作成した。得られたフィルムの光弾性定数を参考例１と同様に評価した。フィルムについては参考例１と同様にＴｇ＋１０℃にて２．０倍で一軸延伸し、長さ２００ｍｍ×幅５６ｍｍ、厚み１００μｍの延伸フィルムを得、位相差測定、波長分散性を測定した。結果を表３に示す。本フィルムは光弾性定数が３８×１０−１２Ｐａ−１と高く、応力による複屈折が大きい。そのため、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり、好ましくない。
本発明の位相差フィルムは、液晶表示装置用、有機ＥＬディスプレイ用などの位相差フィルムとして極めて有用である。
Claims (9)
- 下記式
（ｉ）単位（Ａ４）と単位（Ｂ１）とのモル比（Ａ４／Ｂ１）が４０／６０以上６０／４０以下であり、下記式（１）〜（３）を満たす
Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０） （１）
０．６＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （２）
１．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （３）
（但し、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）は夫々、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値を示す。） - 光弾性定数の絶対値が３０×１０−１２Ｐａ−１以下である請求項１記載の位相差フィルム。
- 位相差フィルムは、縦一軸延伸、横一軸延伸あるいは二軸延伸の方法により、（イ）延伸温度がポリカーボネート共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して（Ｔｇ−２０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲、（ロ）延伸倍率が１．０５〜５倍、の条件で延伸されたフィルムである、請求項１記載の位相差フィルム。
- 有機ＥＬディスプレイ用の位相差フィルムである、請求項１記載の位相差フィルム。
- 請求項１記載の位相差フィルムを具備した液晶表示装置。
- 請求項１記載の位相差フィルムを具備した有機ＥＬディスプレイ。
- 請求項１記載の位相差フィルムと偏光層とからなる円偏光フィルム。
- 請求項７の円偏光フィルムを反射防止フィルムとして用いた表示素子。
- 反射防止フィルムは、有機ＥＬディスプレイ用反射防止フィルムである請求項８記載の表示素子。
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