JP4982427B2 - 金属酸化物粒子の表面改質剤及びそれを使用した金属酸化物粒子の表面改質方法 - Google Patents
金属酸化物粒子の表面改質剤及びそれを使用した金属酸化物粒子の表面改質方法 Download PDFInfo
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Description
1)金属酸化物粉末と前記化学式1で表わされるアルキルシランポリオールを水及び炭素数1ないし6のアルコールの中から選択された溶媒に均一に分散させる工程、2)前記分散液から溶媒を蒸発させてアルキルシランポリオールがコーティングされた金属酸化物粒子を得る工程、及び3)前記コーティングされた金属酸化物粒子を100℃ないし130℃の温度で乾燥及び縮合反応させて粒子表面にアルキルシランポリオールが化学的に結合された金属酸化物粒子を得る工程。
250ml丸底フラスコに湿式シリカ(150m2/g aerosil(登録商標) 150,degussa;15nm,140−80m2/g,Aldrich,99.5%;175m2/g,ZEOSIL(登録商標) 175GRまたは115m2/g ZEOSIL(登録商標) 115GR,Rodia)の中から選択された湿式シリカ10gと水50mLを入れて撹拌して分散させた。ここに、シクロペンテニルシラントリオール1.0gを水に溶解して10分間滴下して撹拌した。回転蒸発器を使用して水を最大限除去して真空オーブンで130℃で6時間乾燥させた。処理前と処理後の粒子の状態を確認するために電子顕微鏡を通じて分析し、その結果を添付の図1に示した。
前記実施例1で使用した湿式シリカ(実施例1で使用したシリカ)10g(120℃,8時間乾燥)にメタノール50mlを入れて撹拌して分散させた後、0℃のメタノールに分散させたシクロペンテニルシラントリオール1.0gを0℃に維持されたフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で6時間乾燥させた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g(120℃,8時間乾燥)とメタノール50mlを入れて分散させた後、シクロペンテニルシラントリオール0.5gとビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド(Degussa Gemany,Si69)0.5gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで120℃で6時間乾燥させた。前記分散液に1重量%濃度の酢酸水溶液1mlを滴下して触媒に使用時、より効果的な金属酸化物の表面改質が起きた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g(120℃,8時間乾燥)とメタノール50mlを入れて分散させた後、シクロペンテニルシラントリオール0.5gと3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン(Gelest,Inc.)0.5gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで120℃で6時間乾燥させた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと3−(グリシドキシ)プロピルトリエトキシシラン0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。前記分散液に1重量%濃度の酢酸水溶液1mLを滴下して触媒で使用時に、より効果的な金属酸化物の表面改質が起きた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。前記分散液に1重量%濃度の酢酸水溶液1mlを滴下して触媒で使用時に、より効果的な金属酸化物の表面改質が起きた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと3−(メタアクリロキシ)プロピルトリエトキシシラン0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと3−シアノプロピルトリエトキシシラン0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと3−アミノプロピルトリエトキシシラン0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと[CF3(CF2)nCH2CH2−Si(OCH2CH3)3(n=0)]0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。前記分散液に1重量%濃度の酢酸水溶液1mLを滴下して触媒に使用時に、より効果的な金属酸化物の表面改質が起きた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)10g、メタノール50.0ml、シクロペンテニルシラントリオール0.50gと2−(3−ヘキセニル)エチルトリエトキシシラン0.50gをフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で一日の間乾燥させた。前記分散液に1重量%濃度の酢酸水溶液1mLを滴下して触媒で使用時に、より効果的な金属酸化物の表面改質が起きた。
前記実施例2と同一方法で酸化チタン(アルドリッチ、99.8%)10gとシクロペンテニルシラントリオール1.0gを使用して処理した。処理前と処理後の粒子を電子顕微鏡を通じて確認した。その結果は、添付の図4に示した。
前記実施例2と同一方法で酸化ジルコニウム(シグマアルドリッチ、1μm,99%)10gとシクロヘキシルシラントリオール1.0gを使用して処理した。処理前と処理後の粒子を電子顕微鏡を通じて確認した。その結果は、図5に示した。
前記実施例2と同一方法で酸化ジルコニウム(シグマアルドリッチ、1μm、99%)10gとシクロペンチルシラントリオール1.0gを使用して処理して、表面改質されたジルコニアを製造した。
前記実施例1と同一方法で遂行するが、シクロペンテニルシラントリオールの代りにシクロペンタニルシラントリオールを使用して実施例1と同じ湿式シリカを同一な規模と方法で湿式シリカ処理を遂行した。この実験で得られた結果は、前記実施例1と類似だった。
本出願人による韓国特許出願第2007−106843号の方法によって、シクロペンチルトリメトキシシランを加水分解して製造されたシクロペンチルシラントリオール(1.0g)水溶液にシリカ(実施例1と同じシリカ)10gを入れて撹拌しながら、水とメタノール(加水分解生成物)を回転蒸発器で飛ばして真空オーブンで130℃で一日乾燥させた。処理したシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
シクロヘキサニルシラントリオールをメタノールに分散させた溶液を作って、前記実施例2と同一方法で湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)を処理した。前記方法に処理されたシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
3−メチル−3−シクロヘキセニルシラントリオールをメタノールに分散させた溶液を作って、前記実施例2と同一方法で湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)を処理した。前記方法で処理されたシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
4−メチル−3−シクロヘキセニルシラントリオールをメタノールに分散させた溶液を作って、前記実施例2と同一方法で湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)を処理した。前記方法で処理されたシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
3,4−ジメチル−3−シクロヘキセニルシラントリオールをメタノールに分散させた溶液を作って、前記実施例2と同一方法で湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)を処理した。前記方法で処理されたシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
1,2−ジシクロヘキシル−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシランをメタノールに分散させた溶液を作って、前記実施例2と同一方法で湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)を処理した。前記方法で処理されたシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
1,2−ビス(シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシランをメタノールに分散させた溶液を作って、前記実施例2と同一方法で湿式シリカ(実施例1と同じシリカ)を処理した。前記方法で処理されたシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
シクロペンチルトリメトキシシランを加水分解してシクロペンチルシラントリオールと1,2−ジシクロペンチル−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシランの4:1(モル比)混合物(1.0g)を得て、そこにシリカ(実施例1と同じシリカ)10gを入れて撹拌しながら水とメタノール(加水分解生成物)を回転蒸発器で飛ばした。そして、真空オーブンで130℃で一日乾燥させた。前記方法で処理されたシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
前記実施例2と同一方法で乾燥させた湿式シリカ(11nm、255m2/g、Aldrich)10gをメタノール50mlに入れて撹拌して分散させた後、0℃のメタノールに分散させたシクロペンテニルシラントリオール3.0gを0℃に維持されたフラスコに滴下して10分間撹拌した。回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で6時間乾燥させた。処理したシリカは、疎水性に改質されて水に100%浮いていることを確認することができた。
常圧、常温で50mlのガラスフラスコに1重量%濃度の酢酸水溶液0.65mlを入れて撹拌しながら、(2−シクロペンテニル)トリメトキシシラン0.65mlを添加した。25℃で1時間加水分解反応後、溶液が完全に澄んだ(全てがシラントリオールに転換される)ことを確認した後、湿式シリカ(実施例1で使用したシリカ)10gとメタノール50mlを入れて撹拌して分散させた後、回転蒸発器を使用して溶媒を最大限除去して真空オーブンで130℃で6時間乾燥させた。その結果、実施例2と類似の結果を得た。
Claims (12)
- 下記化学式1で表わされるアルキルシランポリオールであり、下記化学式2で表わされるアルキルアルコキシシランをさらに含むことを特徴とする金属酸化物粒子の表面改質剤。
化学式1:RR1Si(OH)2
化学式2:R 3 Si(OR 2 ) 3
化学式1中、RはC3−8の環式飽和または不飽和アルキル基で、前記環式アルキル基は水素原子、及びC1−6アルキルの中から選択された置換基に置換することができ、R1はOHまたはSiR(OH)2基であり、
化学式2中、R 2 はC 1−6 のアルキル基であり、R 3 は3−(グリシドキシ)プロピル、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル、3,3,3−トリフルオロプロピル、3−[3−(トリエトキシシリル)プロピルテトラチオ]プロピル、3−[3−(トリメトキシシリル)プロピルテトラチオ]プロピル、3−[3−(トリエトキシシリル)プロピルジチオ]プロピル、3−[3−(トリメトキシシリル)プロピルジチオ]プロピル、3−アミノプロピル、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピル、3−アクリロキシプロピル、3−メタアクリロキシプロピル、2−シアノエチル、3−シアノプロピル、3−イソシアネートプロピル、3−メルカプトプロピル、3−(メタアクリロキシ)プロピル、CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 (ここで、nは0ないし10の整数)、2−(3−ヘキセニル)エチル、または末端アルケニル基である。 - 前記化学式1中のRが、シクロペンチル、シクロヘキサニル、シクロペンテン−1−イル、シクロペンテン−2−イル、シクロペンテン−3−イル、シクロヘキセン−1−イル、シクロヘキセン−2−イル、シクロヘキセン−3−イル、3−メチル−シクロヘキセン−3−イル、4−メチル−シクロヘキセン−3−イル、3,4−ジメチル−シクロヘキセン−3−イルの中から選択されたものであることを特徴とする、請求項1に記載の表面改質剤。
- 前記化学式1で表わされるアルキルシランポリオールが、シクロペンチルシラントリオール、シクロヘキサニルシラントリオール、シクロペンテン−1−イルシラントリオール、シクロペンテン−2−イルシラントリオール、シクロペンテン−3−イルシラントリオール、シクロヘキセン−1−イルシラントリオール、シクロヘキセン−2−イルシラントリオール、シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、3−メチル−シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、4−メチル−シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、3,4−ジメチル−シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、1,2−ジシクロヘキシル−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(3−メチル−シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(4−メチル−シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(3,4−ジメチル−シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシランの中から選択されたものであることを特徴とする、請求項1に記載の表面改質剤。
- 前記化学式2で表わされるアルキルアルコキシシランが、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、 ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタアクリロキシ)プロピルトリエトキシシラン、3−(メタアクリロキシ)プロピルトリメトキシシラン、2−シアノエチルトリエトキシシラン、2−シアノエチルトリメトキシシラン、3−シアノプロピルトリエトキシシラン、3−シアノプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、CF3(CF2)nCH2CH2−Si(OCH2CH3)3、CF3(CF2)nCH2CH2−Si(OCH3)3、2−(3−ヘキセニル)エチルトリエトキシシラン、2−(3−ヘキセニル)エチルトリメトキシシラン、末端アルケニル基エトキシシランの中から選択されたものであることを特徴とする請求項1に記載の表面改質剤。
- 酢酸水溶液がさらに添加されることを特徴とする、請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の表面改質剤。
- 金属酸化物粉末と下記化学式1で表わされるアルキルシランポリオールを水及び炭素数1ないし6のアルコールの中から選択された溶媒に分散させる工程、
前記分散液から溶媒を蒸発させてアルキルシランポリオールがコーティングされた金属酸化物粒子を得る工程、及び
前記コーティングされた金属酸化物粒子を100℃ないし130℃で熱処理して粒子表面にアルキルシランポリオールが化学的に結合された金属酸化物粒子を得る工程とを含んで成り、
前記溶媒に下記化学式2で表わされるアルキルアルコキシシランをさらに分散させることを特徴とする金属酸化物粒子の表面改質方法。
化学式1:RR1Si(OH)2
化学式2:R 3 Si(OR 2 ) 3
化学式1中、RはC3−8の環式飽和または不飽和アルキル基で、前記環式アルキル基は水素原子、及びC1−6アルキルの中から選択された置換基で置換され得、R1はOHまたはSiR(OH)2基であり、
化学式2中、R 2 はC 1−6 のアルキル基で、R 3 は3−(グリシドキシ)プロピル、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル、3,3,3−トリフルオロプロピル、3−[3−(トリエトキシシリル)プロピルテトラチオ]プロピル、3−[3−(トリメトキシシリル)プロピルテトラチオ]プロピル、3−[3−(トリエトキシシリル)プロピルジチオ]プロピル、3−[3−(トリメトキシシリル)プロピルジチオ]プロピル、3−アミノプロピル、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピル、3−アクリロキシプロピル、3−メタアクリロキシプロピル、2−シアノエチル、3−シアノプロピル、3−イソシアネートプロピル、3−メルカプトプロピル、3−(メタアクリロキシ)プロピル、CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 (ここで、nは0ないし10の整数)、2−(3−ヘキセニル)エチル、または末端アルケニル基である。 - 前記化学式1で表わされるアルキルシランポリオールが、シクロペンチルシラントリオール、シクロヘキサニルシラントリオール、シクロペンテン−1−イルシラントリオール、シクロペンテン−2−イルシラントリオール、シクロペンテン−3−イルシラントリオール、シクロヘキセン−1−イルシラントリオール、シクロヘキセン−2−イルシラントリオール、シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、3−メチル−シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、4−メチル−シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、3,4−ジメチル−シクロヘキセン−3−イルシラントリオール、1,2−ジシクロヘキシル−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(3−メチル−シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(4−メチル−シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシラン、1,2−ビス(3,4−ジメチル−シクロヘキセン−3−イル)−1,1,2,2−テトラヒドロキシジシランの中から選択されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記金属酸化物粉末が、シリカ、マイカ、タルク、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酒石酸化物、鉄酸化物、及び亜鉛酸化物の中から選択された金属酸化物であり、粒径が5nmないし100μmの範囲であることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記化学式1で表わされるアルキルシランポリオールが、前記金属酸化物粉末に対して 0.1ないし30重量%の範囲で使用されることを特徴とする、請求項6または請求項8に記載の方法。
- 前記化学式2で表わされるアルキルアルコキシシランが、前記金属酸化物粉末に対して 0.1ないし10重量%の範囲で使用されることを特徴とする、請求項6または請求項8に記載の方法。
- 酢酸水溶液をさらに添加することを特徴とする、請求項6ないし請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記酢酸水溶液は、1重量%の濃度のものを基準にする時、金属酸化物粉末重量に対して1ないし5重量%の範囲で添加されることを特徴とする、請求項11に記載の方法。
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