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JP4942978B2 - 熱伝導性シリコーングリース組成物及びそれを用いた半導体装置 - Google Patents

熱伝導性シリコーングリース組成物及びそれを用いた半導体装置 Download PDF

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Description

本発明は、熱伝導性及び電気絶縁性に優れた熱伝導性シリコーングリース組成物及びそれを用いた半導体装置に関する。
従来、電子部品の多くには、使用時の温度上昇による損傷や性能低下等を防止するため、ヒートシンク等の放熱体が広く用いられている。電子部品から発生する熱を放熱体に効率よく伝導させるため、一般に電子部品と放熱体との間に熱伝導性材料が使用される。
熱伝導性材料としては、例えば特許文献1には、シリコーンオイルをベースとして、アルミニウム粉末などの金属粉末を配合した熱伝導性グリース組成物が提案されている。また、特許文献2には、アルミニウム粉末及び酸化亜鉛粉末を配合した付加反応硬化型の熱伝導性シリコーン組成物が提案されている。
しかしながら、従来の熱伝導性材料は、金属粉末等を高充填すると熱伝導性能を改善することができるが、電気絶縁性を維持することが難しい。また、電子部品の多くは一般的に高い電気絶縁性が求められるため、このような場合には使用することが困難であった。
特開2000−063873号公報 特開2002−327116号公報
本発明の目的は、熱伝導性及び電気絶縁性に優れた熱伝導性シリコーングリース組成物及びそれを用いた半導体装置を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、液状シリコーンに対する金属粉末の配合量と、金属酸化物粉末及び/又は金属窒化物粉末の配合量を最適化し、得られる組成物の体積抵抗率を1×1011Ω・cm以上とすることによって、熱伝導性とともに電気絶縁性に優れた熱伝導性シリコーングリース組成物が得られることを見出し、本発明をなすに至った。
すなわち、本発明の熱伝導性シリコーングリース組成物は、(A)液状シリコーン 100重量部、(B)平均粒径が0.5〜100μmのアルミニウム粉末 100〜500重量部、及び(C)平均粒径が0.1〜10μmの酸化亜鉛粉末 50〜800重量部を含有し、体積抵抗率が1×1011Ω・cm以上であることを特徴とする。
また、本発明の半導体装置は、発熱性電子部品と放熱体とを有し、前記発熱性電子部品と前記放熱体との間に上記熱伝導性シリコーングリース組成物を介在させてなることを特徴とする。
上記構成により、熱伝導性及び電気絶縁性に優れた熱伝導性シリコーングリース組成物及びそれを用いた半導体装置を提供することが可能となる。
以下、本発明の熱伝導性シリコーングリース組成物について説明する。
[(A)成分]
本発明に用いられる(A)成分の液状シリコーンは、常温で液状である公知のシリコーン、例えば、ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシルアルキレン、ポリオルガノシラン及びそれらの共重合体等から適宜選択することが可能であるが、特に、下記一般式:
SiO(4−a)/2
で表されるオイル状のポリオルガノシロキサンを用いることが好ましい。これによって、良好な耐熱性、安定性及び電気絶縁性を得ることができる。上記式中において、R1は、独立に炭素数1〜18の一価炭化水素基から選択される1種もしくは2種以上の基である。R1としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロヘキシル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、2−フェニルエチル基、2−メチル−2−フェニルエチル基等のアラルキル基、3,3,3−トリフロロプロピル基、2−(パーフロロブチル)エチル基、2−(パーフロロオクチル)エチル基、p−クロロフェニル基等のハロゲン化炭化水素基などが挙げられるが、特にメチル基、フェニル基、炭素数6〜18のアルキル基が好ましい。aは、液状シリコーンの合成のし易さから、1.8〜2.2の範囲がよく、特に1.9〜2.1が好ましい。
また、(A)成分の粘度は、23℃において0.05〜10Pa・s、特に0.1〜5Pa・sであることが好ましい。0.05Pa・s未満であると、得られる組成物の安定性が悪化しオイル分離が起こり易くなる。一方、10Pa・sを越えると、得られる組成物の流動性が乏しくなる。
[(B)成分]
本発明に用いられる(B)成分の金属粉末は、平均粒径が0.5〜100μm、好ましくは、0.5〜30μmのものが使用される。0.5μm未満であると、得られる組成物において所望の稠度が得られ難い。一方、100μmを超えると、得られる組成物の安定性が悪化し、オイル分離等が起こり易くなる。
(B)成分としては、例えばアルミニウム粉末、銅粉末、銀粉末、ニッケル粉末、鉄粉末、ステンレス粉末等の各種金属粉末が挙げられ、1種単独または2種以上を混合して用いてもよいが、特に、アルミニウム粉末を用いることが好ましい。また、その形状は、球状、不定形状のいずれでもよい。
(B)成分の配合量は、(A)成分であるポリオルガノシロキサン100重量部に対して、100〜500重量部、好ましくは150〜480重量部である。100重量部未満であると、得られる組成物の熱伝導率が低下し易くなる。一方、500重量部を越えると、得られる組成物において所望の体積抵抗率が得られ難くなる。
[(C)成分]
本発明に用いられる(C)成分の金属酸化物粉末及び/又は金属窒化物粉末は、(B)成分の金属粉末の隙間に入り込み易くする上で、平均粒径が0.1〜10μm、好ましくは0.2〜8μmのものが使用される。0.1μm未満であると、得られる組成物において所望の稠度が得られ難い。一方、10μmを超えると、(B)成分の金属粉末との組合せによる細密充填が困難になり、所望の熱伝導率を得られ難くなる。
(C)成分としては、例えば酸化亜鉛粉末、酸化アルミニウム粉末、酸化マグネシウム粉末、窒化ホウ素粉末、窒化アルミニウム粉末、窒化ケイ素粉末等の各種金属酸化物粉末及び/又は金属窒化物粉末が挙げられる。特に、酸化亜鉛粉末、酸化アルミニウム粉末及び窒化ホウ素粉末から選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましく、1種単独または2種以上を混合して用いてもよい。また、その形状は、球状、不定形状のいずれでもよい。
(C)成分の配合量は、(A)成分であるポリオルガノシロキサン100重量部に対して、50〜800重量部、好ましくは100〜500重量部である。50重量部未満であると、(B)成分の金属粉末の隙間を埋めることができなくなるため、熱伝導率が低下する。一方、800重量部を越えると、得られる組成物において所望の稠度が得られ難くなる。
したがって、(B)成分と(C)成分との合計量は、ベースオイルである(A)成分100重量部に対して、150〜1300重量部となる範囲で使用することが可能である。150重量部未満であると、熱伝導性が不十分となる。一方、1300重量部を超えると、得られる組成物の流動性が低下して作業性が悪化し易くなる。なお、(B)成分と(C)成分の配合量は、所望の熱伝導率と体積抵抗率を得る上で、同量または(B)成分が(C)成分より多くなる量であることが好ましい。
本発明における熱伝導性シリコーングリース組成物は、上記(A)〜(C)の各成分を基本成分とし、これらに必要に応じて、その他任意成分としてウエッター成分を配合してもよい。ウエッター成分は、(B)成分及び(C)成分の粉末表面をウエッター成分で処理することにより、前記粉末とベースオイルである(A)成分のポリオルガノポリシロキサンとの濡れ性を向上させるものである。
ウエッター成分としては、下記一般式:
Si(OR4−b−c
で表されるアルコキシシランを用いることが好ましい。上記式中のRは、炭素数6〜15のアルキル基である。具体例としては、ヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基等が挙げられる。また、Rは、炭素数1〜8の飽和又は不飽和の一価の炭化水素基である。具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロヘキシル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、2−フェニルエチル基、2−メチル−2−フェニルエチル基等のアラルキル基、3,3,3−トリフロロプロピル基、2−(パーフロロブチル)エチル基、2−(パーフロロオクチル)エチル基、p−クロロフェニル基等のハロゲン化炭化水素基などが挙げられるが、特にメチル基、エチル基が好ましい。Rは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などの炭素数1〜6の1種もしくは2種以上のアルキル基であり、特にメチル基、エチル基が好ましい。また、bは1〜3の整数であるが、特に1であることが好ましい。cは0〜2の整数、b+cは1〜3の整数である。
ウエッター成分の配合量は、(B)成分及び(C)成分と、(A)成分との濡れ性を向上させる上で、(A)成分100重量部に対して、0.01〜10重量部の範囲が好ましい。
さらに、その他任意成分として公知の耐熱添加剤、シリカ等の粘度調整剤、着色剤、溶剤等を本発明の目的を損なわない範囲で添加してもよい。
本発明の熱伝導性シリコーングリース組成物を製造するには、上述した(A)〜(C)成分及びその他任意成分をプラネタリーミキサー等の混合機で混合することにより得ることができる。必要ならば50〜150℃に加熱しながら混合してもよい。更に混合後、均一仕上げのため、高剪断力下で混練操作を行うことが好ましい。混練装置としては、3本ロール、コロイドミル、サンドグラインダー等があるが、中でも3本ロールによる方法が好ましい。
本発明の熱伝導性シリコーングリース組成物の稠度は、150〜450であることが好ましい。なお、稠度は、JIS K 2220に準拠した値である。25℃における稠度が、450を超えると、塗布時に液ダレを起こしやすくなる。一方、150未満であると、例えばシリンジやディスペンサ等を用いて電子部品に塗布する際に、吐出し難くなり所望の厚さに塗布することが困難になる。
本発明の熱伝導性シリコーングリース組成物は、体積抵抗率が1×1011Ω・cm以上、特に1×1012Ω・cm以上であることが好ましい。体積抵抗率が1×1011Ω・cm未満であると、電気的短絡の危険性が増加し、適応範囲が狭まる場合がある。
また、本発明の熱伝導性シリコーングリース組成物は、熱線法で測定した25℃における熱伝導率が0.5W/(m・K)以上、特に1.0W/(m・K)以上であることが好ましい。熱伝導率が0.5W/(m・K)未満であると、熱伝導性能が不十分になる場合があり、用途が限定され易くなる。
したがって、本発明の熱伝導性シリコーングリース組成物は、熱伝導性とともに優れた電気絶縁性を発揮するため、発熱性電子部品と放熱体との間に介在される電気絶縁性の熱伝導性材料として好適である。
次に、本発明の半導体装置について図面を参照して説明する。図1は、本発明に係る半導体装置の一例を示す断面図である。
図1に示すように、本発明の半導体装置1は、配線基板2に実装された例えばCPU3等の発熱性電子部品とヒートシンク4等の放熱体との間に、上述した熱伝導性シリコーングリース組成物5を介在させてなる。このような半導体装置1は、配線基板2に実装されたCPU3に、例えばシリンジ等で熱伝導性シリコーングリース組成物5を塗布した後、ヒートシンク4と配線基板2とをクランプ6等で押圧することによって得られる。
CPU3とヒートシンク4との間に介在する熱伝導性シリコーングリース組成物5の厚さは、5〜300μmであることが好ましい。5μmより薄いと、押圧の僅かなずれによりCPU3とヒートシンク4との間に隙間が生じる恐れがある。一方、300μmより厚いと、熱抵抗が大きくなり、放熱効果が悪化し易くなる。
本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。なお、実施例及び比較例中の粘度は、23℃において測定した値である。
実施例および比較例で得られた熱伝導性シリコーングリース組成物は、以下のようにして評価し、結果を表1に示した。
[熱伝導率]
25℃において、熱線法に従い、熱伝導率計(京都電子工業社製、QTM−500)を用いて測定した。
[体積抵抗率]
MIL−S−8660Bに従い、測定した。
[実施例1]
粘度0.6Pa・sのC10変性シリコーンオイル100重量部、平均粒径が10μmのアルミニウム粉末450重量部、平均粒径が0.5μmである酸化亜鉛粉末450重量部、所定の耐熱添加剤0.5重量部をプラネタリー型ミキサー(ダルトン社製)に仕込み、室温にて1時間撹拌混合し、さらに120℃にて1時間撹拌混合した後、3本ロール(小平製作所製)にて処理を行い、熱伝導性シリコーングリース組成物を製造した。
この組成物の特性を測定し、結果を表1に示した。
参考例2
粘度0.6Pa・sのC10変性シリコーンオイル100重量部、平均粒径が10μmのアルミニウム粉末450重量部、平均粒径が0.5μmである酸化アルミニウム粉末300重量部、所定の耐熱添加剤0.5重量部をプラネタリー型ミキサー(ダルトン社製)に仕込み、室温にて1時間撹拌混合し、さらに120℃にて1時間撹拌混合した後、3本ロール(小平製作所製)にて処理を行い、熱伝導性シリコーングリース組成物を製造した。
この組成物の特性を測定し、結果を表1に示した。
[実施例3]
粘度0.8Pa・sのジメチルシリコーンオイル100重量部、平均粒径が10μmのアルミニウム粉末450重量部、平均粒径が0.5μmである酸化亜鉛粉末400重量部をプラネタリー型ミキサー(ダルトン社製)に仕込み、室温にて1時間撹拌混合し、さらに120℃にて1時間撹拌混合後、3本ロール(小平製作所製)にて処理を行い、熱伝導性シリコーングリース組成物を製造した。
この組成物の特性を測定し、結果を表1に示した。
[実施例4]
粘度0.6Pa・sのC10変性シリコーンオイル100重量部、平均粒径が2μmのアルミニウム粉末400重量部、平均粒径が0.5μmである酸化亜鉛粉末200重量部をプラネタリー型ミキサー(ダルトン社製)に仕込み、室温にて1時間撹拌混合し、さらに120℃にて1時間撹拌混合後、3本ロール(小平製作所製)にて処理を行い、熱伝導性シリコーングリース組成物を製造した。
この組成物の特性を測定し、結果を表1に示した。
[比較例1]
粘度0.6Pa・sのC10変性シリコーンオイル100重量部、平均粒径が10μmのアルミニウム粉末800重量部、所定の耐熱添加剤0.5重量部をプラネタリー型ミキサー(ダルトン社製)に仕込み、室温にて1時間撹拌混合し、さらに120℃にて1時間撹拌混合後、3本ロール(小平製作所製)にて処理を行い、熱伝導性シリコーングリース組成物を製造した。
この組成物の特性を測定し、結果を表1に示した。
[比較例2]
粘度0.6Pa・sのC10変性シリコーンオイル100重量部、平均粒径が10μmのアルミニウム粉末650重量部、平均粒径が0.5μmである酸化亜鉛粉末100重量部、所定の耐熱添加剤0.5重量部をプラネタリー型ミキサー(ダルトン社製)に仕込み、室温にて1時間撹拌混合し、さらに120℃にて1時間撹拌混合後、3本ロール(小平製作所製)にて処理を行い、熱伝導性シリコーングリース組成物を製造した。
この組成物の特性を測定し、結果を表1に示した。
Figure 0004942978
表1から明らかなように、(A)成分のベースオイル100重量部に対する(B)成分の配合量が100〜500重量部であり、かつ、(C)成分の配合量が50〜800重量部である各実施例の熱伝導性シリコーングリース組成物は、熱伝導率を0.5W/(m・K)以上にするとともに、体積抵抗率を1×1011Ω・cm以上にすることができる。したがって、高い熱伝導性能と電気絶縁性を兼ね備えているため、発熱性電子部品と放熱体との間に介在される電気絶縁性の熱伝導性材料として好適である。
本発明の半導体装置の一例を示す断面図。
符号の説明
1…半導体装置、2…配線基板、3…CPU、4…ヒートシンク、5…熱伝導性シリコーングリース組成物、6…クランプ。

Claims (6)

  1. (A)液状シリコーン 100重量部、
    (B)平均粒径が0.5〜100μmのアルミニウム粉末 100〜500重量部、
    及び
    (C)平均粒径が0.1〜10μmの酸化亜鉛粉末 50〜800重量部を含有し、体積抵抗率が1×1011Ω・cm以上であることを特徴とする熱伝導性シリコーングリース組成物。
  2. 前記(A)成分の23℃における粘度が、0.05〜10Pa・sであることを特徴とする請求項1に記載の熱伝導性シリコーングリース組成物。
  3. 前記(A)成分は、下記一般式:
    SiO(4−a)/2
    (R1は独立に炭素数1〜18の一価炭化水素基、aは1.8≦a≦2.2である。)で表されるポリオルガノシロキサンであることを特徴とする請求項1又は2に記載の熱伝導性シリコーングリース組成物。
  4. 熱伝導性シリコーングリース組成物の25℃における稠度が、150〜450であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の熱伝導性シリコーングリース組成物。
  5. 熱伝導性シリコーングリース組成物の熱線法で測定した25℃における熱伝導率が、0.5W/(m・K)以上であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の熱伝導性シリコーングリース組成物。
  6. 発熱性電子部品と放熱体とを有し、前記発熱性電子部品と前記放熱体との間に請求項1乃至のいずれか1項に記載の熱伝導性シリコーングリース組成物を介在させてなることを特徴とする半導体装置。
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