JP4769658B2 - 共振器 - Google Patents
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- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 190
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 166
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 claims description 55
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- -1 AlGaInP Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1225—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths comprising photonic band-gap structures or photonic lattices
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/002—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials
- G02B1/005—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials made of photonic crystals or photonic band gap materials
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/203—Filters having holographic or diffractive elements
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Description
Physical Review Letters、Vol.58、pp.2059、1987年
で導波可能なモードのことを指す。
該3次元フォトニック結晶は、
屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した周期構造部を有し、
該層面内方向の第1の軸に沿って周期a、該層面内方向であって該第1の軸と直交する第2の軸に沿って周期bを有する第1長方格子の各格子点と、該第1長方格子を該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/4ずらした位置に形成される第2長方格子の各格子点に、第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を第1の媒質で満たした周期構造より成る第1の層と、該第1長方格子を該第2の軸方向に沿って+3b/8ずらした位置に形成され、該第1の軸に沿って該周期a、該第2の軸に沿って該周期bを有する面心長方格子の各格子点に、第3の媒質からなり積層方向に軸を有する柱状構造と、該柱状構造以外の領域を前記第2の媒質で満たした周期構造より成る第2の層と、前記第1の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第1の層に対して該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される周期構造より成る第3の層と、前記第2の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第2の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第4の層を有し、該第1の層、該第2の層、該第3の層、該第4の層の順に積層した構成を有している。
◎該周期欠陥部は
該第2の層または該第4の層内に形成される柱状構造が有する軸上且つ該第2の層または該第4の層に配置される柱状構造であることを特徴としている。
該第2の層または該第4の層内に形成される柱状構造が有する軸上且つ該第1の層又は該第3の層に配置される柱状構造であることを特徴としている。
該3次元フォトニック結晶は、屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した周期構造部を有し、該層面内方向の第1の軸に沿って周期a、該層面内方向であって該第1の軸と直交する第2の軸に沿って周期bを有する第1長方格子の各格子点と、該第1長方格子を該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/4ずらした位置に形成される第2長方格子の各格子点に、第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を第1の媒質で満たした周期構造より成る第1の層と、層面内方向において、前記第1長方格子及び前記第2長方格子の各格子点と、前記第1長方格子を前記第1の軸に沿ってa/2且つ前記第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される第3長方格子の格子点と、前記第2長方格子を前記第1の軸に沿ってa/2且つ前記第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に配置した第4長方格子の格子点に、前記第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を前記第3の媒質で満たし、該第1長方格子の格子点に配置した該孔と該第2長方格子の格子点に配置した該孔は互いに交差せず、且つ該第3長方格子の格子点に配置した該孔と該第4長方格子の格子点に配置した該孔は互いに交差しない周期構造より成る第2の層と、前記第1の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第1の層に対して該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される周期構造より成る第3の層と、前記第2の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第2の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第4の層を有し、該第1の層、該第2の層、該第3の層、該第4の層の順に積層してなる3次元フォトニック結晶であって、
該周期欠陥部は
該第2の層または該第4の層内の該第1長方格子または該第3長方格子の格子点を該第2の軸に沿って+3b/8ずらした位置、または該第2長方格子または該第4長方格子の格子点を該第2の軸に沿って−3b/8ずらした位置且つ該第2の層または該第4の層に配置される柱状構造であることを特徴としている。
実施例1の共振器10は、周期構造部100とその内部に形成された周期欠陥部(点状欠陥部)150とを有している。周期構造部100は、以下に示すような屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層することにより構成されており、xy平面を含む第1の層110から第4の層140の4層を基本周期として構成されている。
第1長方格子211を第21長方格子221、
第2長方格子213を第22長方格子223、
第3長方格子231を第23長方格子225、
第4長方格子233を第24長方格子227、
として示している。
100 周期構造部
150 周期欠陥部
2000 レーザ素子
2010 周期構造部
2030 P型電極
2040 P型キャリア伝導路
2050 n型電極
2060 n型キャリア伝導路
2070 導波路
2100 波長変換素子
2110 周期構造部
2120 周期欠陥部
2130 入力用導波路
2140 出力用導波路
110、210 第1の層
120、220 第2の層
130、230 第3の層
140、240 第4の層
211、213、231、233、221、223、225、227 長方格子
212、214、222、224、232、234、226、228、242、244、246、248 円孔
Claims (4)
- 3次元フォトニック結晶中に周期欠陥部を有する共振器であって、
該3次元フォトニック結晶は、
屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した周期構造部を有し、
該層面内方向の第1の軸に沿って周期a、該層面内方向であって該第1の軸と直交する第2の軸に沿って周期bを有する第1長方格子の各格子点と、該第1長方格子を該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/4ずらした位置に形成される第2長方格子の各格子点に、第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を第1の媒質で満たした周期構造より成る第1の層と、該第1長方格子を該第2の軸方向に沿って+3b/8ずらした位置に形成され、該第1の軸に沿って該周期a、該第2の軸に沿って該周期bを有する面心長方格子の各格子点に、第3の媒質からなり積層方向に軸を有する柱状構造と、該柱状構造以外の領域を前記第2の媒質で満たした周期構造より成る第2の層と、前記第1の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第1の層に対して該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される周期構造より成る第3の層と、前記第2の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第2の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第4の層を有し、該第1の層、該第2の層、該第3の層、該第4の層の順に積層した構成を有し、
該周期欠陥部は
該第2の層または該第4の層内に形成される柱状構造が有する軸上且つ該第2の層または該第4の層に配置される柱状構造であることを特徴とする共振器。 - 3次元フォトニック結晶中に周期欠陥部を有する共振器であって、
該3次元フォトニック結晶は、
屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した周期構造部を有し、
該層面内方向の第1の軸に沿って周期a、該層面内方向であって該第1の軸と直交する第2の軸に沿って周期bを有する第1長方格子の各格子点と、該第1長方格子を該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/4ずらした位置に形成される第2長方格子の各格子点に、第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を第1の媒質で満たした周期構造より成る第1の層と、該第1長方格子を該第2の軸方向に沿って+3b/8ずらした位置に形成され、該第1の軸に沿って該周期a、該第2の軸に沿って該周期bを有する面心長方格子の各格子点に、第3の媒質からなり積層方向に軸を有する柱状構造と、該柱状構造以外の領域を前記第2の媒質で満たした周期構造より成る第2の層と、前記第1の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第1の層に対して該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される周期構造より成る第3の層と、前記第2の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第2の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第4の層を有し、該第1の層、該第2の層、該第3の層、該第4の層の順に積層した構成を有し、
該周期欠陥部は、
該第1の層又は該第3の層の該第1長方格子と該第2長方格子との交点に配置される柱状構造であることを特徴とする共振器。 - 3次元フォトニック結晶中に周期欠陥部を有する共振器であって、
該3次元フォトニック結晶は、
屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した周期構造部を有し、
該層面内方向の第1の軸に沿って周期a、該層面内方向であって該第1の軸と直交する第2の軸に沿って周期bを有する第1長方格子の各格子点と、該第1長方格子を該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/4ずらした位置に形成される第2長方格子の各格子点に、第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を第1の媒質で満たした周期構造より成る第1の層と、該第1長方格子を該第2の軸方向に沿って+3b/8ずらした位置に形成され、該第1の軸に沿って該周期a、該第2の軸に沿って該周期bを有する面心長方格子の各格子点に、第3の媒質からなり積層方向に軸を有する柱状構造と、該柱状構造以外の領域を前記第2の媒質で満たした周期構造より成る第2の層と、前記第1の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第1の層に対して該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される周期構造より成る第3の層と、前記第2の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第2の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第4の層を有し、該第1の層、該第2の層、該第3の層、該第4の層の順に積層した構成を有し、
該周期欠陥部は、
該第2の層または該第4の層内に形成される柱状構造が有する軸上且つ該第1の層又は該第3の層に配置される柱状構造であることを特徴とする共振器。 - 3次元フォトニック結晶中に周期欠陥部を有する共振器であって、
該3次元フォトニック結晶は、屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した周期構造部を有し、該層面内方向の第1の軸に沿って周期a、該層面内方向であって該第1の軸と直交する第2の軸に沿って周期bを有する第1長方格子の各格子点と、該第1長方格子を該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/4ずらした位置に形成される第2長方格子の各格子点に、第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を第1の媒質で満たした周期構造より成る第1の層と、層面内方向において、前記第1長方格子及び前記第2長方格子の各格子点と、前記第1長方格子を前記第1の軸に沿ってa/2且つ前記第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される第3長方格子の格子点と、前記第2長方格子を前記第1の軸に沿ってa/2且つ前記第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に配置した第4長方格子の格子点に、前記第2の媒質より成る孔を有し、該孔以外の領域を前記第3の媒質で満たし、該第1長方格子の格子点に配置した該孔と該第2長方格子の格子点に配置した該孔は互いに交差せず、且つ該第3長方格子の格子点に配置した該孔と該第4長方格子の格子点に配置した該孔は互いに交差しない周期構造より成る第2の層と、前記第1の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第1の層に対して該第1の軸に沿ってa/2且つ該第2の軸に沿ってb/2ずらした位置に形成される周期構造より成る第3の層と、前記第2の層に含まれる周期構造が、層面内方向において該第2の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第4の層を有し、該第1の層、該第2の層、該第3の層、該第4の層の順に積層してなる3次元フォトニック結晶であって、
該周期欠陥部は
該第2の層または該第4の層内の該第1長方格子または該第3長方格子の格子点を該第2の軸に沿って+3b/8ずらした位置、または該第2長方格子または該第4長方格子の格子点を該第2の軸に沿って−3b/8ずらした位置且つ該第2の層または該第4の層に配置される柱状構造であることを特徴とする共振器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006207907A JP4769658B2 (ja) | 2006-07-31 | 2006-07-31 | 共振器 |
US11/830,248 US7587118B2 (en) | 2006-07-31 | 2007-07-30 | Resonator and device having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006207907A JP4769658B2 (ja) | 2006-07-31 | 2006-07-31 | 共振器 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008034697A JP2008034697A (ja) | 2008-02-14 |
JP2008034697A5 JP2008034697A5 (ja) | 2009-09-10 |
JP4769658B2 true JP4769658B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=39113536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006207907A Expired - Fee Related JP4769658B2 (ja) | 2006-07-31 | 2006-07-31 | 共振器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7587118B2 (ja) |
JP (1) | JP4769658B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5173876B2 (ja) * | 2008-02-14 | 2013-04-03 | キヤノン株式会社 | 3次元構造及び発光デバイス |
JP4872096B2 (ja) * | 2008-03-12 | 2012-02-08 | キヤノン株式会社 | フォトニック結晶発光素子及び発光装置 |
JP5188259B2 (ja) * | 2008-05-02 | 2013-04-24 | キヤノン株式会社 | 3次元フォトニック結晶を用いた発光素子 |
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JP5792969B2 (ja) | 2011-03-04 | 2015-10-14 | キヤノン株式会社 | 光書き込みヘッド及び画像形成装置 |
JP2012186414A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Toshiba Corp | 発光装置 |
KR101950188B1 (ko) * | 2011-11-30 | 2019-02-20 | 이길호 | 전자기파 필터 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2006
- 2006-07-31 JP JP2006207907A patent/JP4769658B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-07-30 US US11/830,248 patent/US7587118B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008034697A (ja) | 2008-02-14 |
US7587118B2 (en) | 2009-09-08 |
US20080050066A1 (en) | 2008-02-28 |
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A521 | Written amendment |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |