JP4753451B2 - 低分子量イソシアネートの塩素含量を減少させる方法 - Google Patents
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- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 title claims abstract description 92
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 title claims abstract description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims description 20
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims description 20
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 11
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 9
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 4
- HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N n-butyl isocyanate Chemical compound CCCCN=C=O HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 12
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 abstract description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract 1
- -1 phosphate ester Chemical class 0.000 description 16
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- MGYGFNQQGAQEON-UHFFFAOYSA-N 4-tolyl isocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 MGYGFNQQGAQEON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHESOIPTRUDICE-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCC.N=C=O.N=C=O.N=C=O Chemical compound CCCCCCCCC.N=C=O.N=C=O.N=C=O ZHESOIPTRUDICE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 description 2
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 2
- VNMOIBZLSJDQEO-UHFFFAOYSA-N 1,10-diisocyanatodecane Chemical compound O=C=NCCCCCCCCCCN=C=O VNMOIBZLSJDQEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZYRZNIYJDKRHO-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(2-isocyanatopropan-2-yl)benzene Chemical compound O=C=NC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)N=C=O)=C1 AZYRZNIYJDKRHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHTRJOZKRSVAOX-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanato-2-methylcyclohexane Chemical compound CC1C(N=C=O)CCCC1N=C=O OHTRJOZKRSVAOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCC(CN=C=O)CC1 ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUJCKESIGPLCRN-UHFFFAOYSA-N 1,5-diisocyanato-2,2-dimethylpentane Chemical compound O=C=NCC(C)(C)CCCN=C=O OUJCKESIGPLCRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHBNSOZREBSAMG-UHFFFAOYSA-N 1,5-diisocyanato-2-methylpentane Chemical compound O=C=NCC(C)CCCN=C=O AHBNSOZREBSAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,4,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)CC(C)(C)CCN=C=O QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWDQYHPOSSHSAW-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatooctadecane Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCCN=C=O QWDQYHPOSSHSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HACRKYQRZABURO-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl isocyanate Chemical group O=C=NCCC1=CC=CC=C1 HACRKYQRZABURO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHOCDTPPKKZGPH-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC(O)COC(C)CO Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC(O)COC(C)CO IHOCDTPPKKZGPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 150000001912 cyanamides Chemical class 0.000 description 1
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical group O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008406 diethyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- LRCFXGAMWKDGLA-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;hydrate Chemical compound O.O=[Si]=O LRCFXGAMWKDGLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- DYDNPESBYVVLBO-UHFFFAOYSA-N formanilide Chemical compound O=CNC1=CC=CC=C1 DYDNPESBYVVLBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDNLNVZZTACNJX-UHFFFAOYSA-N isocyanatomethylbenzene Chemical group O=C=NCC1=CC=CC=C1 YDNLNVZZTACNJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUDXQIXWPJMPRQ-UHFFFAOYSA-N isocyanatomethylcyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCCCC1 DUDXQIXWPJMPRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052914 metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N phenyl isocyanate Chemical group O=C=NC1=CC=CC=C1 DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 1
- 229960004029 silicic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C263/00—Preparation of derivatives of isocyanic acid
- C07C263/18—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、塩素化合物の含量を減少させることによって有機イソシアネートまたはイソシアネート混合物を精製する新規な方法に関する。この方法において、イソシアネートを、高分子量のリン酸エステルによって処理する。この方法で精製されたイソシアネートは、コーティング、ポリウレタン成形品および中間体として好ましく使用される。
【0002】
【従来の技術】
イソシアネートの製造方法に起因してイソシアネート中に存在する不純物の量が変化することで、イソシアネート活性が変化する。活性の変化が、これらのイソシアネートから製造される生成物の再現性、すなわちこれらの化合物の商業的な価値に好ましくない影響を与える。したがって、芳香族イソシアネート、例えば既知のアニリン−ホルムアルデヒド縮合物のホスゲン化生成物、2,4−および2,6−ジイソシアナトトルエン、ならびに脂肪族イソシアネート(例えば、イソホロンジイソシアネート)は、このような不純物を多く含有する。これらの不純物は、主に、塩素を含有する化合物であり、これらの化合物が「容易に動くことできる」塩素または「加水分解性塩素」と呼ばれるものを含有する場合に、活性の変化が生じる。加水分解性塩素含有化合物のいくつかは、比較的安定であり、蒸留後でさえイソシアネート中に残留することがわかっている。これらの安定な塩素化合物は、イソシアネート活性に好ましくない影響を与えるだけでなく、イソシアネートの安定性に好ましくない影響を与える。不純物のより低い含量が、イソシアネートの標準化活性および加工容易性のさらなる向上をもたらすので、それゆえに工業的にも、経済的にも重要である。
【0003】
そこで、塩素化合物を除去するための選択肢を見極めることに向けた研究が多く存在する。そのような塩素化合物を除去するための熱的な方法を記載している特許出願は非常に多く存在する。例えば、特に不活性ガスによるストリッピングを同時に行いながら、イソシアネートを加熱すること、または吸引により揮発性化合物を同時に除去しながら加圧下で不活性溶媒中でイソシアネートを加熱することは、容易に分離できる塩素化合物の含量を減少させる。例えば、DE-A 1,170,036; DD 271 820; US 3,219,678; GB-A 1,080,717; DE-A 2,237,552; US 3,857,871; US 1,458,223; JP 07-27 808 8 A2; JP 06-34 570 7 A2 ;およびGB-A 1,384,065参照。
【0004】
JP 61-16 125 0A; JP 05-16 323 1A; DE-A 1,950,101; DE-A 1,938,384; DE-A 2,532,722; DE-A 2,631,168; US 3,853,936; FR-A 1,555,517; DE-A 2,933,601およびUS-A 3,504,504は、イソシアネートを特別な蒸留および結晶化技術によって精製できることを開示している。しかしながら、これらのどの方法も、やっかいな塩素化合物を効果的に分離することができない。これらの既知の方法は、純粋に物理的な処理に基づいているので、容易に揮発できる塩素化合物しか分離できない。このような方法の使用は、一般に熱的に安定であり、塩素含量の減少が制限されていても有用である特定のイソシアネート化合物に限定される。
【0005】
純粋に熱的な技術によるイソシアネートの処理の他に、添加剤による処理も文献に記載されている。これらの処理は、やっかいな塩素化合物の分離を改良することを可能にした。特許明細書JP 45-01 032 9 B; JP 42-00 413 7B; JP 59-08 845 2A; JP 59-10 875 3A; JP 59-17 245 0A; US 3,373,182; GB-A 1,111,581; US 3,759,971; US 4,094,894; ZA-A 8,100,606; DE-A 1,138,040; DE-A 1,286,025; US 3,458,558; US 3,264,336; SU-A 806 677およびDE-A 2,210,607は、金属またはアルカリ金属、例えば金属酸化物、金属シアナミド、金属水素化物または脂肪酸金属エステル(例えば、実際には、立体障害フェノール、金属ナフタネート、金属シリケート、アルカリ金属カーボネートまたは有機金属化合物)からなる添加剤を記載している。これらの添加剤は、精製したイソシアネートから分離することが困難であるので、金属または金属イオンによって対応するイソシアネート生成物に好ましくない汚染が生じる。さらに、ほとんどすべての金属および金属錯体が、副生物の生成(例えば、三量体、カルボジイミド、二量体の形成)を増加させる。
【0006】
同様の制限が、添加剤、例えばイミダゾール(GB-A 1,347,647およびJP 05-05 898 2Aに記載)、スルホン酸およびそれらのエステル(GB-A 1,458,747に記載)、酸性材料(US 4,996,351に記載)、ジエチルスルフェート(GB-A 1,459,691に記載)、硫酸(GB-A 1,459,691に記載)、エポキシ化合物(DE-A 2,249,375; JP 0 932 396 8 A2)、4置換ウレア(DD 288 598)、蟻酸もしくは酢酸またはそれらの誘導体(US 3,799,693)およびトリメチルシリル基を有する化合物(EP-A 524 507に記載)の使用にあてはまる。有機塩基または酸の使用によって、特にこれらが、反応性イソシアネート化合物の精製に使用されたときに、好ましくない二次反応、例えば三量化、二量体形成またはカルボジイミド形成が起こる。
【0007】
少なくとも1つのツェービチノフ活性NH基を有する化合物、例えばウレア(DD 285 594)、ビウレット(DD 288 597)またはカプロラクタム(DD 285 593)ならびにアンモニウム塩(DD 288 594)、カルボジイミド(DD 288 599)、一級および二級アミンの塩(DD 288 593)、三級アルコールおよび三級アルキルカルバメート(DD 288 585)は、イソシアネートの精製のために従来技術において推奨されている。しかしながら、これらを使用することにも欠点がある。例えば、これらの添加剤は、イソシアネートから分離する必要があり、添加剤を含有するイソシアネートまたは蒸留残物の有用性は制限される。これらの添加剤を使用することによる他の特有の欠点は、ときどき生じるNCO値のかなりの減少、および三級アルコールを使用したときにビウレットの形成によって生じる粘度の上昇である。最後の欠点は、イソシアネートを精製するのに、水を使用するときにも当てはまる(DE-A 1,240,849; DE-A 1,240,849)。
【0008】
特許明細書DD 288 596は、イソシアネートに対して実質的に不活性であり、少なくとも200℃の温度で、不活性ガスと同時に使用でき、加水分解性塩素の含量を効率よく減少できる添加剤として、低分子量アルキルホスフェートを記載している。この特許で挙げられている例において、数時間の間、225℃の温度が、加水分解性塩素含量の効果的な減少に必要であることが記載されている。これらの高い温度および生成物をその温度にさらす時間によって、その使用は、数少ない比較的に安定な熱安定性イソシアネートに限定される。イソシアネート化合物、特に感温性の、低分子量イソシアネートは、このような温度/時間条件を受けたときに安定ではなく、分解してカルボジイミドおよびイソシアヌレートを形成する。この結果として、熱が調節されないで発生し、反応の制御をより一層困難にする。さらに、DD 288 596によれば必須である不活性ガスの使用が、取り扱わなければならない非常に汚染された排ガス流を生じる。最後に、低分子量である精製されるイソシアネートから上記の低分子量のアルキルホスフェートを、蒸留または抽出によって分離することが困難である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、有機低分子量イソシアネート、特に感温性低分子量イソシアネートを精製するための普遍的に適用できる方法を提供することであり、その方法は、上記の欠点を有さず、加水分解性塩素の割合を減少させるために使用される試薬を生成物イソシアネートから効率よく分離することができる。
【0010】
【課題を解決するための手段】
これらの目的および当業者には明らかである他の目的は、式(1)で示される適量の添加剤によりイソシアネートを処理することによって達成される。要求された添加剤を、処理される有機イソシアネートまたはイソシアネートの混合物に添加し、その混合物を選択された時間の間、要すれば上昇したまたは減少した圧力下で加熱する。驚くべきことに、本発明の方法は、不活性ガスを必ずしも使用しないで、200℃よりかなり低い温度でやっかいな塩素化合物の効果的な分離(加水分解性塩素含有量の減少)を可能にする。
【0011】
本発明は、(イソシアネートの重量に基づいて)少なくとも0.1重量%の式(1):
【化3】
[式中、
nは、1〜20の数を示し、
各Rは、独立して、1〜20個の炭素原子を有する直鎖または分岐状、飽和または不飽和アルキレン、シクロアルキレン、アラルキレンまたは二官能アリール基であり、要すれば炭素鎖内にヘテロ原子、例えば酸素、硫黄、ケイ素または窒素を含んでよく、および/または酸素、硫黄、もしくはハロゲン原子または窒素置換基を有してよく、および/または他の官能基を有してもよく、
および、
各Xは、独立して、H、OH、SH、O−R1、S−R1、O−Si(R1)3、F、Cl、Br、I、
【化4】
(式中、各R1は、独立して、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキル基であり、要すればヘテロ原子(例えば酸素、硫黄、ケイ素または窒素)を含んでよく、または要すればヘテロ原子(例えば酸素、硫黄、ケイ素または窒素)および末端官能基(例えばNCO)を含みうるC1−C20アルキレン、シクロアルキレン、アラルキレンまたは二官能アリール基を有していてよい。)
の基の1つである。]
で示される少なくとも1つの化合物または式(1)で示される化合物の混合物によって低分子量イソシアネートを処理する方法に関する。
【0012】
イソシアネートと式(1)で示される化合物を、イソシアネートと反応しない不活性溶媒中または不活性溶媒の不存在下で、200℃未満の温度で少なくとも10分間、加熱し、その後式(1)で示される高分子量化合物および/または高分子量反応生成物を、要すれば蒸留または抽出による後処理によってイソシアネートから取り除く。
【0013】
式(1)で示される化合物は、やや好ましくはないが、同じ末端酸官能基を有しうる市販の生成物であってよい。この製造方法に起因して、式(1)の化合物は、多かれ少なかれはっきりとしたほどのランダムなポリマー分布を有するので、式(1)の化合物は、少量の低分子量アルキルホスフェートおよび他の不純物も含有する。
【0014】
本発明の方法によって精製された有機イソシアネートは、コーティング、ポリウレタン成形品、および中間体に適している。
【0015】
本発明の方法の出発材料は、低分子量イソシアネートである。ここで使用される場合、「低分子量イソシアネート」は、低分子量イソシアネートの混合物も含む。このような低分子量イソシアネートの例は、
a)脂肪族、環式脂肪族、芳香族脂肪族または芳香族基結合イソシアネート基を有するモノイソシアネート、例えばブチルイソシアネート、ステアリルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、2−フェニルエチルイソシアネート、フェニルイソシアネート、およびこのようなモノイソシアネートの混合物;
b)約140g/mol〜約400g/molの分子量を有し、脂肪族、環式脂肪族、芳香族脂肪族および/または芳香族基結合イソシネート基を有しうるジイソシアネート、例えば1,4−ジイソシアナトブタン、1,6−ジイソシアネトヘキサン(HDI)、2−メチル−1,5−ジイソシアナトペンタン、1,5−ジイソシアナト−2,2−ジメチルペンタン、2,2,4−および2,4,4−トリメチル−1,6−ジイソシアナトヘキサン、1,10−ジイソシアナトデカン、1,3−および1,4−ジイソシアナトシクロヘキサン、1,3−および1,4−ビス−(イソシアナトメチル)−シクロヘキサン、1−イソシアナト−3,3,5−トリメチル−5−イソシアナトメチルシクロヘキサン(イソホロンジイソシアネート、IPDI)、4,4’−ジイソシアナトジシクロヘキシルメタン、1−イソシアナト−1−メチル−4(3)イソシアナトメチルシクロヘキサン(IMCI)、2,4−および2,6−ジイソシアナト−1−メチルシクロヘキサン(H6−TDI)、ビス−(イソシアナトメチル1)−ノルボルネン、2−メチルペンタン−2,4−ジイソシアネート、1,3−および1,4−ビス−(2−イソシアナトプロポ−2−イル)−ベンゼン(TMXDI)、2,4−および2,6−ジイソシアナトトルエン(TDI)、2,4’−および4,4’−ジイソシアナト−ジフェニルメタン、1,5−ジイソシアナト−ナフタレン、ジプロピレングリコールジイソシアネートおよびこれらジイソシアネートの混合物;
c)トリイソシアネートおよび/またはより高い官能性のイソシアネート、例えば4−イソシアナト−メチル−1,8−オクタンジイソシアネート(ノナントリイソシアネート)、1,6,11−ウンデカントリイソシアネートおよびこれらイソシアネートの混合物である。
【0016】
本発明の方法のための出発材料は、モノ−および/またはジイソシアネートおよび/またはトリイソシアネートおよび/またはより高い官能性のイソシアネートの混合物であってよい。
一般に、約400g/molまで、好ましくは約99〜約279g/molまでの分子量を有するすべての有機イソシアネートを、本発明の低分子量イソシアネートとして使用してよい。
【0017】
上記のジイソシアネートおよびより高い官能性のイソシアネートを本発明の方法で使用することが好ましい。4−イソシアナトメチル−1,8−オクタンジイソシアネート(ノナントリイソシアネート)を使用することが特に好ましい。
本発明の方法において、有機イソシアネートを、イソシアネートの重量に基づいて少なくとも0.1重量%、好ましくは約0.5〜約50重量%、さらに好ましくは約1.0〜約5重量%の式(1)で示される化合物と一緒に、200℃未満、好ましくは約140℃〜約190℃、最も好ましくは約150℃〜約180℃の温度で、少なくとも10分間、好ましくは約1〜24時間、最も好ましくは約3〜15時間、イソシアネートと反応しない不活性溶媒中で、または好ましくは不活性溶媒不存在下で、加熱する。要すれば、その後、精製された低分子量イソシアネートから、蒸留または抽出によって式(1)に示される高分子量化合物および/または高分子量反応生成物およびイソシアネートと反応しない不活性溶媒を除去する。
【0018】
加熱処理の間またはその後、イソシアネートが、高分子量化合物から抽出または蒸留によって、要すれば減圧下で取り出される。精製されたイソシアネートは、減圧下(例えば0.001mbar〜100mbar)、蒸留によって式(1)で示される高分子量化合物および/または高分子量反応生成物から取り出される。
【0019】
空気または湿気の影響による副反応を防ぐために、反応装置を、減圧下(例えば100〜1mbar)で運転し、不活性ガス、例えば窒素でフラッシすることができる。しかしながら、原則的には、不活性ガスの使用は全く必要ではない。
本発明の方法によって得られるイソシアネートは、通常、400ppm未満、好ましくは250ppm未満、最も好ましくは150ppm未満の加水分解性塩素含量を有する。
【0020】
本発明の方法にしたがって、塩素含量を減少する前、その間またはその後に、他の精製方法を、例えば色を害する成分および副生物を除去するために使用してもよい。これらの他の精製方法は、還元剤または酸化剤を使用する処理および/または白化、および吸着剤、例えば活性炭素および/または水和シリカによる処理を包含する。このような白化方法は、イソシアネート化合物の塩素含量の減少によい影響も与える。
【0021】
本発明にしたがって精製されたイソシアネートは、金属化合物、酸、塩基またはイソシアネートと反応する他の化合物の有害な添加物を含まず、好ましくは250ppm未満の加水分解性塩素含量を有する。イソシアネートを、広い範囲の用途で、例えばオリゴマーポリイソシアネートまたはプレポリマーの製造で使用することができ、トリイソシアネートの場合、中間体、ポリウレタン成形品および被覆媒体の製造に、出発材料として使用できる。本発明の方法によって精製された低分子量トリイソシアネートを、コーティングの硬化剤成分として使用することが好ましい。
【0022】
本発明の方法によって精製されたイソシアネートを含有するコーティング材料は、一般に、あらゆる基材、例えば木材、プラスチック、皮製品、紙、繊維製品、ガラス、セラミック、石膏、石造、金属またはコンクリートを被覆するのに適している。コーティング材料を、塗布の常套方法、例えば噴霧、ブラッシング、流し塗り、注入、浸漬、ロール塗布によって塗布してよい。コーティング材料は、透明ラッカーの形態で使用されてよく、着色ラッカーの形態で使用されてもよく、有機溶媒により希釈してもしくは水に分散して、または希釈されない形態で、単独成分被覆または複数成分被覆として使用されてよい。
【0023】
【実施例】
以下の実施例により、本発明を説明する。
挙げられたHC値で示される値は、加水分解性塩素含量に関する。すべての%は、重量%である。
表に示される有機イソシアネート100gを、表1および表2の所定量の化合物AまたはBと混合し、所定の時間および温度で、減圧下(10〜100mbar、使用したイソシアネートに依存)で、攪拌した。所定時間の反応後、生成物を、薄膜蒸留による後処理に付した(180℃/0.2mbar)。本発明による生成物は実施例3、4、5、7、8および9で得られた。
【0024】
【表1】
*DD 288 596の実施例1
1 トリイソシアナトノナン
成分A:Exolit OP 550(Clariant製)(OH値130、酸価<1、密度1.31g/cm3(25℃)、粘度約2000mPa・s)
成分B:1当量のExolit OP 550(Clariant製)と0.9当量のブチルイソシアネートから形成された反応生成物
【0025】
熱処理の前と後でのNCO含量の相違は、好ましくない副反応、従って、収率の減少についての情報を与える。
比較例2(本発明ではない)において、特許明細書DD 288 596の条件を、TINのHC含量を減少させるために再現した。NCOの明らかな減少は、許容できない高いレベルの汚染を示す。示差分析は、この温度で反応によって熱がかなり付加的に、調節されないで発生していること(>600kJ/kg)を示し、このことは、工業的な工程では許容されない。
170℃(実施例4)でさえ、温和な条件下でHC含量は100ppm未満に減少させることができ、同時に、NCOの減少はわずかなものであることが確認された。
【0026】
【表2】
【0027】
以上、種々の実施例を挙げて本発明を詳しく説明したが、これらの実施例は、単に本発明を説明するために開示したものであって、この開示から、当業者ならば、種々の変形例をなすことができ、これらの変形例は、本発明の精神および請求の範囲を逸脱しない限り、本発明に包含されるものと理解すべきである。
本発明の好適な実施態様には、以下のものが含まれる。
〔1〕 イソシアネートの重量に基づいて少なくとも0.1重量%の式(1):
〔化1〕
[式中、
nは、1〜20の数を示し、
各Rは、独立して、1〜20個の炭素原子を有する直鎖または分岐状、飽和または不飽和アルキレン、シクロアルキレン、アラルキレンまたは二官能アリール基であり、要すれば炭素鎖内にヘテロ原子を含んでよく、および/または酸素、硫黄、ハロゲン原子または窒素置換基を有してよく、他の官能基を有してもよく、
および、
各Xは、独立して、H、OH、SH、O−R 1 、S−R 1 、O−Si(R 1 ) 3 、F、Cl、Br、I、
〔化2〕
(式中、各R 1 は、独立して、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキル基であり、要すればヘテロ原子を有してよく、または要すればヘテロ原子および末端官能基を含みうるC 1 −C 20 アルキレン、シクロアルキレン、アラルキレンまたは二官能アリール基を有してよい。)
の基の1つである。]
で示される少なくとも1つの化合物によって、200℃未満の温度で少なくとも10分間、低分子量イソシアネートを処理し、次いで、式(1)の高分子量化合物および/または高分子量反応生成物をイソシアネートから除去することを含んでなる低分子量イソシアネートの精製方法。
〔2〕 低分子量イソシアネートを、イソシアネートの重量に基づいて1.0〜5.0重量%の式(1)で示される化合物と一緒に、約150〜180℃の温度で、約3〜15時間加熱し、その後式(1)で示される高分子量化合物および/または高分子量反応生成物をイソシアネートから除去する上記〔1〕に記載の方法。
〔3〕 4−イソシアナトメチル−1,8−オクタンジイソシアネートが有機イソシアネートである上記〔1〕に記載の方法。
〔4〕 精製されたイソシアネートが、250ppm未満の加水分解性塩素含量を有する上記〔1〕に記載の方法。
〔5〕 イソシアネートから、式(1)で示される高分子量化合物および/または高分子量副生物を蒸留または抽出によって除去する上記〔1〕に記載の方法。
Claims (5)
- 低分子量イソシアネートを、該イソシアネートの重量に基づいて1.0〜5.0重量%の式(1)で示される化合物と一緒に、約150〜180℃の温度で、約3〜15時間加熱し、その後式(1)で示される高分子量化合物および/または高分子量反応生成物をイソシアネートから除去する請求項1に記載の方法。
- 4−イソシアナトメチル−1,8−オクタンジイソシアネートが低分子量イソシアネートである請求項1に記載の方法。
- 得られたイソシアネートが、250ppm未満の加水分解性塩素含量を有する請求項1に記載の方法。
- イソシアネートから、式(1)で示される高分子量化合物および/または高分子量副生物を蒸留または抽出によって除去する請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914291A DE19914291A1 (de) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | Verfahren zur Absenkung des Chlorgehaltes von niedermolekularen Isocyanaten |
DE19914291-2 | 1999-03-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000290243A JP2000290243A (ja) | 2000-10-17 |
JP2000290243A5 JP2000290243A5 (ja) | 2007-05-17 |
JP4753451B2 true JP4753451B2 (ja) | 2011-08-24 |
Family
ID=7902865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000088455A Expired - Fee Related JP4753451B2 (ja) | 1999-03-30 | 2000-03-28 | 低分子量イソシアネートの塩素含量を減少させる方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6391161B1 (ja) |
EP (1) | EP1046637B1 (ja) |
JP (1) | JP4753451B2 (ja) |
AT (1) | ATE257821T1 (ja) |
DE (2) | DE19914291A1 (ja) |
ES (1) | ES2211400T3 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104245771B (zh) | 2011-12-27 | 2017-03-22 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 磷系加聚/聚氨酯‑脲多元醇 |
ES2694130T3 (es) * | 2013-03-12 | 2018-12-18 | Covestro Deutschland Ag | Procedimiento para la preparación de trímeros de TDI con pureza particular |
JP6472759B2 (ja) * | 2013-03-12 | 2019-02-20 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | 淡色のtdiポリイソシアネートを製造するための方法 |
JP6507024B2 (ja) * | 2015-05-12 | 2019-04-24 | 三井化学株式会社 | 脂肪族ポリイソシアネートの製造方法 |
Family Cites Families (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE271820C (ja) | 1906-01-30 | 1900-01-01 | ||
DE1138040B (de) | 1960-03-30 | 1962-10-18 | Mobay Chemical Corp | Entfernung von hydrolysierbarem Chlor und Verringerung der Aziditaet aus/bzw. von organischen Isocyanaten |
US3179680A (en) | 1962-10-31 | 1965-04-20 | Olin Mathieson | Purification of organic isocyanates |
US3274225A (en) | 1963-01-04 | 1966-09-20 | Mobay Chemical Corp | Method for producing organic polyisocyanates substantially free of sediment |
US3219678A (en) | 1963-02-28 | 1965-11-23 | Olin Mathieson | Process for reducing the hydrolyzable chlorine content of organic isocyanates |
US3458558A (en) | 1963-10-25 | 1969-07-29 | Allied Chem | Purification of isocyanates by reducing the hydrolyzable chlorine content |
US3264336A (en) | 1964-09-11 | 1966-08-02 | Mobay Chemical Corp | Purification of isocyanates by reduction of the hydrolyzable chlorine and acid content |
JPS424137B1 (ja) | 1964-10-23 | 1967-02-21 | ||
GB1111581A (en) | 1965-02-09 | 1968-05-01 | Ici Ltd | Process for the purification of organic diisocyanates |
GB1080717A (en) | 1965-07-30 | 1967-08-23 | Ici Ltd | Purification of crude organic polyisocyanates |
GB1112450A (en) | 1965-11-11 | 1968-05-08 | Olin Mathieson | Purification of organic isocyanates |
US3423486A (en) * | 1966-05-03 | 1969-01-21 | Olin Mathieson | Oxyalkylated 2,2-bis(chloromethyl)-1,3-propanediol-bis-phosphate |
US3549504A (en) | 1966-05-05 | 1970-12-22 | Takeda Chemical Industries Ltd | Method for the purification of organic polyisocyanates by fractional distillation in presence of an inert gas or superheated vapor of an organic solvent |
FR1555517A (ja) | 1966-05-10 | 1969-01-31 | ||
JPS4510329B1 (ja) | 1967-04-17 | 1970-04-14 | ||
GB1229181A (ja) | 1968-08-01 | 1971-04-21 | ||
BE756979A (fr) | 1969-10-04 | 1971-03-16 | Bayer Ag | Procede de purification du diphenylmethane-4,4' -diisocyanate |
US3759971A (en) * | 1971-01-20 | 1973-09-18 | Jefferson Chem Co Inc | Purification of isocyanates |
BE786596A (fr) | 1971-07-30 | 1973-01-22 | Ici Ltd | Purification d'isocyanates organiques |
US3793362A (en) | 1971-10-18 | 1974-02-19 | Upjohn Co | Reduction of acidic impurities in polymethylene polyphenylisocyanates |
GB1384065A (en) | 1971-11-30 | 1975-02-19 | Ici Ltd | Process for the purification of organic isocyanates |
US3857871A (en) | 1972-01-03 | 1974-12-31 | Upjohn Co | Process for reducing the acidity and hydrolyzable chloride content of polyisocyanates |
DE2210607A1 (de) | 1972-03-04 | 1973-09-06 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von nicht vergilbendem diisocyanato-diphenylmethan |
US3799963A (en) | 1972-05-12 | 1974-03-26 | Olin Corp | Purification of isocyanates reducing the hydrolyzable chlorine and acid content |
JPS522908B2 (ja) * | 1972-06-26 | 1977-01-25 | ||
JPS4975505A (ja) * | 1972-11-27 | 1974-07-20 | ||
GB1347647A (en) | 1973-01-16 | 1974-02-27 | Ici Ltd | Process for the purification of organic isocyanates |
US3853936A (en) | 1973-02-05 | 1974-12-10 | Olin Corp | Process for distillation of toluene diisocyanate |
GB1459691A (en) | 1974-04-08 | 1976-12-22 | Imp Chemical Ind Ltdc | Isocyanates |
GB1458747A (ja) | 1974-04-08 | 1976-12-15 | Ici Ltd | |
GB1517162A (en) | 1974-07-24 | 1978-07-12 | Shell Int Research | Purification of diisocyanate |
DE2518369A1 (de) * | 1975-04-25 | 1976-11-04 | Bosch Gmbh Robert | Kinematografische kamera mit einem antriebsmotor |
DE2631168B2 (de) | 1976-07-10 | 1979-03-08 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von Diisocyanatodiphenylmethan-Isomeren mit einem eingestellten Gehalt an Chlorverbindungen |
US4094894A (en) | 1977-03-23 | 1978-06-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process of purifying aliphatic isocyanates |
SU806677A1 (ru) | 1978-10-03 | 1982-05-07 | Предприятие П/Я Г-4302 | Способ очистки органических изоцианатов |
DE2933601C2 (de) | 1979-08-18 | 1985-07-11 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Gewinnung von Mischungen aus Diphenyl-methan-diisocyanat-Isomeren und gegebenenfalls reinem 4,4'-Diphenylmethan-diisocyanat mit einem geringen Gehalt an Uretdionen und hydrolysierbaren Chlorverbindungen |
ZA81606B (en) | 1980-01-30 | 1982-09-29 | Du Pont | Isocyanate purification process |
JPS5988452A (ja) | 1982-11-09 | 1984-05-22 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 有機イソシアナ−トの精製方法 |
JPS5998050A (ja) * | 1982-11-26 | 1984-06-06 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 有機イソシアナ−ト化合物の着色防止方法 |
JPS59108753A (ja) | 1982-12-14 | 1984-06-23 | Mitsui Toatsu Chem Inc | トリレンジイソシアナ−トの品質改良方法 |
JPS59172450A (ja) | 1983-03-18 | 1984-09-29 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 有機イソシアナ−トの品質改良方法 |
JPS61161250A (ja) | 1985-01-11 | 1986-07-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 有機イソシアナ−トの精製法 |
US4996351A (en) | 1987-01-27 | 1991-02-26 | The Dow Chemical Company | Process for reducing the quantity of hydrolyzable chlorides in isocyanates |
DD271820A3 (de) | 1987-12-29 | 1989-09-20 | Schwarzheide Synthesewerk Veb | Verfahren zur reinigung aromatischer rohrisocyanate |
DD288598A5 (de) | 1989-10-24 | 1991-04-04 | Veb Synthesewerk Schwarzheide,De | Verfahren zur reinigung organischer isocyanate von chlorhaltigen verbindungen |
DD288595A5 (de) | 1989-10-24 | 1991-04-04 | Veb Synthesewerk Schwarzheide,De | Reinigungsverfahren organischer isocyanate von hydrolysierbaren chlorverbindungen |
DD288597A5 (de) | 1989-10-24 | 1991-04-04 | Veb Synthesewerk Schwarzheide,De | Reinigungsverfahren organischer isocyanate von chlorverbindungen |
DD285593A5 (de) | 1989-10-24 | 1990-12-19 | Tu Dresden,Dd | Verfahren zur reinigung organischer isocyanate |
DD288594A5 (de) | 1989-10-24 | 1991-04-04 | Veb Synthesewerk Schwarzheide,De | Verfahren zur reinigung organischer isocyanate von hydrolysierbaren chlorverbindungen |
DD288596A5 (de) * | 1989-10-24 | 1991-04-04 | Veb Synthesewerk Schwarzheide,De | Verfahren zur reinigung organischer isocyanate von chlorverbindungen |
DD288599A5 (de) | 1989-10-24 | 1991-04-04 | Veb Synthesewerk Schwarzheide,De | Reinigungsverfahren organischer isocyanate von chlorhaltigen verbindungen |
DE4006976A1 (de) * | 1990-03-06 | 1991-09-12 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von mischungen aus diphenylmethan-diisocyanaten und polyphenyl-polymethylen-polyisocyanaten mit einer verminderten iodfarbzahl |
DE4006978A1 (de) * | 1990-03-06 | 1991-09-12 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von mischungen aus diphenylmethan-diisocyanaten und polyphenyl-polymethylen-polyisocyanaten mit einer verbesserten iodfarbzahl |
DE4124318A1 (de) | 1991-07-23 | 1993-01-28 | Bayer Ag | Verfahren zur reinigung von polyisocyanaten, die so gereinigten polyisocyanate und ihre verwendung |
JP3091979B2 (ja) | 1991-09-03 | 2000-09-25 | 昭和電工株式会社 | 有機イソシアナートの精製法 |
JP2988755B2 (ja) * | 1991-09-09 | 1999-12-13 | 住友バイエルウレタン株式会社 | 芳香族イソシアネート化合物の着色防止法 |
JP2951782B2 (ja) | 1991-12-17 | 1999-09-20 | 三井化学株式会社 | 4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートの製造方法 |
DE4208235A1 (de) * | 1992-03-14 | 1993-09-16 | Pfersee Chem Fab | Umsetzungsprodukte von phosphiten, chinonen und isocyanaten enthaltende zusammensetzungen |
JP3229710B2 (ja) | 1993-06-08 | 2001-11-19 | 三井化学株式会社 | 有機イソシアナート化合物の精製方法 |
JP2915784B2 (ja) | 1994-04-13 | 1999-07-05 | 昭和電工株式会社 | 脂肪族イソシアナートの精製方法 |
JPH0920744A (ja) * | 1995-07-04 | 1997-01-21 | Mitsui Toatsu Chem Inc | イソシアナート化合物の着色防止方法 |
JPH0920743A (ja) * | 1995-07-04 | 1997-01-21 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 有機イソシアナート化合物の着色防止方法 |
JP4443637B2 (ja) | 1996-06-05 | 2010-03-31 | 昭和電工株式会社 | イソシアナート化合物の精製方法 |
CA2227817A1 (en) * | 1997-01-30 | 1998-07-30 | Air Products And Chemicals, Inc. | Polyphosphoric acid as a stabilizer for polyurethane prepolymers |
-
1999
- 1999-03-30 DE DE19914291A patent/DE19914291A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-03-17 DE DE50005001T patent/DE50005001D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-17 ES ES00105352T patent/ES2211400T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-17 AT AT00105352T patent/ATE257821T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-03-17 EP EP00105352A patent/EP1046637B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-22 US US09/532,584 patent/US6391161B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-28 JP JP2000088455A patent/JP4753451B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1046637A3 (de) | 2002-06-19 |
EP1046637B1 (de) | 2004-01-14 |
ATE257821T1 (de) | 2004-01-15 |
DE19914291A1 (de) | 2000-10-05 |
DE50005001D1 (de) | 2004-02-19 |
US6391161B1 (en) | 2002-05-21 |
EP1046637A2 (de) | 2000-10-25 |
JP2000290243A (ja) | 2000-10-17 |
ES2211400T3 (es) | 2004-07-16 |
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A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |