JP4751316B2 - ナノ粒子を含有する多孔質無機材料またはマトリックス材料の製造方法 - Google Patents
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Description
(a)アンモニウム安定化ケイ酸溶液を形成し、
(b)前記溶液を凍結させ、
(c)プレートレットシリカ粒子を含有する廃液を融解し、前記プレートレットシリカ粒子を回収することを含む。
a)キャリヤ上に分離剤を蒸着して分離剤層を生成し、
b)分離剤層(a)上に材料と分離剤とを同時に蒸着し、
c)分離剤から材料を分離すること
を含む多孔質材料の製造方法により解決された。
−分離剤層、および
−2個の蒸発器、あるいはまた1個の蒸発器を用いて、同時に蒸着することにより材料に組み入れられる分離剤層上の望ましい量の材料と分離剤との混合層
を真空下、好ましくは10-1〜10-3Pa、より好ましくは1〜10-3Paで、PVD法による熱蒸発により順次蒸着する。
xは1〜8の整数であり、
Aは、キナクリドン、アントラキノン、ペリレン、インジゴ、キノフタロン、インダントロン、イソインドリノン、イソインドリン、ジオキサジン、アゾ、フタロシアニンまたはジケトピロロピロールシリーズの発色団の基であり、x個のB基に、窒素、酸素および硫黄よりなる群から選択され、A基の一部を形成するヘテロ原子1個以上により結合し、
Bは式
Lは溶解性を与えるのに適切な所望の基である)。
Y4およびY8は、互いに独立に、C1〜C6アルキル、酸素、硫黄またはN(Y12)2で中断されたC1〜C6アルキル、あるいは非置換またはC1〜C6アルキル−、C1〜C6アルコキシ−、ハロ−、シアノ−またはニトロ−置換されたフェニルまたはビフェニルであり、
Y5、Y6およびY7は、互いに独立に、水素またはC1〜C6アルキルであり、
Y9は、水素、C1〜C6アルキルまたは式
Y10およびY11は、互いに独立に、水素、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、N(Y12)2、あるいは非置換またはハロ−、シアノ−、ニトロ−、C1〜C6アルキル−またはC1〜C6アルコキシ−置換されたフェニルであり、
Y12およびY13は、C1〜C6アルキルであり、Y14は、水素またはC1〜C6アルキルであり、Y15は、水素、C1〜C6アルキル、あるいは非置換またはC1〜C6アルキル−置換されたフェニルであり、
Qは、非置換またはC1〜C6アルコキシ、C1〜C6アルキルチオまたはC2〜C12ジアルキルアミノによりモノ−もしくはポリ−置換された、p,q−C2〜C6アルキレン(式中、pおよびqは、異なる位置番号であり)であり、
Xは、窒素、酸素および硫黄よりなる群から選択されるヘテロ原子であり、Xが酸素または硫黄である場合、mは数0であり、Xが窒素である場合、mは数1であり、
L1およびL2は、互いに独立に、非置換のあるいはモノ−またはポリ−C1〜C12アルコキシ−、−C1〜C12アルキルチオ−、−C2〜C24ジアルキルアミノ−、−C6〜C12アリールオキシ−、−C6〜C12アリールチオ−、−C7〜C24アルキルアリールアミノ−もしくは−C12〜C24ジアリールアミノ−置換されたC1〜C6アルキルまたは[−(p’,q’−C2〜C6アルキレン)−Z−]n−C1〜C6アルキル(nは1〜1000の数であり、p’およびq’は異なる位置番号であり、各Zは、それぞれ他のいずれとも独立に、ヘテロ原子の酸素、硫黄またはC1〜C12アルキル置換された窒素であり、繰り返し単位[−C2〜C6アルキレン−Z−]中のC2〜C6アルキレンが同じまたは異なる可能性がある)であり、
L1およびL2は、飽和でも1〜10箇所不飽和でもよく、任意の位置に−(C=O)−および−C6H4−よりなる群から選択される1〜10個の基で中断されていても中断されていなくてもよく、さらなる置換基を持たなくてもよいか、ハロゲン、シアノおよびニトロよりなる群から選択されるさらなる置換基1〜10個を持っていてもよい]の基が好ましい。特に対象となるのは、LがC1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニルまたは
L1およびL2は、[−C2〜C12アルキレン−Z−]n−C1〜C12アルキル、またはC1〜C12アルコキシ、C1〜C12アルキルチオまたはC2〜C24ジアルキルアミノでモノ−もしくはポリ−置換されたC1〜C12アルキルであり、mおよびnは、前記定義のとおりである、式(I)の化合物である。
b)潜在性顔料をキャリヤ粒子上に沈殿させ、
c)続いて、潜在性顔料を顔料に転化すること(PCT/EP03/10968)
を含む方法が好ましい。
−TiO2層の厚さ、
−中間層の厚さ、および
−中間層の組成物
を介して調節することができる。
(a)金属、特にアルミニウムのコア、
(b)場合によりアルミニウムのコア上のSiOz層、および
(c)アルミニウムのコアまたはSiO層の上の多孔質SiOz層
(式中、0.70≦z≦2.0)を含む顔料、たとえば多孔質SiOz/Al/多孔質SiOz、多孔質SiOz/SiOz/Al/SiOz/多孔質SiOzが好ましく、ここで非対称の構造、たとえば多孔質SiOz/Al/SiOzまたはSiOz/Al/SiOz/多孔質SiOzはそれほど好ましくない。
(c1)多孔質SiOz層(厚さ=40〜60nm、特に約50nm)、
(b1)SiOz層(厚さ=20〜500nm)、
(a)アルミニウムコア(厚さ=40〜60nm、特に約50nm)、
(b2)SiOz層(厚さ=20〜500nm)および
(c2)多孔質SiOz層(厚さ=40〜60nm、特に約50nm)
(式中、1.40≦z≦2.0、特に2.0)を(この順序で)含む顔料が特に好ましく、ここで層(c1)および(c2)は染料または無機もしくは有機顔料、特に有機顔料を含有する。前記顔料は場合により低屈折率の材料、特にSiO2の保護層でコーティングされていてもよい。この顔料は、多孔質層に組み込まれた顔料の吸収および顔料の干渉色の組み合わせによりもたらされる、彩度が高いという特徴がある。
(a)多孔質SiOz層、
(b)SiOz層、および
(c)場合により多孔質SiOz層
(式中、0.70≦z≦2.0)を(この順序で)含み、湿式化学法により、高屈折率の金属酸化物、特にTiO2でコーティングするのが好ましい。すなわち、顔料のコアは多孔質SiOz/SiOzまたは多孔質SiOz/SiOz/多孔質SiOzフレークにより形成する。
a)(可動)キャリヤ上に分離剤を蒸着して分離剤層を生成し、
b)分離剤層上にSiOyと分離剤の混合層を蒸着し、
c)混合層上にSiOy層(式中、0.70≦y≦1.80)を蒸着し、
d)場合により、SiOy層上にSiOyと分離剤の混合層を蒸着し、
e)溶剤中で分離剤層を溶解し、次いで
f)溶剤から、得られた多孔質SiOz/SiOzフレークを分離すること
を含むPVD法により製造する。
粒子が、実質的に平行な2面を有しこの間の距離がコアの最も短い軸である、多孔質SiOz、多孔質SiOz/SiOz、SiOz/多孔質SiOz/SiOzまたは多孔質SiOz/SiOz/多孔質SiOz(式中、0.70≦z≦2.0、特に1.1≦z≦2.0、さらに特に1.4≦z≦2.0)のコアを有し、(a)半透明の金属薄層を含む、通常、長さ1μm〜5mm、幅1μm〜2mm、厚さ50nm〜1.5μm、長さ対厚さの比2:1以上である顔料、にも関する。
TiO2(基材:酸化ケイ素;層:TiO2、好ましくはルチル変性で)、(SnO2)TiO2、Fe2O3、Fe3O4、TiFe2O5、Cr2O3、ZrO2、Sn(Sb)O2、BiOCl、Al2O3、Ce2S3、MoS2、Fe2O3・TiO2(基材:酸化ケイ素;Fe2O3とTiO2の混合層)、TiO2/Fe2O3(基材:酸化ケイ素;第1層:TiO2;第2層:Fe2O3)、TiO2/ベルリンブルー、TiO2/Cr2O3、またはTiO2/FeTiO3。一般に、層厚さは1〜1000nm、好ましくは1〜300nmである。
(A)屈折率>1.65の被膜、
(B)屈折率≦1.65の被膜、
(C)屈折率>1.65の被膜および
(D)場合により外側保護層。
a)キャリヤ上に分離剤を蒸着して分離剤層を生成し、
b)次に、分離剤層(a)上にマトリックス材料とナノ粒子を形成する材料とを同時に蒸着し、
c)分離剤から材料を分離、特に溶剤中で分離剤を溶解することにより分離し、
d)場合により、ナノ粒子が装填されたマトリックス材料を溶剤から分離すること
を含む。
−皮膚表面および髪のクレンジング作用を有する有効成分:これは皮膚を洗浄する作用をなす全ての物質、たとえばオイル、石鹸、合成洗剤および固体の物質を含む;
−防臭および制汗作用を有する有効成分:これはアルミニウム塩または亜鉛塩を主成分とする制汗剤、殺菌性または静菌性防臭物質、たとえばトリクロサン、ヘキサクロロフェン、アルコールおよびカチオン物質、たとえば第四級アンモニウム塩を含む防臭剤、およびにおい吸収剤、たとえばGrillocin(登録商標)(亜鉛リシノレエートおよび種々の添加剤)またはクエン酸トリエチル(場合により酸化防止剤、たとえばブチルヒドロキシトルエンとの組合せ)またはイオン交換樹脂を含む;
−日光に対する保護を与える有効成分(UVフィルター):適切な有効成分は、日光から紫外線を吸収し熱に変換することができるフィルター物質(日焼け止め剤)である;望ましい作用によって次の光保護剤が好ましい:日焼けの原因となる約280〜315nmの範囲の高エネルギー紫外線を選択的に吸収する、たとえば315〜400nm(UV−A範囲)の長波長範囲を透過する光保護剤(UV−B吸収剤)、ならびに315〜400nmのUV−A範囲の長波長放射線だけを吸収する光保護剤(UV−A吸収剤);適切な光保護剤は、たとえば、p−アミノ安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ジフェニルアクリレート誘導体、ベンゾフラン誘導体、有機ケイ素基1個以上を含むポリマーUV吸収剤、桂皮酸誘導体、カンファー誘導体、トリアニリノ−s−トリアジン誘導体、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸およびこれらの塩、アントラニル酸メチル、ベンゾトリアゾール誘導体のクラスの中からの有機UV吸収剤、および/または酸化アルミニウムまたは二酸化ケイ素でコーティングされたTiO2、酸化亜鉛またはマイカから選択される無機ミクロ顔料(micropigment)である;
−虫に対する有効成分(駆除剤)は虫が皮膚に触れそこで活動するのを妨げるのを意図する薬剤である;これらは虫を追い払いゆっくり蒸発する;最も頻繁に用いられる駆除剤はジエチルトルアミド(DEET)である;他の一般的な駆除剤はたとえば"Pflegekosmetik"(W. Raab and U. Kindl, Gustav-Fischer-Verlag Stuttgart/New York, 1991) on page 161に見られる;
−化学的および機械的影響に対する保護用の有効成分:これらは皮膚と外部の有害な物質の間に防壁を形成する全ての物質、たとえば水溶液に対する保護用のパラフィン油、シリコーン油、植物油、PCL生成物およびラノリン、有機溶剤の影響に対する保護用のフィルム形成剤、たとえばアルギン酸ナトリウム、アルギン酸トリエタノールアミン、ポリアクリレート、ポリビニルアルコールもしくはセルロースエーテル、または皮膚上の激しい機械的応力に対する保護用「滑剤」として鉱油、植物油またはシリコーン油を主成分とする物質を含む;
−保湿物質:たとえば次の物質が湿分制御剤(保湿剤)として用いられる:乳酸ナトリウム、尿素、アルコール、ソルビトール、グリセロール、プロピレングリコール、コラーゲン、エラスチンおよびヒアルロン酸;
−ケラトプラスチック効果(keratoplastic effect)を有する有効成分:過酸化ベンゾイル、レチノイン酸、コロイド硫黄およびレゾルシノール;
−抗微生物剤、たとえばトリクロサンまたは第四級アンモニウム化合物;
−皮膚上に塗布することのできる油性または油溶性のビタミンまたはビタミン誘導体:たとえばビタミンA(遊離酸またはその誘導体の形態のレチノール)、パンテノール、パントテン酸、葉酸、およびこれらの組合せ、ビタミンE(トコフェロール)、ビタミンF;必須脂肪酸;またはナイアシンアミド(ニコチン酸アミド);
−ビタミンベース胎盤抽出物:特にビタミンA、C、E、B1、B2、B6、B12、葉酸およびビオチン、アミノ酸および酵素ならびに微量元素マグネシウム、ケイ素、リン、カルシウム、マンガン、鉄または銅の化合物を含む有効成分組成物;
−皮膚修復コンプレックス(skin repair complexe):ビフィズスグループバクテリアの培養物を不活性化し破壊して得られる;
−植物および植物抽出物:たとえばアルニカ、アロエ、バードライカン、アイビー、ネットル、朝鮮人参、ヘンナ、カモミール、マリゴールド、ローズマリー、セージ、つくしまたはタイム;
−動物抽出物:たとえばロイヤルゼリー、プロポリス、タンパク質または胸腺抽出物;
−皮膚上に塗布することのできる化粧品オイル:Miglyol 812タイプの中性オイル、杏仁油、アボカドオイル、ババス油、綿実油、ルリヂサオイル、アザミオイル、ラッカセイ油、γ−オリザノール(gamma-oryzanol)、ローズヒップ種子オイル、大麻油、ヘーゼルナッツ油、クロフサスグリの種子オイル、ホホバ油、サクランボの種オイル、サーモンオイル、アマニ油、コーン種子オイル、マカダミアナッツ油、アーモンドオイル、イブニングプリムローズオイル、ミンクオイル、オリーブ油、ピーカンナッツオイル、桃仁油、ピスタチオナッツ油、菜種油、稲種子オイル、ヒマシ油、ベニバナ油、ゴマ油、大豆油、ひまわり油、ティー・ツリー油、葡萄種子オイルまたは小麦麦芽オイル。
実施例1
真空チャンバー(<10-1Pa)内に配置された2個の別個のエバポレータにそれぞれ、SiOおよびNaCl粉末を供給した。アルミニウム箔を機械的に付けた回転キャリヤを、エバポレータの上に配置した。最初に、アルミニウム箔上にNaCl層(90nm)を昇華した。次に、SiOエバポレータを加熱し、塩をまだ昇華させながらSiOを昇華し始めた。この方法で、NaCl層上に塩およびSiOが同時に昇華した。塩およびSiOの同時蒸発を厚さが300nmに達するまで続けた。昇華をやめ、キャリヤのアルミニウム箔を取り外し、蒸留水に浸漬した。NaCl層ならびにSiOマトリックス中に含有される塩を水に溶解し、これにより酸化ケイ素フレークを得た。通常の精密検査によりSiOyが完全にSiO2に転化しなかった場合は、多孔質SiO2フレークは、酸化ケイ素フレークを空気中で500℃より高い温度で、数時間加熱することにより得ることができる。
真空チャンバーに、それぞれ自身のエネルギー供給を有するるつぼ2個を装着した。第1のるつぼにSiOを詰め、第2のるつぼにNaClを詰めた。材料の蒸発速度は、水晶共振器(水晶発振器)によって測定することができる。エバポレータは、フラップ弁によりステンレス鋼基材から隔てられる。
100ml丸底フラスコ中、N2下、実施例1で得た多孔質SiO2(BET=712m2/g)0.27g(4.49mmol)と、TiCl410.0 g(52.7mmol)とを混ぜ、マグネチックスターラを用いて室温で一晩(17h)攪拌し、これによりTiCl4は吸着水と反応してナノTiO2を形成した。TiCl4の過剰分を真空中で除去し、固体のかたまりをロータリーエバポレータ中、80℃、p=0.01mbarで乾燥した。干渉色を示す灰色粉末約0.3gを得た。
この実施例で用いた塗装配合物を、次の表に記載する。
a)金属パラジウムナノ粒子を含有する多孔質シリカの製造
キシレン5ml中で、実施例1で述べた方法と同様に得た多孔質SiO2(BET750m2/g)500mgと、加熱するとゆっくり分解する明確に定められたパラジウム錯体[(C6H4CH2NMe2−2)Pd(OAc)(PPh3)](WO03/13723に記載)53mgとを混合した。この混合物を激しく攪拌し、窒素雰囲気下加熱還流し、この温度で2時間保持した。この期間の間、反応混合物の色は黒色になった。室温に冷ました後、多孔質シリカをろ過により単離し、キシレンで1回、ジエチルエーテルで3回洗浄した。灰色シリカを真空で乾燥した。灰色有色多孔質シリカ506mgを得た。元素分析の結果、この材料はパラジウム1.75重量%を含有することが分かった(図2を参照、これはパラジウムが詰め込まれた多孔質SiO2フレークの極めて薄い部分である)。
3−ブロモアニソール190mg、フェニルボロン酸183mgおよび炭酸カリウム275mgをキシレン2ml中で混合した。ここに実施例5aからの触媒27mg(パラジウム0.5mol%に相当する)を加えた。反応混合物を攪拌し、窒素雰囲気下、130℃の温度に2時間の間加熱した。GC分析の結果、出発材料は全て消費され、3−メトキシビフェニルを選択的に形成した(転化率100%)ことが分かった。
四つ口フラスコ中、実施例1で述べた方法と同様に得た最大粒子サイズが40μmである多孔質SiO2(BET:660m2/g)0.600gを、水35mlに懸濁させ、攪拌しながら、オイルバスで65℃に加熱した。懸濁液のpHを1NのHClで1.4に制御した。次に、濃HClにより安定化したTiOCl2水溶液(Ti0.5%)24mlを、窒素雰囲気下、65℃で、8時間内に加えた。2NのNaOH水溶液をゆっくり加えることにより、pHを1.4で一定に保った。TiOCl2の添加が完了した後、懸濁液をさらに30分攪拌した。次に淡青色懸濁液を25℃に冷まし、20μmのふるいでろ過し、水およびメタノールで洗浄し、真空中、50℃で乾燥し、これにより淡青色生成物(BET:650m2/g)を得た。生成物のTiO2含量は約8.2重量%である。
硫酸(96%)60gに、C.I.ピグメントレッド179 500mgを室温で溶解し、1時間攪拌した。この暗紫色溶液部分に、実施例1で述べた方法と同様に得た多孔質SiO2フレーク(BET:700m2/g)500mgを攪拌しながら分けて加えた。次に懸濁液を2時間攪拌した。その後、攪拌しながら懸濁液に氷水60gをゆっくり加え、顔料は多孔質SiO2の気孔に沈殿し、強い赤色有色顔料を得た。脱イオン水1000mlを赤色懸濁液に加え、得られた懸濁液を30分間攪拌し、ろ過、水洗し、真空中で乾燥した。赤色複合顔料を得た。
1−メチル−2−ピロリドン(NMP)10gおよびエタノール(99%)25gからなる混合物に、
脱イオン水150ml中のFeCl3×6H2O 4gの希釈溶液に、実施例1で述べた方法と同様に得た多孔質SiO2フレーク(BET:700m2/g)500gを懸濁させ、50℃で6時間攪拌した。その後、水酸化ナトリウムの4%溶液を、暗褐色沈殿が生じるまで(pH3.5)、攪拌しながらゆっくり滴下した。懸濁液を12時間攪拌し、ろ過し、ろ過ケークを4%塩酸および脱イオン水1000gですすいだ。鮮黄色沈殿を最初室温で16時間、次に真空オーブン中、100℃(100hPa)で12時間乾燥した。鮮黄色複合顔料を得、これは場合により700〜850℃仮焼することができる。
Claims (10)
- 工程
a)キャリヤ上に分離剤を蒸着して分離剤層(a)を生成し、
b)分離剤層(a)上に材料と分離剤とを同時に蒸着し、
c)分離剤から材料を分離すること
を含み、
材料が、金属、金属酸化物または非金属酸化物であり、
分離剤層(a)が、ラッカー、ポリマー、水に可溶性かつ真空中で気化可能な無機塩、または有機溶剤もしくは水に可溶性かつ真空中で気化可能な有機物質であり、
工程b)の分離剤が、水に可溶性かつ真空中で気化可能な無機塩、または有機溶剤もしくは水に可溶性かつ真空中で気化可能な有機物質である、
多孔質プレート状構造の多孔質材料の製造方法。 - 材料が、SiOz(式中、0.70≦z≦2.0)である、請求項1記載の方法。
- 工程b)で、SiOy/分離剤層を、第1の蒸発器がSiとSiO2の混合物、SiOy(式中、0.70≦y≦1.8)またはこれらの混合物を含む装填材料を含有し、第2の蒸発器が分離剤を含む装填材料を含有する、2個の異なる蒸発器から蒸着する、請求項2記載の方法。
- 方法がさらなる工程、d)SiOyを酸素含有雰囲気中で加熱することによりSiOz(式中、1.40≦z≦2.0)に転化させるか、SiOyを無酸素雰囲気中で加熱することにより(1−(y/y+a))ケイ素を含有するSiOy+a(式中、0.70≦y≦1.8、0.05≦a≦1.30、yとaの合計が2以下である)に転化させることを含む、請求項3記載の方法。
- SiOz粒子に、ルチルまたはアナターセタイプのTiO2のナノ粒子を充填する工程、または、SiOz粒子に、スズをドープした酸化インジウム、SnO2、Sb2O3/SnO2、In2O3若しくはIn2O3/SnO2を詰め込む工程をさらに含む、請求項2記載の方法。
- 材料と分離剤との混合層の上に、金属または金属酸化物のさらなる層を付着し、さらなる層の上に材料と分離剤との混合層をさらに蒸着するおよび/または顔料の非対称の層構造の場合には材料と分離剤との混合層の前に金属または金属酸化物のさらなる層を付着する、請求項1記載の方法。
- 工程b)が、
b)分離剤層(a)上にSiOyと分離剤の混合層を蒸着すること、または
b)分離剤層(a)上にSiOyと分離剤の混合層を蒸着し、 c)混合層上にSiOy層(式中、0.70≦y≦1.80)を蒸着すること、または
b)分離剤層(a)上にSiOyと分離剤の混合層を蒸着し、 c)混合層上にSiOy層(式中、0.70≦y≦1.80)を蒸着し、 d)SiOy層上にSiOyと分離剤の混合層を蒸着すること、
を含む、請求項1または3記載の方法。 - 多孔質SiOz粒子、多孔質SiOz/SiOz粒子または多孔質SiOz/SiOz/多孔質SiOz粒子(式中、0.70≦z≦2.0)に対して、
1.65より高い屈折率の金属酸化物、または
SiCを含む層、または
炭素の層、または
半透明な金属層、または
不透明な金属層
を付着する工程をさらに含む、請求項7記載の方法。 - 多孔質SiOz層(式中、0.70≦z≦2.0)が、無機または有機着色剤を装填される、請求項8記載の方法。
- 多孔質SiOz粒子、多孔質SiOz/SiOz粒子または多孔質SiOz/SiOz/多孔質SiOz粒子(式中、0.70≦z≦2.0)に対して、
(A)屈折率>1.65の被膜、
(B)屈折率≦1.65の被膜および
(C)屈折率>1.65の被膜を付着する工程、または
(A)屈折率>1.65の被膜、
(B)屈折率≦1.65の被膜、
(C)屈折率>1.65の被膜および
(D)外側保護層を付着する工程
をさらに含む、請求項7記載の方法。
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