JP4730443B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、表示装置、タッチセンサ、および、表示装置の製造方法に関する。特に、凸状に突出している弾性部材が形成されると共に、その弾性部材上に電極が形成されている、表示装置、タッチセンサ、および、表示装置の製造方法に関する。

液晶表示装置，有機ＥＬ表示装置などの表示装置は、薄型、軽量、低消費電力といった利点を有する。

このような表示装置において、液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層が封入された液晶パネルを、表示パネルとして有している。液晶パネルは、たとえば、透過型であって、液晶パネルの背面に設けられたバックライトなどの照明装置が出射した照明光を、その液晶パネルが変調して透過させる。そして、その変調した照明光によって画像の表示が、液晶パネルの正面にて実施される。

この液晶パネルは、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、画素スイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が、複数形成されているＴＦＴアレイ基板を含む。そして、液晶パネルにおいては、そのＴＦＴアレイ基板に対向するように対向基板が配置されており、ＴＦＴアレイ基板および対向基板の間に液晶層が設けられている。このアクティブマトリクス方式の液晶パネルにおいては、画素スイッチング素子が画素電極に電位を入力することによって、液晶層に電圧を印加して、その画素を透過する光の透過率を制御することで、画像の表示が実施される。

上記のような表示装置においては、表示パネルの画面に表示されたアイコン等の画像を利用して、ユーザが操作データの入力を可能にするために、タッチパネルを表示パネル上に設けることが行われている。

しかし、タッチパネルを表示パネル上に、外付けによって設置した場合には、全体の厚みが厚くなり、薄型の利点が損なわれる場合がある。また、タッチパネルによって、表示領域において透過する光が減少する場合や、その光が干渉される場合があるために、表示画像の品質が低下する場合がある。さらに、製造効率の低下や、製造コストの上昇などの不具合が生ずる場合がある。

このため、タッチパネル機能が表示パネルに内蔵された表示装置が、提案されている。

たとえば、電極間の接触による電圧変化で読み出しを行う「接触式」等のタッチセンサを液晶パネルに内蔵した液晶表示装置が提案されている。

ここでは、液晶パネルを構成する一対の基板のそれぞれにタッチ電極が設けられており、液晶パネルが押されて変形したときに、その一対のタッチ電極が電気的に接続するように構成されている。この液晶パネルにおいては、小さな外圧によって一対のタッチ電極が電気的に接続するように、凸状に突出している弾性部材上にタッチ電極を設けている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照）。

特開２００１−７５０７４号公報 特開２００７−５２３６８号公報 特開２００７−９５０４４号公報

上記の表示装置では、表示パネルの薄型化に伴い、外圧によって、電極などの部材が破損する場合があり、装置の信頼性が低下する場合がある。

特に、タッチセンサが内蔵された液晶パネルにおいて、凸状に突出している弾性部材上に、剛体であるタッチ電極を設けた場合には、この不具合の発生が顕在化する場合がある。たとえば、タッチ電極が断線して、タッチパネル機能が損なわれる場合がある。

図３１は、タッチセンサが内蔵された液晶パネル２００Ｊの要部を示す断面図である。

図３１（ａ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１Ｊ上においては、凸状に突出している弾性部材２１１Ｊ上に第１タッチ電極２１２Ｊを設けられている。一方で、対向基板２０２Ｊ上においては、第２タッチ電極２２１Ｊが設けられている。

この場合において、図３１（ｂ）に示すように、対向基板２０２ＪがＴＦＴアレイ基板２０１の側へ押されて変形した場合には、第２タッチ電極２２１Ｊが、第１タッチ電極２１２Ｊに接触する。このとき、凸状の弾性部材２１１Ｊは、図３１（ｂ）に示すように、上面部分から側面部分に渡って変曲する部分が大きく変形する。このため、第１タッチ電極２１２Ｊにおいて、その弾性部材２１１Ｊの部分上に形成された部分が、その変形によって破断される場合がある。

よって、図３１（ｃ）に示すように、第１タッチ電極２１２Ｊが断線して、上述したような不具合が生ずる場合がある。

このような不具合を解消するために、凸状に突出している弾性部材においてタッチ電極を設ける面の面積を大きくすることが考えられるが、その場合には、液晶パネルの開口率が低下することになるので、表示画像の品質が低下する場合がある。

また、上記のタッチ電極の他に、画素電極についても破損が生じて、同様な不具合が生ずる場合がある。たとえば、半透過型の液晶パネルにおいて、凸状に突出している弾性部材上に、画素電極を形成する場合には、この不具合の発生が顕在化する場合がある。

このように、表示装置においては、開口率の低下に伴う画像品質の低下や、装置の信頼性の低下などの不具合が生ずる場合がある。

よって、本発明は、画像品質の向上、および、装置の信頼性の向上を実現可能な表示装置、タッチセンサ、および、表示装置の製造方法を提供する。

本発明の表示装置は、表示領域において画像を表示する表示パネルを具備しており、前記表示パネルは、凸状に突出している弾性部材と、前記弾性部材上に設けられている電極とが前記表示領域に形成されている基板を有し、前記弾性部材は、前記基板の面に垂直な方向に、複数の段が設けられており、前記電極は、前記複数の段の表面を被覆する部分を含むように前記弾性部材上に設けられている。

本発明の表示装置は、画像を表示する表示領域にタッチセンサが設けられている表示パネルを具備しており、前記表示パネルは、基板と、前記基板にスペースを隔てて対向している対向基板とを有し、前記タッチセンサは、前記基板において前記対向基板に対向する面に設けられている第１タッチ電極と、前記対向基板において前記基板に対向する面に前記第１タッチ電極からスペースを隔てて対面するように設けられている第２タッチ電極とを有し、前記表示パネルが外圧によって変形し、前記第１タッチ電極と前記第２タッチ電極とが接触するように構成されており、前記基板は、前記対向基板に対向する面上において、前記対向基板に対向する方向へ凸状に突出している弾性部材を含み、前記弾性部材は、前記対向基板へ対向する方向に複数の段が設けられており、前記第１タッチ電極は、前記弾性部材において複数の段の表面を被覆する部分を含むように、前記弾性部材にて前記対向基板に対向する面上に設けられている。

本発明のタッチセンサは、基板と、前記基板に対向するように配置された対向基板とを有し、前記基板は、前記対向基板に対向する面上において、前記対向基板に対向する方向へ凸状に突出している弾性部材と、前記弾性部材にて前記対向基板に対向する面上に設けられている第１タッチ電極とを含み、前記対向基板は、前記基板に対向する面において前記第１タッチ電極からスペースを隔てて対面するように設けられている第２タッチ電極を含み、前記基板と前記対向基板との少なくとも一方が外圧によって変形し、前記第１タッチ電極と前記第２タッチ電極とが接触するように構成されており、前記弾性部材は、前記対向基板へ対向する方向に複数の段が設けられており、前記第１タッチ電極は、前記弾性部材において複数の段の表面を被覆する部分を含むように、前記弾性部材上に設けられている。

本発明の表示装置の製造方法は、表示領域において画像を表示する表示パネルを製造する工程を含み、前記表示パネルを製造する工程は、凸状に突出している弾性部材を基板に形成する弾性部材形成工程と、前記弾性部材上に電極を形成する電極形成工程とを具備しており、前記弾性部材形成工程においては、前記基板の面に垂直な方向に、複数の段を設けるように、前記弾性部材を形成し、前記電極形成工程においては、前記弾性部材において複数の段の表面を被覆するように、前記弾性部材上に前記電極を設ける。

本発明においては、凸状に突出している弾性部材を基板に形成する。ここでは、基板の面に垂直な方向に、複数の段を設けるように、この弾性部材を形成する。つまり、最も高い第１の高さで形成された第１段と、その第１の高さよりも低い第２の高さで形成された第２段とを含むように、弾性部材を形成する。そして、その弾性部材上に電極を形成する。ここでは、弾性部材において複数の段の表面を被覆するように、その弾性部材上に、その電極を設ける。つまり、電極が弾性部材上において第１段と第２段との表面を被覆する部分を含むように弾性部材上に電極を設ける。このため、電極の上方から外圧が加えられた場合に、弾性部材が大きく変形することを防止できる。よって、電極が断線することを防止できる。

本発明によれば、画像品質の向上、および、装置の信頼性の向上を実現可能な表示装置、タッチセンサ、および、表示装置の製造方法を提供することができる。

図１は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００の構成を示す断面図である。 図２は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００を示す平面図である。 図３は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００の要部を示す図である。 図４は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００の要部を示す図である。 図５は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００の要部を示す図である。 図６は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００の要部を示す図である。 図７は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００を動作させる際に、制御部４０１が、各部に供給する制御信号の波形図である。 図８は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００において、被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した際の様子を示す断面図である。 図９は、本発明にかかる実施形態１において、弾性部材６３を形成する工程を示す断面図である。 図１０は、本発明の実施形態２にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｂの部分を拡大して示す図である。 図１１は、本発明にかかる実施形態２において、弾性部材６３ｂを形成する工程を示す断面図である。 図１２は、本発明の実施形態３において、弾性部材６３ｂの段差部分における変形量を示す図である。 図１３は、本発明の実施形態３にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｃの部分を拡大して示す図である。 図１４は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材６３ｃを形成する工程を示す断面図である。 図１５は、本発明の実施形態４にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｄの部分を拡大して示す図である。 図１６は、本発明にかかる実施形態４において、弾性部材６３ｄを形成する工程を示す断面図である。 図１７は、本発明の実施形態５にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｅの部分を拡大して示す図である。 図１８は、本発明の実施形態５の変形例にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｅｂの部分を拡大して示す図である。 図１９は、本発明にかかる実施形態６において、弾性部材６３を形成する工程を示す断面図である。 図２０は、本発明の実施形態にかかる液晶表示装置において、弾性部材の部分を拡大して示す図である。 図２１は、本発明にかかる実施形態において、弾性部材６３と各スペーサＳＰ，ＳＰＬとを形成する工程を示す断面図である。 図２２は、本発明の実施形態にかかる液晶パネルにおいて、表示領域に設けられた画素の概略を模式的に示す断面図である。 図２３は、本発明の実施形態にかかる液晶パネルにおいて、弾性部材６３ｆの上面図である。 図２４は、本発明の実施形態にかかる液晶パネルにおいて、表示領域ＰＡに設けられた画素Ｐの概略を模式的に示す断面図である。 図２５は、本発明にかかる実施形態において、弾性部材を示す断面図である。 図２６は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置を適用した電子機器を示す図である。 図２７は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置を適用した電子機器を示す図である。 図２８は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置を適用した電子機器を示す図である。 図２９は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置を適用した電子機器を示す図である。 図３０は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置を適用した電子機器を示す図である。 図３１は、タッチセンサが内蔵された液晶パネル２００Ｊの要部を示す断面図である。

本発明にかかる実施形態の一例について説明する。

説明は、下記の手順で行う。
１．実施形態１（弾性部材の低い段の位置が上面において端部にある場合）
２．実施形態２（弾性部材の低い段の位置が上面において中央にある場合）
３．実施形態３（弾性部材の低い段の平面形状が三角形の場合）
４．実施形態４（弾性部材が３段の場合）
５．実施形態５（弾性部材の複数の段が、コンタクトの周囲に設けられている場合）
６．実施形態６（弾性部材の複数の段のそれぞれを複数の部材を積層して設ける場合）
７．変形例

＜１．実施形態１（弾性部材が２段の場合）＞
（液晶表示装置の構成）
図１は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００の構成を示す断面図である。

本実施形態の液晶表示装置１００は、図１に示すように、液晶パネル２００と、バックライト３００と、データ処理部４００とを有する。各部について順次説明する。

液晶パネル２００は、アクティブマトリクス方式であり、図１に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２と液晶層２０３とを有する。液晶パネル２００においては、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とが、互いにスペースを隔てて対向している。そして、そのＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間に挟まれるように、液晶層２０３が設けられている。

液晶パネル２００は、図１に示すように、液晶パネル２００を構成するＴＦＴアレイ基板２０１において、対向基板２０２に対向する面に対して反対側の面には、第１の偏光板２０６が配置されている。そして、対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に対向する面に対して反対側の面には、第２の偏光板２０７が配置されている。

そして、液晶パネル２００においては、ＴＦＴアレイ基板２０１の側に、バックライト３００が配置されており、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面している面に対して反対側の面に、バックライト３００から出射された照明光Ｒが照射される。

この液晶パネル２００は、複数の画素（図示無し）が配置されている表示領域ＰＡを含む。この表示領域ＰＡにおいては、液晶パネル２００の背面側に設置されたバックライト３００が出射した照明光Ｒを、第１の偏光板２０６を介して背面から受け、その背面から受けた照明光Ｒを、その表示領域ＰＡにおいて変調する。

ここでは、ＴＦＴアレイ基板２０１において画素に対応するように、複数のＴＦＴが画素スイッチング素子（図示無し）として設けられており、その画素スイッチング素子が制御されることによって、背面から受けた照明光を変調する。そして、その変調された照明光Ｒが、第２の偏光板２０７を介して、正面側に出射し、表示領域ＰＡにおいて画像が表示される。たとえば、液晶パネル２００の正面の側においてカラー画像が表示される。つまり、液晶パネル２００は、透過型である。

また、詳細については後述するが、本実施形態においては、この液晶パネル２００は、電極間の接触による電圧変化で読み出しを行う「接触式」のタッチセンサ（図示なし）が形成されている。このタッチセンサは、液晶パネル２００においてバックライト３００が設置された背面に対して反対側となる正面に、ユーザーの指などの被検知体Ｆが接触した位置に応じて異なる電位の信号を出力するように構成されている。

バックライト３００は、図１に示すように、液晶パネル２００の背面に対面しており、その液晶パネル２００の表示領域ＰＡに照明光Ｒを出射する。

具体的には、バックライト３００は、液晶パネル２００を構成するＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とにおいて、ＴＦＴアレイ基板２０１の側に位置するように配置されている。そして、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面している面に対して反対側の面に、照明光Ｒを照射する。つまり、バックライト３００は、ＴＦＴアレイ基板２０１の側から対向基板２０２の側へ向かうように照明光Ｒを照明する。ここでは、バックライト３００は、液晶パネル２００の面の法線方向ｚに沿うように照明光Ｒを出射する。

データ処理部４００は、図１に示すように、制御部４０１と、位置検出部４０２とを有する。データ処理部４００は、コンピュータを含み、プログラムによってコンピュータが各部として動作するように構成されている。

データ処理部４００の制御部４０１は、液晶パネル２００とバックライト３００との動作を制御するように構成されている。制御部４０１は、液晶パネル２００に制御信号を供給することによって、液晶パネル２００に複数設けられた画素スイッチング素子（図示無し）の動作を制御する。たとえば、線順次駆動を実行させる。また、制御部４０１は、バックライト３００に制御信号を供給することによって、バックライト３００の動作を制御し、バックライト３００から照明光Ｒを照射する。このように、制御部４０１は、液晶パネル２００とバックライト３００との動作を制御することによって、液晶パネル２００の表示領域ＰＡに画像を表示する。

このほかに、制御部４０１は、液晶パネル２００に制御信号を供給することによって、液晶パネル２００に設けられたタッチセンサの動作を制御し、そのタッチセンサからデータを収集する。

データ処理部４００の位置検出部４０２は、液晶パネル２００の正面側において、表示領域ＰＡに接触した人体の指などの被検知体Ｆの位置を検出するように構成されている。本実施形態においては、位置検出部４０２は、液晶パネル２００に設けられたタッチセンサ素子（図示無し）から得たデータに基づいて、位置の検出を実施する。

（液晶パネルの全体構成）
液晶パネル２００の全体構成について説明する。

図２は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００を示す平面図である。

図２に示すように、液晶パネル２００は、表示領域ＰＡと、周辺領域ＣＡとを有する。

液晶パネル２００において表示領域ＰＡには、図２に示すように、複数の画素Ｐが面に沿って配置されている。具体的には、表示領域ＰＡにおいては、複数の画素Ｐが水平方向ｘと垂直方向ｙとのそれぞれにマトリクス状に並ぶように配置されており、画像が表示される。詳細については後述するが、画素Ｐは、画素スイッチング素子（図示無し）を含む。そして、この複数の画素Ｐに対応するように、複数のタッチセンサ（図示無し）が設けられている。

液晶パネル２００において周辺領域ＣＡは、図２に示すように、表示領域ＰＡの周辺を囲うように位置している。この周辺領域ＣＡにおいては、図２に示すように、垂直駆動回路１１と、水平駆動回路１２とが形成されている。たとえば、上記の画素スイッチング素子（図示無し）などと同様にして形成された半導体素子によって、この各回路が構成されている。

そして、画素Ｐに対応するように設けられた画素スイッチング素子を、垂直駆動回路１１および水平駆動回路１２が駆動し、表示領域ＰＡにおいて画像表示を実行する。

また、これと共に、表示領域ＰＡに設けられたタッチセンサ（図示なし）を、垂直駆動回路１１および水平駆動回路１２が駆動し、タッチセンサからデータの取得を実行する。そして、液晶パネル２００の表示領域ＰＡにユーザーの指などの被検知体が接触した位置を、そのタッチセンサから取得したデータに基づいて、位置検出部４０２が検出する。

（液晶パネルの詳細構成）
液晶パネル２００の詳細な構成について説明する。

図３から図６は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００の要部を示す図である。

ここで、図３と図４は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００において、表示領域ＰＡに設けられた画素Ｐの概略を模式的に示す断面図である。

また、図５は、本発明にかかる実施形態１において、液晶パネル２００の表示領域ＰＡに設けられた画素Ｐの概略を模式的に示す上面図である。図５において、（ａ）は、画素Ｐの全体を示しており、（ｂ）は、画素Ｐ内に設けられた弾性部材６３を拡大して示している。なお、図３は、図５のＸ１−Ｘ２部分について示している。また、図４は、図５のＹ１−Ｙ２部分について示している。

そして、図６は、本発明の実施形態１にかかる液晶パネル２００において、表示領域ＰＡに設けられた画素Ｐの概略を示す回路図である。

画素Ｐは、赤と緑と青の３原色のサブ画素が１組となって形成されているが、ここでは、一のサブ画素の要部に関して説明する。

液晶パネル２００は、図３と図４とに示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間には、スペーサＳＰが介在しており、シール材（図示無し）で貼り合わされている。そして、そのＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間には、液晶層２０３が封入されている。

また、本実施形態においては、図３と図４と図５とに示すように、液晶パネル２００は、タッチセンサＳＷｓが内蔵されている。このタッチセンサＳＷｓは、図３と図４と図５とに示すように、一対のタッチ電極６２ｔ，２５によって構成されている。

液晶パネル２００を構成する各部について説明する。

ＴＦＴアレイ基板２０１について下記に示す。

ＴＦＴアレイ基板２０１は、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。このＴＦＴアレイ基板２０１においては、図３と図４とに示すように、対向基板２０２に対向する側の面に、画素スイッチング素子３１と、画素電極６２ｐと、タッチセンサＳＷｓを構成する一方のタッチ電極６２ｔとが形成されている。

ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられた各部について示す。

ＴＦＴアレイ基板２０１において、画素スイッチング素子３１は、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１にて対向基板２０２に対向する側の面に設けられている。画素スイッチング素子３１は、ゲート電極４５と、ゲート絶縁膜４６ｇと、半導体層４８とを含み、たとえば、ボトムゲート型ＴＦＴとして形成されている。

画素スイッチング素子３１において、ゲート電極４５は、図３，図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１上に形成されている。そして、ゲート電極４５は、図６に示すように、ゲート線ＧＬに電気的に接続されている。

ここでは、図３，図４，図５に示すように、ゲート線ＧＬは、ｘ方向に沿うように、延在しており、ゲート電極４５は、このゲート線ＧＬと一体になるように形成されている。たとえば、ゲート電極４５およびゲート線ＧＬは、モリブデンなどの金属材料を用いて形成されている。

また、ゲート線ＧＬは、図６に示すように、垂直駆動回路１１に電気的に接続されており、ゲート電極４５は、垂直駆動回路１１からゲート線ＧＬを介して、走査信号Ｖｇａｔｅが垂直駆動回路１１から供給される。

画素スイッチング素子３１において、ゲート絶縁膜４６ｇは、図３，図４に示すように、ゲート電極４５上に設けられている。このゲート絶縁膜４６ｇは、たとえば、シリコン酸化膜などの絶縁材料を用いて形成されている。

画素スイッチング素子３１において、半導体層４８は、図３，図４に示すように、ゲート絶縁膜４６ｇを介してゲート電極４５に対面する部分を含むように形成されている。たとえば、半導体層４８は、ポリシリコンなどの半導体材料を用いて形成されている。この半導体層４８においては、ゲート絶縁膜４６ｇを介してゲート電極４５が対面するチャネル形成領域（図示なし）を挟むように、ソース・ドレイン領域（図示なし）が一対で形成されている。

そして、半導体層４８において、一方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、図６に示すように、信号線ＳＬに電気的に接続されている。

ここでは、信号線ＳＬは、図３に示すように、画素スイッチング素子３１を被覆するようにＴＦＴアレイ基板２０１上に形成された層間絶縁膜Ｓｚ内に設けられている。この信号線ＳＬは、図５に示すように、ｙ方向に延在するように形成されている。そして、層間絶縁膜Ｓｚ内に設けられた導電層（図示なし）を介して、上記の一方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、信号線ＳＬに電気的に接続されている。

なお、信号線ＳＬは、図６に示すように、画素スイッチング素子３１に接続された側に対して反対側においては、水平駆動回路１２に電気的に接続するように構成されている。本実施形態では、水平駆動回路１２は、書き込み回路ＷＣと、読み出し回路ＲＣとを含む。信号線ＳＬは、書き込み回路ＷＣとの間に、スイッチＳＷｗが介在しており、スイッチＳＷｗがオン状態になったときに、書き込み回路ＷＣに電気的に接続する。また、信号線ＳＬは、読み出し回路ＲＣとの間に、スイッチＳＷｒが介在しており、スイッチＳＷｒがオン状態になったときに、読み出し回路ＲＣに電気的に接続する。詳細については後述するが、この２つのスイッチＳＷｗ，ＳＷｒは、差動的に動作し、同時にオン状態にならないように、動作が制御される。このため、スイッチＳＷｗがオン状態にされたときには、信号線ＳＬは、書き込み回路ＷＣに電気的に接続し、書き込み回路ＷＣからライト信号（ＷＲＩＲＨＴ）が供給される。そして、スイッチＳＷｒがオン状態になったときには、信号線ＳＬは、読み出し回路ＲＣに電気的に接続し、読み出し回路ＲＣからリード信号（ＲＥＡＤ）が供給される。

一方で、半導体層４８において、他方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、図６に示すように、画素電極６２ｐに電気的に接続されている。また、これと共に、半導体層４８において、他方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、図６に示すように、タッチセンサＳｗｓを構成する一対のタッチ電極２５，６２ｔのうち、一方のタッチ電極６２ｔに電気的に接続されている。

詳細については後述するが、図４に示すように、画素電極６２ｐと一方のタッチ電極６２ｔとは、ＴＦＴアレイ基板２０１の層間絶縁膜Ｓｚ上において、一体的に形成されている。このため、他方のソース・ドレイン領域（図示なし）は、この層間絶縁膜Ｓｚ内に設けられたコンタクト（図示なし）を介して、画素電極６２ｐと一方のタッチ電極６２ｔとのそれぞれに電気的に接続されている。

ＴＦＴアレイ基板２０１において、画素電極６２ｐとタッチ電極６２ｔとのそれぞれは、図３と図４とに示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１にて対向基板２０２に対面する面上に、層間絶縁膜Ｓｚを介して設けられている。画素電極６２ｐとタッチ電極６２ｔのそれぞれは、いわゆる透明電極であって、たとえば、ＩＴＯを用いて形成されている。そして、画素電極６２ｐとタッチ電極６２ｔのそれぞれは、一体になるように形成されており、互いに電気的に接続している。

ここでは、画素電極６２ｐは、図５に示すように、ｘｙ面において、ゲート線ＧＬと信号線ＳＬとによって区画される領域に対応するように、矩形パターンで形成されている。

そして、この画素電極６２ｐは、図６に示すように、画素スイッチング素子３１の一方の端子に電気的に接続されており、液晶層２０３に電位を与えるように構成されている。

これに対して、タッチ電極６２ｔは、図５に示すように、ｘｙ面において、矩形形状であるが、画素電極６２ｐよりも、ｘ方向における幅が、狭くなるように形成されている。そして、このタッチ電極６２ｔは、図３と図４とに示すように、弾性部材６３の表面を被覆するように設けられている。

図３と図４とに示すように、弾性部材６３は、ゲート線ＧＬの上方において、層間絶縁膜Ｓｚを介在して設けられている。たとえば、弾性部材６３は、アクリル系樹脂を用いて形成されている。そして、弾性部材６３は、この層間絶縁膜Ｓｚ上において、対向基板２０２へ向かう方向へ、凸状に突出するように設けられている。ここでは、図３に示すように、弾性部材６３は、セルギャップを保持するスペーサＳＰよりも、高さが低くなるように形成されている。

本実施形態においては、弾性部材６３は、図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面に垂直なｚ方向に、複数の段が設けられている。

具体的には、弾性部材６３は、図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面上において、第１の高さＨ１になるように形成された第１段Ｄ１と、その第１の高さＨ１よりも低い第２の高さＨ２で形成された第２段Ｄ２とを含む。

ここでは、図５（ｂ）に示すように、弾性部材６３の第１段Ｄ１は、ｘｙ面において、ｘ方向に延在する面Ｄ１ａと、そのｘ方向に延在する面の両端部から上方へ延在する面Ｄ１ｂとを含んでおり、ｘｙ面での平面形状が、コの字状になるように形成されている。また、弾性部材６３の第２段Ｄ２は、ｘｙ面において、ｘ方向に延在する矩形状の面Ｄ２ａを含み、この面Ｄ２ａが、第１段Ｄ１の各面Ｄ１ａ，Ｄ１ｂに囲われている。

ここでは、弾性部材６３においては、図５（ｂ）に示すように、高い第１段Ｄ１の面積が、低い第２段Ｄ２の面積よりも広くなるように形成されている。

そして、図４に示すように、タッチ電極６２ｔは、この弾性部材６３に設けられた複数の段の表面を被覆する部分を含むように、弾性部材６３の上に形成されている。具体的には、タッチ電極６２ｔは、この弾性部材６３上において、第１段Ｄ１と第２段Ｄ２との表面を被覆する部分を含むように設けられており、画素電極６２ｐと一体になるように形成されている。ここでは、図４に示すように、タッチ電極６２ｔは、弾性部材６３において、画素電極６２ｐが設けられている側面とは反対側の側面を被覆しないように形成されている。

このタッチ電極６２ｔは、図６に示すように、スイッチであるタッチセンサＳＷｓの一方の端子として機能するように、構成されている。

この他に、ＴＦＴアレイ基板２０１においては、図３と図４とに示すように、液晶配向膜ＨＭ１が画素電極６２ｐ上に設けられている。

本実施形態においては、この液晶配向膜ＨＭ１は、タッチ電極６２ｔの表面が露出するように形成されている。たとえば、この液晶配向膜ＨＭ１は、ポリイミドによって形成されている。

対向基板２０２について下記に示す。

対向基板２０２は、ＴＦＴアレイ基板２０１と同様に、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。この対向基板２０２は、図３と図４とに示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１に対してスペースを隔てて、対向している。そして、対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に対応する面においては、図３と図４とに示すように、カラーフィルタ層２１と、対向電極２３と、タッチ電極２５とが形成されている。

対向基板２０２に設けられた各部について示す。

対向基板２０２において、カラーフィルタ層２１は、図３と図４とに示すように、対向基板２０２にてＴＦＴアレイ基板２０１に対向する側の面に形成されている。図示を省略しているが、カラーフィルタ層２１は、赤と緑と青の３原色のフィルタを１組として画素Ｐごとに設けられており、それぞれの色が、ｘ方向に並ぶように形成されている。カラーフィルタ層２１は、たとえば、顔料や染料などの着色剤を含有するポリイミド樹脂を用いて形成されている。このカラーフィルタ層２１においては、バックライト３００から照射された白色光が着色されて出射される。

そして、カラーフィルタ層２１の周囲においては、図４に示すように、各色のカラーフィルタ層２１を区画するように、ブラックマトリクス層２１Ｋが設けられている。このブラックマトリクス層２１Ｋは、たとえば、黒色の顔料を含んだ樹脂層によって形成されており、光を遮光する。

そして、カラーフィルタ層２１とブラックマトリクス層２１Ｋとのそれぞれにおいては、図３と図４とに示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１に対向する側の面に、平坦化膜２２が被覆されている。この平坦化膜２２は、光透過性の絶縁材料によって形成されており、対向基板２０２にてＴＦＴアレイ基板２０１に対面する面側を平坦化している。

対向基板２０２において、対向電極２３は、図３と図４とに示すように、対向基板２０２にてＴＦＴアレイ基板２０１に対面する側の面に形成されている。ここで、対向電極２３は、平坦化膜２２を被覆するように形成されている。対向電極２３は、いわゆる透明電極であって、たとえば、ＩＴＯを用いて形成されている。そして、対向電極２３は、図６に示すように、Ｖｃｏｍ線ＣＬに電気的に接続されており、共通電位が印加される。つまり、対向電極２３は、表示領域ＰＡにおいて、複数の画素Ｐに対応するように形成された複数の画素電極６２ｐのそれぞれに対向しており、各画素Ｐにおいて共通な共通電極として機能するように構成されている。

そして、対向電極２３上においては、図３と図４とに示すように、液晶配向膜ＨＭ２が設けられている。ここでは、対向電極２３の表面全面を被覆するように、液晶配向膜ＨＭ２が設けられている。たとえば、液晶配向膜ＨＭ２は、ポリイミドによって形成されている。

対向基板２０２において、タッチ電極２５は、図４に示すように、液晶配向膜ＨＭ２上に設けられている。タッチ電極２５は、対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられた弾性部材６３に対向する部分に設けられている。

そして、このタッチ電極２５は、図６に示すように、Ｖｃｏｍ線ＣＬに電気的に接続されている。ここでは、図５に示すように、Ｖｃｏｍ線ＣＬは、ゲート線ＧＬの上方において、ｘ方向に沿うように延在しており、タッチ電極２５は、このＶｃｏｍ線ＣＬと一体になるように形成されている。

また、このタッチ電極２５は、図４，図５，図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられたタッチ電極６２ｔと共に、タッチセンサＳＷｓとして機能するように構成されている。

具体的には、タッチセンサＳＷｓは、図６に示すように、制御端子がない２端子のスイッチであり、等価回路上において、液晶層２０３を誘電体としたキャパシタに対して、並列になるように設けられている。そして、タッチセンサＳＷｓは、たとえば、人の指が対向基板２０２を押して変形させて、一対のタッチ電極６２ｔ，２５のそれぞれが接触することで、オン状態になるように構成されている。

液晶層２０３について示す。

液晶層２０３は、図３と図４とに示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間にて挟持されている。

ここでは、液晶層２０３は、ＴＦＴアレイ基板２０１に形成された液晶配向膜ＨＭ１と、対向基板２０２に形成された液晶配向膜ＨＭ２とによって、液晶分子（図示なし）が配向されている。たとえば、液晶分子が垂直配向するように液晶層２０３が形成されている。

この液晶層２０３は、図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１の画素電極６２ｐと、対向基板２０２の対向電極２３とによって、キャパシタを構成している。

（動作）
以下より、上記の液晶表示装置１００において、ユーザーの指などの被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した位置を検出する際の動作について説明する。

図７は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００を動作させる際に、制御部４０１が、各部に供給する制御信号の波形図である。図７において、（Ａ）は、ゲート線ＧＬに供給する走査信号（Ｖｇａｔｅ）を示している。（Ｂ）は、信号線ＳＬに供給するデータ信号（Ｖｓｉｇ）を示している。（Ｃ）は、Ｖｃｏｍ線ＣＬに供給する共通電圧（Ｖｃｏｍ）の波形図である。（Ｄ）は、スイッチＳＷｗに供給するライト信号（Ｗｒｉｔｅ）を示している。（Ｅ）は、スイッチＳＷｒに供給するリード信号（Ｒｅａｄ）を示している。

まず、Ｔ１においては、図７の（Ｂ）と（Ｄ）とに示すように、データ信号（Ｖｓｉｇ）とライト信号（Ｗｒｉｔｅ）とが、ローレベルからハイレベルになる。このため、ハイレベルのライト信号（Ｗｒｉｔｅ）によって、スイッチＳＷｗがオンになり、ハイレベルのデータ信号（Ｖｓｉｇ）が、スイッチＳＷｗを介して、書き込み回路ＷＣから信号線ＳＬへ供給される（図５参照）。

つぎに、Ｔ２においては、図７の（Ｄ）に示すように、ライト信号（Ｗｒｉｔｅ）がローレベルになって、スイッチＳＷｗがオフになり、信号線ＳＬが、フローティング状態になる。この状態で、Ｔ２においては、図７の（Ａ）に示すように、走査信号（Ｖｇａｔｅ）が、ローレベルからハイレベルになる。このため、画素スイッチング素子３１のゲートがオン状態になり、画素スイッチング素子３１においては、チャネルが形成されて、データ信号（Ｖｓｉｇ）の電荷の放電経路が生ずる（図５参照）。

このとき、タッチセンサＳＷｓがオン状態にされた場合には、大きな容量のＶｃｏｍ線ＣＬに、フローティング状態の信号線ＳＬの電荷が放電される。このため、図７の（Ｂ）にて実線で示すように、データ信号（Ｖｓｉｇ）の電位が、大きく低下する。

一方で、タッチセンサＳＷｓがオフ状態である場合には、図７の（Ｂ）にて破線で示すように、データ信号（Ｖｓｉｇ）の電位は、ほぼ保持されて、変化が少ない。

つぎに、Ｔ３においては、図７の（Ｅ）に示すように、リード信号（Ｒｅａｄ）が、ローレベルからハイレベルになる。このため、ハイレベルのリード信号（Ｒｅａｄ）によって、スイッチＳＷｒがオンになり、データ信号（Ｖｓｉｇ）が、スイッチＳＷｒを介して、信号線ＳＬから読み出し回路ＲＣへ読み出される（図５参照）。

ここで、タッチセンサＳＷｓがオン状態である場合には、図７の（Ｂ）にて実線で示したように、低い電位のデータ信号（Ｖｓｉｇ）が読み出される。一方で、タッチセンサＳＷｓがオフ状態である場合には、図７の（Ｂ）にて破線で示したように、高い電位のデータ信号（Ｖｓｉｇ）が読み出される。

そして、このとき、この読み出したデータ信号（Ｖｓｉｇ）の電位に基づいて、データ処理部４００の位置検出部４０２（図１参照）が、位置検出を行う。

具体的には、位置検出部４０２は、読み出したデータ信号（Ｖｓｉｇ）の電位と参照電位との比較処理を実行し、参照電位よりも大きい場合には、タッチセンサＳＷｓがオフ状態であると判断する。一方で、読み出したデータ信号（Ｖｓｉｇ）の電位が、参照電位に対して小さい場合には、タッチセンサＳＷｓがオン状態であると判断する。そして、位置検出部４０２は、タッチセンサＳＷｓがオン状態であると判断した画素Ｐの位置を、指などの被検知体Ｆが接触した位置として検出する。

つまり、位置検出部４０２は、タッチセンサＳＷｓがオン状態の場合と、オフ状態の場合との間において、変化する電位に基づいて、液晶パネル２００にて、指などの被検知体Ｆが接触した位置を検出する。

つぎに、Ｔ４においては、図７の（Ｅ）に示すように、リード信号（Ｒｅａｄ）を、ローレベルにし、スイッチＳＷｒをオフ状態にする。そして、ライト信号（Ｗｒｉｔｅ）を、ローレベルからハイレベルとして、スイッチＳＷｗをオン状態にすると共に、信号線ＳＬにハイレベルのデータ信号（Ｖｓｉｇ）を印加する。その後、共通電圧Ｖｃｏｍの電位を反転して、表示の制御を続行する。

図８は、本発明の実施形態１にかかる液晶表示装置１００において、被検知体Ｆが液晶パネル２００の表示領域ＰＡに接触した際の様子を示す断面図である。図８では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。

図８に示すように、対向基板２０２において液晶層２０３とは反対側の面に被検知体Ｆが接触して、対向基板２０２が押された場合には、対向基板２０２が変形してＴＦＴアレイ基板２０１の側へ移動する。このとき、この対向基板２０２の変形に伴って、対向基板２０２において液晶層２０３側の面に設けられたタッチ電極２５が、ＴＦＴアレイ基板２０１の側へ移動される。そして、このタッチ電極２５は、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられたタッチ電極６２ｔに接触する。このように、対向基板２０２に設けられたタッチ電極２５が、ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられたタッチ電極６２ｔに接触することで、タッチセンサＳＷｓがオン状態になる。

図８に示すように、一対のタッチ電極６２ｔ，２５のそれぞれが接触した際には、被検知体Ｆによる押圧によって、弾性部材６３が変形する。このため、タッチ電極６２ｔは、この弾性部材６３の変形に伴って、ｘｙ面の方向に応力が加わり、破断のおそれが生じ得る。

しかしながら、本実施形態においては、弾性部材６３に複数の段Ｄ１，Ｄ２が設けられているので、前述した図３１の場合と比較してわかるように、弾性部材６３の変形に伴う応力が分散される。このため、弾性部材６３上に形成されたタッチ電極６２ｔには、大きな応力が加わらない。

よって、本実施形態においては、弾性部材６３上に形成されたタッチ電極６２ｔが、破断することを防止することができる。

（製造方法）
以下より、上記の液晶表示装置１００において、弾性部材６３を形成する方法について説明する。

図９は、本発明にかかる実施形態１において、弾性部材６３を形成する工程を示す断面図である。図９では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。

まず、図９（ａ）に示すように、下地層ＵＮを形成する。

ここでは、層間絶縁膜Ｓｚ上にて、弾性部材６３を形成する領域を被覆するように、感光性樹脂膜（図示なし）を形成した後、フォトリソグラフィ技術によって、その感光性樹脂膜をパターン加工することで、下地層ＵＮを形成する。

本実施形態では、弾性部材６３に形成する複数の段Ｄ１，Ｄ２のうち、高さが高い段Ｄ１を形成する部分に対応するように、下地層ＵＮを形成する。

つぎに、図９（ｂ）に示すように、弾性部材６３を形成する。

ここでは、弾性部材６３を形成する領域を被覆するように、下地層ＵＮの上に感光性樹脂膜（図示なし）を形成する後、フォトリソグラフィ技術によって、その感光性樹脂膜をパターン加工することで、弾性部材６３を形成する。

そして、上述したように、弾性部材６３を被覆する部分を含むように、画素電極６２ｐとタッチ電極６２ｔを形成する。

（まとめ）
以上のように、本実施形態において、液晶パネル２００は、電極間の接触による電圧変化で読み出しを行う「接触式」のタッチセンサＳＷｓが内蔵されている。ここでは、タッチセンサＳＷｓは、ＴＦＴアレイ基板２０１にて弾性部材６３上に形成されたタッチ電極６２ｔと、対向基板２０２に設けられたタッチ電極２５とを、一対の電極として含む。このタッチセンサＳＷｓは、液晶パネル２００が外圧によって変形されて、その一対のタッチ電極６２ｔ，２５が互いに接触するように構成されている。本実施形態では、弾性部材６３は、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面に垂直なｚ方向に、複数の段Ｄ１，Ｄ２が形成されている。つまり、最も高い第１の高さＨ１で形成された第１段Ｄ１と、その第１の高さＨ１よりも低い第２の高さＨ２で形成された第２段Ｄ２とを含むように、弾性部材６３が形成されている。そして、タッチ電極６２ｔは、弾性部材６３において複数の段Ｄ１，Ｄ２の表面を被覆するように設けられている。つまり、タッチ電極６２ｔが弾性部材６３の上において、第１段Ｄ１と第２段Ｄ２との表面を被覆する部分を含むように設けられている。

図８に示したように、本実施形態において、一対のタッチ電極６２ｔ，２５が互いに接触するように外圧が加えられた場合には、弾性部材６３の第１段Ｄ１の部分は、大きく変形するが、弾性部材６３の第２段Ｄ２の部分は、大きく変形しない。よって、タッチ電極６２ｔは、弾性部材６３の第２段Ｄ２に設けられた部分が、外圧によって変形しにくくなるので、弾性部材６３においてタッチ電極２５が接触する面を大きくすることなく、断線することを防止できる。

したがって、本実施形態は、画像品質の向上、および、装置の信頼性の向上を実現することができる。

また、本実施形態の弾性部材６３においては、高い第１段Ｄ１の面積が、低い第２段Ｄ２の面積よりも広くなるように形成されている（図５（ｂ）など参照）。つまり、弾性部材６３に形成された複数の段Ｄ１，Ｄ２のうち、頂面に位置する段Ｄ１の方が、他の段よりも広くなるように形成されている。このように、弾性部材６３において、対向基板２０２に設けられたタッチ電極２５が直接的に接触する第１段Ｄ１の方が、第２段Ｄ２よりも広い面積であるので、外圧が加えられた際に、第１段Ｄ１へ圧力が集中しにくくなる。よって、上記の効果を更に奏することができる。

また、本実施形態では、液晶配向膜ＨＭ２上にタッチ電極２５が形成されている。このため、接触した際に生ずる電気抵抗が小さいので、高い感度で接触位置を検知することができる。

また、本実施形態では、画素電極６２ｐと一体になるように、タッチ電極６２ｔを形成している。このため、液晶パネル２００の開口率を向上させることができるので、表示画像の画像品質を向上できる。

＜２．実施形態２（弾性部材の低い段の位置が上面において中央にある場合）＞
以下より、本発明にかかる実施形態２について説明する。

（液晶パネルの詳細構成）
図１０は、本発明の実施形態２にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｂの部分を拡大して示す図である。図１０において、（ａ）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。（ｂ）は、（ａ）のＸ１ｂ−Ｘ２ｂ部分を示している。

図１０に示すように、本実施形態は、弾性部材６３ｂの形状が、実施形態１の弾性部材６３の形状と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。

図１０に示すように、弾性部材６３ｂは、凹状に形成されたスリットによって、複数の段Ｄ１，Ｄ２が設けられている。

ここでは、図１０（ａ）に示すように、弾性部材６３ｂは、ｘｙ面において、矩形状であって、ｘ方向の辺がｙ方向の辺よりも長くなるように形成されている。そして、ｘ方向における中心部分に、ｙ方向へ延在するスリットＳＴが設けられている。

また、図１０（ｂ）に示すように、ｘｚ面においては、弾性部材６３ｂは、第１の高さＨ１２である第１段Ｄ１２と、その第１の高さＨ１２よりも低い第２の高さＨ２２である第２段Ｄ２２とを含むように、形成されている。

つまり、図１０（ａ）に示すように、弾性部材６３ｂの第１段Ｄ１２は、ｘｙ面において、一対の面Ｄ１２ａ，Ｄ１２ｂを含んでおり、この一対の面Ｄ１２ａ，Ｄ１２ｂが、第２段Ｄ２２を挟んでいる。そして、弾性部材６３ｂの第２段Ｄ２２は、ｘｙ面において、ｙ方向に延在する矩形状の面Ｄ２２ａを含み、この面Ｄ２２ａが、ｘ方向において、第１段Ｄ１の各面Ｄ１ａ，Ｄ１ｂに挟まれている。

そして、図示を省略しているが、タッチ電極６２ｔは、実施形態１の場合と同様に、この複数の段の表面を被覆する部分を含むように、弾性部材６３ｂの上に設けられている。つまり、タッチ電極６２ｔは、この弾性部材６３ｂ上において、第１段Ｄ１２と第２段Ｄ２２との表面を被覆する部分を含むように、設けられている。

（製造方法）
以下より、上記の弾性部材６３ｂを形成する方法について説明する。

図１１は、本発明にかかる実施形態２において、弾性部材６３ｂを形成する工程を示す断面図である。図１１では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。

まず、図１１（ａ）に示すように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｂを形成する。

ここでは、弾性部材６３ｂを形成する領域を被覆するように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｂを形成する。本実施形態では、ネガ型のフォトレジスト材料（たとえば、ＪＳＲ製のＮＮ系）を用いて、この感光性樹脂膜ＰＲ１ｂを形成する。

つぎに、図１１（ｂ）に示すように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｂについて露光処理を実施する。

ここでは、マスクパターンが設けられたフォトマスクＰＭｂを介して、露光光Ｌを感光性樹脂膜ＰＲ１ｂに照射することで、この露光処理を実施する。本実施形態では、弾性部材６３ｂにおいて第１段Ｄ１２に対応する部分から露光光Ｌが透過し、第２段Ｄ２２に対応する部分で露光光Ｌが遮光されるように、マスクパターンが形成されたフォトマスクＰＭｂを用いる。

その後、現像処理を実施することによって、図１０に示したように、弾性部材６３ｂが完成される。

なお、ポジ型のフォトレジスト材料（たとえば、ＪＳＲ製ＰＣレジン）を用いて、上記の感光性樹脂膜ＰＲ１ｂを形成した場合には、図１１（ｃ）に示すような露光処理を実施して、弾性部材６３ｂを形成する。

この場合には、図１１（ｃ）に示すように、弾性部材６３ｂにおいて第１段Ｄ１２に対応する部分で露光光Ｌが遮光され、第２段Ｄ２２に対応する部分で露光光Ｌが透過されるように、マスクパターンが形成されたフォトマスクＰＭｂを用いる。

（まとめ）
以上のように、本実施形態においては、弾性部材６３ｂは、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面に垂直なｚ方向に、複数の段Ｄ１２，Ｄ２２が形成されている。つまり、最も高い第１の高さＨ１２で形成された第１段Ｄ１２と、その第１の高さＨ１２よりも低い第２の高さＨ２２で形成された第２段Ｄ２２とを含むように、弾性部材６３ｂが形成されている。そして、画素電極６２ｐｂは、弾性部材６３ｂにおいて複数の段Ｄ１２，Ｄ２２の表面を被覆するように設けられている。つまり、画素電極６２ｐｂが弾性部材６３ｂの上において、第１段Ｄ１２と第２段Ｄ２２との表面を被覆する部分を含むように設けられている。

このため、実施形態１の場合と同様に、弾性部材６３ｂが、外圧によって変形しにくくなるので、弾性部材６３ｂにおいてタッチ電極２５が接触する面を大きくすることなく、画素電極６２ｐが断線することを防止できる。

特に、本実施形態では、弾性部材６３ｂは、凹状に形成されたスリットによって、複数の段Ｄ１，Ｄ２が設けられているので、弾性部材６３ｂの変形を効果的に抑制することができる。

図１２は、本発明の実施形態３において、弾性部材６３ｂの段差部分における変形量を示す図である。

図１２において、（ａ）は、スリットＳＴの幅を、３μｍとした場合において、スリット深さを変化させた場合の結果を示している。これに対して、（ａ）は、スリットＳＴの深さを、１μｍとした場合において、スリット深さを変化させた場合の結果を示している。

図１２に示すように、弾性部材６３ｂにスリットを設けない場合（図１２の点線）と比較して、スリットを設けた場合の方が、変形量が小さい。スリットの深さは、０．５〜１．５μｍの範囲で好適な結果が得られており、浅い方が、より好適であった。また、スリットの幅は、１．５〜６μｍの範囲で好適な結果が得られており、幅が狭い方が、より好適であった。
なお、この変形量は、以下の条件の下でシミュレートした結果である。
・弾性部材６３ｂのヤング率：３．５ＧＰａ
・弾性部材６３ｂのポアソン比：０．３８
・弾性部材６３ｂのテーパー角：６０°
・弾性部材６３ｂの大きさ
ｘｙ面における長辺の長さ：３５μｍ（３５ｕｍで計算）
ｘｙ面における短辺の長さ：１５μｍ（１５ｕｍで計算）
高さ：２．５ｕｍ
・加えた圧：１．１×１０^９Ｐａ

このように、本実施形態では、弾性部材６３ｂは、段差部分において変形量が小さいので、画素電極６２ｐが断線することを防止できる。

したがって、本実施形態は、画像品質の向上、および、装置の信頼性の向上を実現することができる。

＜３．実施形態３（弾性部材の低い段の平面形状が三角形の場合）＞
以下より、本発明にかかる実施形態３について説明する。

（液晶パネルの詳細構成）
図１３は、本発明の実施形態３にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｃの部分を拡大して示す図である。図１３において、（ａ）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。（ｂ）は、（ａ）のＸ１ｃ−Ｘ２ｃ部分を示している。

本実施形態においては、弾性部材６３ｃの形状が、実施形態１の弾性部材６３の形状と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。

図１３に示すように、弾性部材６３ｃは、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面に対して傾斜している傾斜面ＫＳを含むように形成されている。

ここでは、図１３（ａ）に示すように、弾性部材６３ｃは、ｘｙ面において、矩形状であって、ｘ方向の辺がｙ方向の辺よりも長くなるように形成されている。

そして、図１３（ｂ）に示すように、弾性部材６３ｂは、ｘｚ面においては、ｘｙ面に沿った面Ｄ１３を含み、その面Ｄ１３の一端に傾斜面ＫＳが設けられている。この傾斜面ＫＳは、図１３（ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面に垂直なｘｚ面の断面の幅（ｘ方向での辺の長さ）が、ｘｙ面からｚ方向の上方へ離れるに伴って、狭くなるように形成されている。

また、この傾斜面ＫＳは、図１３（ａ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１の面に水平なｘｙ面において、傾斜面ＫＳの幅（ｙ方向での辺の長さ）が、内側から外側へ向かって広がるように形成されている。つまり、図１３（ａ）に示すように、ｘｙ面の形状が、三角形状になるように、傾斜面ＫＳが形成されている。

そして、図示を省略しているが、タッチ電極６２ｔは、実施形態１と同様に、この複数の面Ｄ１３，ＫＳの表面を被覆する部分を含むように、弾性部材６３ｃの上に設けられている。つまり、弾性部材６３ｃにおいて高さが異なる複数の面Ｄ１３，ＫＳの上に、タッチ電極６２ｔが形成されている。

（製造方法）
以下より、上記の弾性部材６３ｃを形成する方法について説明する。

図１４は、本発明にかかる実施形態３において、弾性部材６３ｃを形成する工程を示す断面図である。図１４では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。

まず、図１４（ａ）に示すように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｃを形成する。

ここでは、弾性部材６３ｃを形成する領域を被覆するように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｃを形成する。本実施形態では、ポジ型のフォトレジスト材料（たとえば、ＪＳＲ製のＰＣレジン）を用いて、この感光性樹脂膜ＰＲ１ｃを形成する。

つぎに、図１４（ｂ）に示すように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｃについて露光処理を実施する。

ここでは、マスクパターンが設けられたフォトマスクＰＭｃを介して、露光光Ｌを感光性樹脂膜ＰＲ１ｃに照射することで、この露光処理を実施する。

本実施形態では、図１４（ｃ）に示すように、弾性部材６３ｃにおいて傾斜面ＫＳに対応する部分から露光光Ｌが透過し、他の部分で露光光が遮光されるように、マスクパターンが形成されたフォトマスクＰＭｃを用いる。つまり、三角形状の開口がマスクパターンとして設けられたフォトマスクＰＭｃを用いる。

この場合には、三角形状の開口において、解像限界よりも狭い幅の部分が存在するので、上述したように、その幅に対応して、露光の深さが変化する。

このため、この露光処理後に現像処理を実施することによって、図１３に示したように、傾斜面ＫＳを含むように、弾性部材６３ｃが完成される。

（まとめ）
以上のように、本実施形態においては、弾性部材６３ｃは、傾斜面ＫＳが形成されている。そして、画素電極６２ｐｂは、この傾斜面ＫＳの表面を被覆するように設けられている。

このため、実施形態１の場合と同様に、弾性部材６３ｃが、外圧によって変形しにくくなるので、弾性部材６３ｃにおいてタッチ電極２５が接触する面を大きくすることなく、画素電極６２ｐが断線することを防止できる。

特に、本実施形態では、弾性部材６３ｃは、傾斜面ＫＳが設けられているので、弾性部材６３ｃの変形を効果的に抑制することができる。

したがって、本実施形態は、画像品質の向上、および、装置の信頼性の向上を実現することができる。

＜４．実施形態４（弾性部材が３段の場合）＞
以下より、本発明にかかる実施形態４について説明する。

（液晶パネルの詳細構成）
図１５は、本発明の実施形態４にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｄの部分を拡大して示す図である。図１５において、（ａ）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。（ｂ）は、（ａ）のＸ１ｄ−Ｘ２ｄ部分を示している。

図１５に示すように、本実施形態は、弾性部材６３ｄの形状が、実施形態１の弾性部材６３の形状と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。

図１５に示すように、弾性部材６３ｄは、複数の段Ｄ１４，Ｄ２４，Ｄ３４が設けられている。

ここでは、図１５（ａ）に示すように、弾性部材６３ｄは、ｘｙ面において、矩形状であって、ｘ方向の辺がｙ方向の辺よりも長くなるように形成されている。そして、ｙ方向における中心部分に、ｘ方向へ延在するスリットが設けられている。

また、図１５（ｂ）に示すように、ｘｚ面においては、弾性部材６３ｄは、第１の高さＨ１４である第１段Ｄ１４と、その第１の高さＨ１４よりも低い第２の高さＨ２４である第２段Ｄ２４とが、スリット部分に設けられている。この他に、弾性部材６３ｄは、その第２の高さＨ２４よりも低い第３の高さＨ３４４である第３段Ｄ３４を、さらに含む。このように、階段状に、複数の段Ｄ１４，Ｄ２４，Ｄ３４が設けられている。

つまり、図１５（ａ）に示すように、弾性部材６３ｄの第１段Ｄ１４は、ｘｙ面において、一対の面Ｄ１４ａ，Ｄ１４ｂを含んでおり、この一対の面Ｄ１４ａ，Ｄ１４ｂが、ｙ方向において、第２段Ｄ２４，第３段Ｄ３４を挟んでいる。そして、弾性部材６３ｄの第２段Ｄ２４は、ｘｙ面において、ｘ方向に延在する矩形状の面Ｄ２４ａを含み、この面Ｄ２４ａが、第１段Ｄ１の各面Ｄ１４ａ，Ｄ１４ｂに挟まれている。そして、弾性部材６３ｄの第３段Ｄ３４は、ｘｙ面において、ｘ方向に延在する矩形状の面Ｄ３４ａを含み、この面Ｄ２４ａが、第１段Ｄ１の各面Ｄ１４ａ，Ｄ１４ｂに挟まれている。

そして、図示を省略しているが、タッチ電極６２ｔは、実施形態１の場合と同様に、この複数の段の表面を被覆する部分を含むように、弾性部材６３ｄの上に設けられている。つまり、タッチ電極６２ｔは、この弾性部材６３ｄ上において、第１段Ｄ１４と第２段Ｄ２４と第３段Ｄ３４の表面を被覆する部分を含むように、設けられている。

（製造方法）
以下より、上記の弾性部材６３ｄを形成する方法について説明する。

図１６は、本発明にかかる実施形態４において、弾性部材６３ｄを形成する工程を示す断面図である。図１６では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。

まず、図１６（ａ）に示すように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｄを形成する。

ここでは、弾性部材６３ｄを形成する領域を被覆するように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｄを形成する。本実施形態では、ポジ型のフォトレジスト材料を用いて、この感光性樹脂膜ＰＲ１ｄを形成する。

つぎに、図１６（ｂ）に示すように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｄについて露光処理を実施する。

ここでは、マスクパターンが設けられたフォトマスクＰＭｂを介して、露光光Ｌを感光性樹脂膜ＰＲ１ｂに照射することで、この露光処理を実施する。本実施形態では、弾性部材６３ｄにおいて第１段Ｄ１４に対応する部分で露光光Ｌを遮光し、第３段Ｄ３４に対応する部分で露光光Ｌが遮光されるように、マスクパターンが形成されたフォトマスクＰＭｄを用いる。そして、第２段Ｄ２４に対応する部分においては、第１段Ｄ１４と第３段Ｄ３４との中間の強度で露光光Ｌが透過するように、ハーフトーンになっているフォトマスクＰＭｄを用いる。

その後、現像処理を実施することによって、図１５に示したように、弾性部材６３ｄが完成される。

（まとめ）
以上のように、本実施形態においては、弾性部材６３ｄは、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面に垂直なｚ方向に、複数の段Ｄ１４，Ｄ２４，Ｄ３４が形成されている。そして、画素電極６２ｐｂは、弾性部材６３ｄにおいて複数の段Ｄ１２，Ｄ２２の表面を被覆するように設けられている。

このため、実施形態１の場合と同様に、弾性部材６３ｄが、外圧によって変形しにくくなるので、弾性部材６３ｄにおいてタッチ電極２５が接触する面を大きくすることなく、断線の発生を防止できる。

＜５．実施形態５（弾性部材の複数の段が、コンタクトの周囲に設けられている場合）＞
以下より、本発明にかかる実施形態５について説明する。

（液晶パネルの詳細構成）
図１７は、本発明の実施形態５にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｅの部分を拡大して示す図である。図１７において、（ａ）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。（ｂ）は、（ａ）のＸ１ｅ−Ｘ２ｅ部分を示している。

本実施形態においては、弾性部材６３ｅの形状が、実施形態１の弾性部材６３の形状と異なる。また、弾性部材６３ｅの位置が、実施形態１と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。

図１７に示すように、弾性部材６３ｅは、ＴＦＴアレイ基板２０１の面に水平なｘｙ面において、複数の段Ｄ１５，Ｄ２５が、コンタクトＣＴの周りを囲うように設けられている。

ここでは、図示を省略しているが、画素スイッチング素子３１を構成するソース・ドレイン領域（図示なし）に、電気的に接続しているコンタクトＣＴの全ての周りに、段Ｄ１５，Ｄ２５が設けられている。

そして、図示を省略しているが、タッチ電極６２ｔは、実施形態１と同様に、この段Ｄ１５，Ｄ２５の表面を被覆する部分を含むように、弾性部材６３ｅの上に設けられており、コンタクトＣＴと電気的に接続されている。

（まとめ）
以上のように、本実施形態の弾性部材６３ｅにおいては、複数の段Ｄ１５，Ｄ２５が、コンタクトＣＴの周りを囲うように設けられている。そして、この複数の段Ｄ１５，Ｄ２５の表面を被覆するように、タッチ電極６２ｔが設けられて、コンタクトＣＴに電気的に接続されている。

このため、本実施形態においては、コンタクトＣＴとタッチ電極６２ｔとの間の断線の発生を、効果的に防止することができる。

なお、上記においては、弾性部材６３ｅは、ｘｙ面において複数の段Ｄ１５，Ｄ２５がコンタクトＣＴの周りの全てを囲う場合について説明したが、これに限定されない。

図１８は、本発明の実施形態５の変形例にかかる液晶表示装置において、弾性部材６３ｅｂの部分を拡大して示す図である。図１８において、（ａ）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。（ｂ）は、（ａ）のＸ１ｅｂ−Ｘ２ｅｂ部分を示している。

図１８に示すように、たとえば、複数の段Ｄ１５ｂ，Ｄ２５ｂが、コンタクトＣＴの周りにおいて、コの字を描くように、弾性部材６３ｅｂを形成しても良い。

＜６．実施形態６（弾性部材の複数の段のそれぞれを複数の部材を積層して設ける場合）＞
以下より、本発明にかかる実施形態６について説明する。

（製造方法）
図１９は、本発明にかかる実施形態６において、弾性部材６３を形成する工程を示す断面図である。図１９では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。

図１９に示すように、本実施形態においては、弾性部材６３を形成する工程が、実施形態１と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。

弾性部材６３を形成する際には、まず、図１９（ａ）に示すように、第１弾性部材６３１を形成する。

ここでは、図１９（ａ）に示すように、弾性部材６３に形成する複数の段Ｄ１，Ｄ２のうち、高さが低い段Ｄ２を含むように、第１弾性部材６３１を形成する。

具体的には、第１弾性部材６３１を形成する領域を被覆するように、第１感光性樹脂膜（図示なし）を形成後、フォトリソグラフィ技術によって第１感光性樹脂膜をパターン加工することで、この第１弾性部材６３１を形成する。

つぎに、図１９（ｂ）に示すように、第２弾性部材６３２を形成する。

ここでは、図１９（ｂ）に示すように、弾性部材６３に形成する複数の段Ｄ１，Ｄ２のうち、第１弾性部材６３１よりも高さが高い段Ｄ１を含むように、第２弾性部材６３２を形成する。

具体的には、第２弾性部材６３２を形成する領域を被覆するように、第１弾性部材６３１上に第２感光性樹脂膜（図示なし）を形成後、フォトリソグラフィ技術によって第２感光性樹脂膜をパターン加工することで、この第２弾性部材６３２を形成する。

このようにすることによって、第１弾性部材６３１と第２弾性部材６３２とを、弾性部材６３として設ける。

（まとめ）
以上のようにすることで、実施形態１と同様に、弾性部材６３において複数の段Ｄ１，Ｄ２の表面を被覆するように、タッチ電極６２ｔを設けることができる。このため、本実施形態は、実施形態１と同様に、画像品質の向上、および、装置の信頼性の向上を実現することができる。

＜７．変形例＞
本発明の実施に際しては、上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。

（１）弾性部材の形状について
弾性部材の形状は、上述した形態に限らない。

図２０は、本発明の実施形態にかかる液晶表示装置において、弾性部材の部分を拡大して示す図である。図２０においては、いずれも上面図を示しており、下段部分と上段部分とにおいて、異なるハッチングを付して示している。

図２０に示すように、弾性部材には、さまざまな形状で複数の段を設けても良い。たとえば、弾性部材の表面を横断するスリットや、端部に溝を設けることで、複数の段を形成しても良い。ここでは、タッチ電極の形状や材質に対応して、任意に、弾性部材の形状を設定することができる。なお、上記のほかに、台形状や、スリットによってグラディエーションを設けることで、複数の段を形成しても良い。

（２）液晶パネルの全体構成について
上記の液晶パネル２００においては、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間の距離を保持するために、この距離に対応する高さのスペーサＳＰを設けているが、このスペーサＳＰよりも高さが低いスペーサＳＰＬを、別途、設けても良い。

図２１は、本発明にかかる実施形態において、弾性部材６３と各スペーサＳＰ，ＳＰＬとを形成する工程を示す断面図である。図２１では、要部を示しており、一部の部材については、表示を省略している。

各部の形成においては、図２１（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｆについて露光処理を、複数回、順次、実施する。

まず、この露光処理に先立って、感光性樹脂膜ＰＲ１ｆを形成する。

ここでは、弾性部材６３ｆとスペーサＳＰｆ，ＳＰＬとを形成する領域を被覆するように、感光性樹脂膜ＰＲ１ｆを形成する。具体的には、ポジ型のフォトレジスト材料を用いて、この感光性樹脂膜ＰＲ１ｆを形成する。

つぎに、図２１（ａ）に示すように、フォトマスクＰＭｆ１を用いて、露光処理をする。

ここでは、感光性樹脂膜ＰＲ１ｆにおいて、弾性部材６３ｆとスペーサＳＰｆ，ＳＰＬとを形成する領域へ照射されないように、露光光Ｌを遮光し、他の部分に露光光Ｌを照射する。

つぎに、図２１（ｂ）に示すように、フォトマスクＰＭｆ２を用いて、露光処理をする。

ここでは、感光性樹脂膜ＰＲ１ｆにおいて、弾性部材６３ｆとスペーサＳＰＬとを形成する領域に、露光光Ｌを照射し、他の部分については、遮光する。

つぎに、図２１（ｃ）に示すように、フォトマスクＰＭｆ３を用いて、露光処理をする。
ここでは、弾性部材６３ｆのうち、高さが低い第２段Ｄ２ｆを形成する領域に、露光光Ｌを照射し、他の部分については、遮光する。

その後、現像処理を実施することによって、図２１（ｄ）に示すように、弾性部材６３ｆを完成させる。

このように、弾性部材６３ｆとスペーサＳＰｆ，ＳＰＬとを、一括で形成することで、製造効率を向上させることができる。

（３）タッチ電極以外の電極への適用について
上記の実施形態においては、複数の段が形成された弾性部材上に、タッチ電極を形成する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、画素電極を、複数の段が形成された弾性部材上に形成しても良い。

図２２は、本発明の実施形態にかかる液晶パネルにおいて、表示領域に設けられた画素の概略を模式的に示す断面図である。

本実施形態は、図２２に示すように、画素電極６２ｐｆの構成が実施形態１の画素電極６２ｐと異なる。この点、および、これに関連する点を除き、本実施形態は、実施形態１と同様に構成されている。このため、主要部について示し、その他の部分については、省略する。

図２２に示すように、画素電極６２ｐは、透明電極６２Ｔと反射電極６２Ｈとを含み、コンタクトＣＴを介して画素スイッチング素子３１に電気的に接続されている。つまり、液晶パネルは、半透過型として構成されている。

画素電極６２ｐにおいて、透明電極６２Ｔは、図２２に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１において、層間絶縁膜Ｓｚ上に形成されている。透明電極６２Ｔは、たとえば、ＩＴＯを用いて形成されており、バックライト（図示無し）から照射された光が、透過するように構成されている。

画素電極６２ｐにおいて、反射電極６２Ｈは、図２２に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１において、層間絶縁膜Ｓｚ上に設けられた弾性部材６３ｆの上に形成されている。反射電極６２Ｈは、たとえば、Ａｇを用いて形成されており、対向基板２０２の側からＴＦＴアレイ基板２０１の側へ入射する光を反射するように構成されている。

ここでは、弾性部材６３ｆは、図２２に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１のｘｙ面に垂直なｚ方向に、高さが異なる第１段Ｄ１ｆと、第２段Ｄ２ｆとを含む。

図２３は、本発明の実施形態にかかる液晶パネルにおいて、弾性部材６３ｆの上面図である。上記の図２２は、図２３のＸ１ｆ−Ｘ２ｆ部分を示している。

弾性部材６３ｆにおいて、第１段Ｄ１ｆは、図２２および図２３に示すように、表面に凹凸が形成されている。そして、図２３に示すように、第１段Ｄ１ｆは、コンタクトＣＴの周りにおいて、コの字を描くように設けられている。

一方で、弾性部材６３ｆにおいて、第２段Ｄ２ｆは、図２２に示すように、第１段Ｄｆ１よりも高さが低くなるように形成されている。

そして、第１段Ｄ１ｆと第２段Ｄ２ｆとの両者の表面を被覆するように、反射電極６２Ｈが設けられている。

上記のような液晶パネルにおいても、外圧が印加された場合には、反射電極６２Ｈに応力が加わり、断線する場合がある。

しかしながら、弾性部材６３ｆが複数の段Ｄ１ｆ，Ｄ２ｆを含み、この複数の段Ｄ１ｆ，Ｄ２ｆ上に反射電極６２Ｈを設けている。このため、実施形態１で示したタッチ電極６２ｔの場合と同様に、上記の不具合の発生を防止することができる。

なお、弾性部材６３ｆが、ＴＦＴアレイ基板２０１の側に設けられた場合に、限らない。

図２４は、本発明の実施形態にかかる液晶パネルにおいて、表示領域ＰＡに設けられた画素Ｐの概略を模式的に示す断面図である。

図２４に示すように、対向基板２０２の側に弾性部材６３ｆｂを設ける場合に適用しても良い。つまり、図２４に示すように、弾性部材６３ｆｂに、高さが異なる第１段Ｄ１ｆｂと、第２段Ｄ２ｆｂとを設け、この表面を被覆するように、対向電極２３ｆを形成する場合に適用してもよい。

（４）弾性部材の複数段の形成について
上記の実施形態１においては、弾性部材６３に複数の段Ｄ１，Ｄ２を形成するために、下地層ＵＮを、感光性樹脂膜を用いて形成する場合について説明したが、これに限定されない（図９参照）。

図２５は、本発明にかかる実施形態において、弾性部材を示す断面図である。

図２５（ａ）に示すように、たとえば、金属配線層ＫＨを、上記の下地層として形成し、その金属配線層ＫＨ上に平坦化膜ＨＴを設けることで、弾性部材６３に複数の段Ｄ１，Ｄ２を形成しても良い。

また、対向基板２０２の側に、上記のような弾性部材６３を設ける際には、カラーフィルタ層２１の形成工程において、上記の下地層を形成してもよい。この場合には、図２５（ｂ）に示すように、たとえば、赤フィルタ２１Ｒ上に、緑フィルタ２１Ｇを、上記の下地層として積層する。そして、この赤フィルタ２１Ｒと緑フィルタ２１Ｇとの積層体上に、弾性部材６３を形成し、複数の段Ｄ１，Ｄ２を設けても良い。

この他、図２５（ｃ）に示すように、層間絶縁膜Ｓｚをパターン加工することで、上記の下地層を形成してもよい。

このように、他の部材を下地層として兼用することで、製造コストを低減させることができる。

（６）その他
上記の実施形態においては、タッチ電極６２ｔを、画素電極６２ｐと一体になるように形成する場合について説明したが、これに限定されない。タッチ電極６２ｔと画素電極６２ｐとを分離して形成しても良い。そして、この場合には、画素スイッチング素子３１の他に、ＴＦＴ（図示なし）を設け、そのＴＦＴの動作を画素スイッチング素子の動作と独立させて駆動させることで、タッチセンサの検出動作を制御するように回路を構成してもよい。

また、上記の実施形態においては、弾性部材をＴＦＴアレイ基板側に設ける場合について説明したが、これに限定されない。対向基板側に、弾性部材を形成しても良い。

また、上記の実施形態においては、対向基板側においてタッチ電極を液晶配向膜上に形成する場合について説明したが、これに限定されない。タッチ電極を液晶配向膜の下層に形成してもよい。そして、この場合には、タッチ電極の表面部分が露出するように、液晶配向膜の一部を除去しても良い。

また、上記の実施形態においては、互いに対面する一対のタッチ電極が接触することで位置検出が行われる一点接触方式のタッチスイッチに適用する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、二点接触方式のタッチスイッチの場合に適用してもよい。

また、上記の実施形態においては、対向基板側において、タッチ電極２５と共通電極２３とのそれぞれを、独立に形成する場合について示したが、これに限定されない。たとえば、タッチ電極２５と共通電極２３とを一体的に同一層で形成しても良い。

また、上記のほかに、ＩＰＳ方式，ＦＦＳ方式などのように、横電界方式の液晶パネルに適用しても良い。

また、有機ＥＬディスプレイなどのように、液晶パネル以外の表示パネルに適用しても良い。

また、表示パネルに内蔵する場合以外に、装置に外付けするタッチセンサに適用しても良い。

また、上記においては、「接触式」のタッチセンサに、本発明を適用する場合について説明したが、これに限定されない。「抵抗膜式」，「容量式」など、他の方式の場合に、適用してもよい。

また、本実施形態の液晶表示装置１００は、さまざまな電子機器の部品として適用することができる。

図２６から図３０は、本発明にかかる実施形態の液晶表示装置１００を適用した電子機器を示す図である。

図２６に示すように、テレビジョン放送を受信し表示するテレビにおいて、その受信した画像を表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。

また、図２７に示すように、デジタルスチルカメラにおいて、その撮像画像などの画像を表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。

また、図２８に示すように、ノート型パーソナルコンピュータにおいて、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。

また、図２９に示すように、携帯電話端末において、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。

また、図３０に示すように、ビデオカメラにおいて、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として液晶表示装置１００を適用することができる。

なお、上記の実施形態において、タッチ電極２５は、本発明の電極，第２タッチ電極に相当する。また、上記の実施形態において、反射電極６２Ｈは、本発明の電極に相当する。また、上記の実施形態において、画素電極６２ｐ，６２ｐｂ，６２ｐｆは、本発明の電極、画素電極に相当する。また、上記の実施形態において、タッチ電極６２ｔは、本発明の電極、第１タッチ電極に相当する。また、上記の実施形態において、弾性部材６３，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄ，６３ｅ，６３ｅｂ，６３ｆ，６３ｆｂは、本発明の弾性部材に相当する。また、上記の実施形態において、液晶表示装置１００は、本発明の表示装置に相当する。また、上記の実施形態において、液晶パネル２００は、本発明の表示パネルに相当する。また、上記の実施形態において、ＴＦＴアレイ基板２０１は、本発明の基板に相当する。また、上記の実施形態において、対向基板２０２は、本発明の対向基板に相当する。また、上記の実施形態において、液晶層２０３は、本発明の液晶層に相当する。また、上記の実施形態において、コンタクトＣＴは、本発明のコンタクトに相当する。また、上記の実施形態において、傾斜面ＫＳは、本発明の傾斜面に相当する。また、上記の実施形態において、表示領域ＰＡは、本発明の表示領域に相当する。また、上記の実施形態において、スリットＳＴ，ＳＴｄは、本発明のスリットに相当する。また、上記の実施形態において、タッチセンサＳＷｓは、本発明のタッチセンサに相当する。

２２：平坦化膜、２３，２３ｆ：対向電極、２５：タッチ電極（第２タッチ電極）、３１：画素スイッチング素子、４５：ゲート電極、４６ｇ：ゲート絶縁膜、４８：半導体層、６２Ｈ：反射電極、６２Ｔ：透明電極、６２ｐ，６２ｐｂ，６２ｐｆ：画素電極（電極、画素電極）、６２ｔ：タッチ電極（電極、第１タッチ電極）、６３，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄ，６３ｅ，６３ｅｂ，６３ｆ，６３ｆｂ：弾性部材（弾性部材）、１００：液晶表示装置（表示装置）、２００：液晶パネル（表示パネル）、２０１：ＴＦＴアレイ基板（基板）、２０２：対向基板（対向基板）、２０３：液晶層、２０６：第１の偏光板、２０７：第２の偏光板、３００：バックライト、４００：データ処理部、４０１：制御部、４０２：位置検出部、６３１：第１弾性部材、６３２：第２弾性部材、ＣＡ：周辺領域、ＣＬ：Ｖｃｏｍ線、ＣＴ：コンタクト（コンタクト）、Ｄ１，Ｄ１２，Ｄ１４，Ｄ１５，Ｄ１ｆ，Ｄｆ１，Ｄ１ｆｂ：第１段、Ｄ２，Ｄ２２，Ｄ２４，Ｄ２ｆ，Ｄ２ｆｂ：第２段、Ｆ：被検知体、ＧＬ：ゲート線、ＨＴ：平坦化膜、ＫＨ：金属配線層、ＫＳ：傾斜面（傾斜面）、Ｌ：露光光、Ｐ：画素、ＰＡ：表示領域（表示領域）、ＰＭｂ，ＰＭｃ，ＰＭｄ，ＰＭｆ：フォトマスク、Ｒ：照明光、ＲＣ：読み出し回路、ＳＬ：信号線、ＳＰ，ＳＰＬ，ＳＰｆ：スペーサ、ＳＴ，ＳＴｄ：スリット（スリット）、ＳＷｒ，ＳＷｗ：スイッチ、ＳＷｓ：タッチセンサ（タッチセンサ）、Ｓｚ：層間絶縁膜、ＵＮ：下地層、ＷＣ：書き込み回路

Claims (7)

1. 基板と、前記基板にスペースを隔てて対向している対向基板とを有し、画像を表示する表示領域にタッチセンサが設けられている表示パネル
   を具備しており、
   前記タッチセンサは、
   前記基板において前記対向基板に対向する面に設けられている第１タッチ電極と、
   前記対向基板において前記基板に対向する面に前記第１タッチ電極からスペースを隔てて対面するように設けられている第２タッチ電極と
   を有し、
   前記表示パネルが外圧によって変形し、前記第１タッチ電極と前記第２タッチ電極とが接触するように構成されており、
   前記基板は、
   前記対向基板に対向する面において、前記対向基板に対向する方向へ凸状に突出しており、外圧によって前記第１タッチ電極と前記第２タッチ電極とが接触した際に変形する弾性部材
   を含み、
   前記弾性部材は、凹状に形成されたスリットによって、前記基板の面に垂直な方向であって前記対向基板へ対向する方向に、複数の段が設けられており、
   前記第１タッチ電極は、前記第２タッチ電極に対面する部分において、前記複数の段の表面を被覆する部分を含むように、前記弾性部材にて前記対向基板に対向する面上に設けられており、
   前記複数の段のうち、前記第１タッチ電極において前記第２タッチ電極に直接的に接触する部分が被覆された頂面に位置する段は、他の段よりも広くなるように形成されており、
   表示装置。
2. 前記基板は、前記表示領域において前記対向基板に対向する面に設けられた画素電極を有し、
   前記第１タッチ電極は、前記画素電極と一体になるように設けられている、
   請求項１に記載の表示装置。
3. 前記弾性部材は、前記基板において前記画素電極が設けられた面から、前記対向基板に対向する方向へ凸状に突出するように形成されており、
   前記複数の段は、前記弾性部材が前記基板において前記画素電極が形成された面から凸状に突出した部分に設けられている、
   請求項２に記載の表示装置。
4. 前記表示パネルは、前記基板と前記対向基板との間に設けられた液晶層を含む液晶パネルである、
   請求項１から３のいずれかに記載の表示装置。
5. 前記対向基板は、前記基板に対面する側の面に設けられている液晶配向膜を有し、
   前記第２タッチ電極は、前記液晶配向膜において前記基板に対面する側の面に設けられている、
   請求項４に記載の表示装置。
6. 前記複数の段のうち、前記頂面に位置する段は、一対の面が、前記他の段を挟むように形成されている、
   請求項１から５のいずれかに記載の表示装置。
7. 前記基板は、
   前記第１タッチ電極に電気的に接続しているコンタクトを有し、
   前記弾性部材は、前記コンタクトよりも前記対向基板の側に形成されており、前記複数の段が、前記基板の面に水平な面において、前記コンタクトの周りを囲うように設けられている、
   請求項１から６のいずれかに記載の表示装置。

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