JP4729754B2 - Display device using a plurality of organic EL light emitting elements - Google Patents
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Description
本発明は、有機EL素子を用いた表示装置に関するもので、特に複数の有機EL発光素子を用いて、ディスプレイを構成する装置に関する。 The present invention relates to a display device using an organic EL element, and more particularly to an apparatus that constitutes a display using a plurality of organic EL light emitting elements.
フルカラー有機ELパネルの実現方法には、3色塗分け法、色変換法(以下、CCM法と称する)、カラーフィルタ法などがある。この方式の中で、CCM法、カラーフィルタ法は、成膜時にメタルマスクを用いる必要が無く、色変換層やカラーフィルタはフォトプロセスでパネル上に作製すればよいため大面積、高精細化に関して有利とされている。(非特許文献1参照) As a method for realizing a full-color organic EL panel, there are a three-color coating method, a color conversion method (hereinafter referred to as CCM method), a color filter method, and the like. Among these methods, the CCM method and the color filter method do not require the use of a metal mask at the time of film formation, and the color conversion layer and the color filter may be formed on the panel by a photo process, so that a large area and high definition are achieved. It is considered advantageous. (See Non-Patent Document 1)
さらに大面積のディスプレイを実現する場合には、従来から複数のパネルを接合して、1つの大型パネルを実現する方式は知られている。(特許文献1および2参照)
In the case of realizing a display with a larger area, a method for realizing a single large panel by joining a plurality of panels is conventionally known. (See
図2は、複数パネルを接合して大型パネルを実現する従来技術の方法の例を示したもので、4個の小型有機ELパネル5から構成されている。図3に、従来技術のフルカラー実現方法である3色塗り分け法で実現される有機ELパネル5の構造を示す。図3の有機ELパネル5においては、基板52上に複数のスイッチング素子54(TFTなど)が設けられ、複数のスイッチング素子54と1対1に対応する複数の第1電極56が設けられている。複数の第1電極56のそれぞれの上に、有機層からなる赤色発光層58R、緑色発光層58Gおよび青色発光層58Bが設けられ、発光層58のそれぞれは分離壁60によって離隔されている。発光層58および分離壁60の上に一体の構造を有して形成される透明電極62が設けられ、その上に保護層64および表示面を構成する透明シール66(ガラスなど)が形成されている。
FIG. 2 shows an example of a prior art method for realizing a large panel by joining a plurality of panels, and is composed of four small
そのため、複数の有機ELパネル5を用いて大型パネルを実現する際には、それぞれの小型有機ELパネル5の表示面と一体となって、大型パネルの表示面を組み合わせることになる。図2の正面視点から観察する際にはパネルの接合部が認識されないが、斜め視点から観察する際には、小型有機ELパネル5の表示面の歪み、あるいはパネル継ぎ目からの反射などによって接合部が認識される。
Therefore, when a large panel is realized using a plurality of
従来の方法では、観察する角度によって小型有機ELパネルの接合部が視覚的に認識されてしまうという欠点を有する。より具体的には、図2の正面視点から観察する際にはパネルの接合部が認識されないが、斜め視点から観察する際には、小型有機ELパネル5の表示面の歪み、パネル接合部からの反射、あるいは接合部に隣接する画素の光強度ないし色相の変化などによって接合部が認識される。これは、複数の小型有機ELパネル5を用いて大型パネルを実現する際には、それぞれの小型有機ELパネル5の表示面と一体となって、大型パネルの表示面を形成することに起因する。
The conventional method has a disadvantage that the joint portion of the small organic EL panel is visually recognized depending on the observation angle. More specifically, when observing from the front viewpoint of FIG. 2, the panel joint is not recognized, but when observing from the oblique viewpoint, the distortion of the display surface of the small
したがって、本発明の目的は、複数の有機EL素子を用いて大型パネルを形成する際に、その接合部が視覚的に認識されないような構造を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a structure in which a joint portion is not visually recognized when a large panel is formed using a plurality of organic EL elements.
本発明の表示装置は、複数の有機EL素子を用いて形成される、大型化に適した構造を有する表示装置であって、a)複数種の副画素から形成される画素、および前記複数種の副画素の間および前記画素の周囲に設けられるブラックマトリクスが整列されている色変換フィルタと、b)複数の有機EL素子とを含み、前記複数種の副画素は複数種の色変調部から形成され、前記複数の有機EL素子が貼り合せられて1つの表示素子を形成していることを特徴とする。ここで、前記色変換フィルタは、一体の構造を有してもよい。また、前記有機EL素子の貼り合わせによる接合部が、前記色変換フィルタのブラックマトリクスに相当する位置にある構造を有することが望ましい。さらに、有機EL素子の横方向の接合部端面に反射防止材料を設けてもよい。 The display device of the present invention is a display device that is formed using a plurality of organic EL elements and has a structure suitable for upsizing, and a) a pixel formed from a plurality of types of subpixels, and the plurality of types And b) a plurality of organic EL elements, wherein the plurality of types of sub-pixels are output from a plurality of types of color modulation units. And a plurality of organic EL elements are bonded together to form one display element. Here, the color conversion filter may have an integral structure. Further, it is desirable that the joint portion formed by bonding the organic EL elements has a structure in a position corresponding to the black matrix of the color conversion filter. Furthermore, you may provide an anti-reflective material in the junction part end surface of the horizontal direction of an organic EL element.
本発明の表示装置の種々の態様として、1)画素が赤色、青色および緑色の3種の副画素から構成され、前記有機EL素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、赤色および青色からなる群から選択される表示色を有する構成;2)有機EL素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、その他の副画素よりも小さい寸法を有する構成;または、3)画素が赤色、青色および緑色の3種の副画素から構成され、前記緑色の副画素は前記青色および赤色の副画素よりも小さい寸法を有し、および前記緑色の副画素に隣接するブラックマトリクスの領域に前記有機EL素子の横方向の接合部が配置されている構成を採ることが可能である。 As various aspects of the display device of the present invention, 1) a pixel is composed of three types of sub-pixels of red, blue and green, and sub-pixels adjacent to the lateral junction of the organic EL element are red and blue A configuration having a display color selected from the group consisting of: 2) a configuration in which a subpixel adjacent to a junction in the horizontal direction of the organic EL element has a smaller size than other subpixels; or 3) a pixel in red The blue sub-pixel is composed of three sub-pixels of blue and green, the green sub-pixel has a smaller size than the blue and red sub-pixels, and the black matrix adjacent to the green sub-pixel It is possible to adopt a configuration in which the lateral junction of the organic EL element is arranged.
以上に記載した本発明の構成を採ることによって、CCM方式の特徴である色変調部(色変換層および/またはカラーフィルタを含む)をフォトプロセスで大型の1枚基板上に形成して大型の色変換フィルタを作製し、色変換フィルタとは別に、真空成膜プロセスを用いて小型の有機EL素子を大型パネルに必要な複数枚で構成して、それらを重ね合わせることで大型ディスプレイパネルを実現することが可能になる。すなわち、基板の大型化に適応可能なフォトプロセスと、基板の大型化に制限を受ける真空成膜プロセスとを分離して製作することによって、大型のディスプレイパネルを効率よく作製することが可能となる。 By adopting the configuration of the present invention described above, a color modulation part (including a color conversion layer and / or a color filter), which is a feature of the CCM method, is formed on a single large substrate by a photo process. Create a color conversion filter, separate from the color conversion filter, use a vacuum film formation process to configure multiple small organic EL elements required for a large panel and superimpose them to realize a large display panel It becomes possible to do. In other words, it is possible to efficiently manufacture a large display panel by separately manufacturing a photo process that can be adapted to an increase in the size of a substrate and a vacuum film formation process that is limited by the increase in size of the substrate. .
また、複数の有機EL素子を貼り合わせる際に発生するおそれがある素子の整列の乱れに関して、その接合部に隣接する副画素を適切に選択すること、接合部に隣接する副画素を小型化することによって整列の乱れに対する許容度を向上させることによって、接合部の視覚的認識を防止することが可能となる。また、有機EL素子の接合部に反射防止材料を設けることによっても、接合部の視覚的認識を防止することが可能となる。 In addition, regarding the disorder of alignment of elements that may occur when a plurality of organic EL elements are bonded together, the subpixel adjacent to the junction is appropriately selected, and the subpixel adjacent to the junction is reduced in size. Thus, it is possible to prevent the visual recognition of the joint by improving the tolerance for the disorder of alignment. Moreover, it becomes possible to prevent the visual recognition of a junction part also by providing an antireflection material in the junction part of an organic EL element.
本発明の表示装置の一例を図1に示す。図1の構成においては、色変換フィルタ1と、複数の有機EL素子2(図1においては4個の例を示した)とを組み合わせることによって表示装置が構成されている。
An example of the display device of the present invention is shown in FIG. In the configuration of FIG. 1, a display device is configured by combining the
色変換フィルタ1は、表示装置の表示面に相当する面積において一体として形成されており、および該表示面において複数種の副画素から形成される画素が全面にわたって整列されており、各副画素の間の領域および各画素間の領域にブラックマトリクスが設けられている。図4に示すように、色変換フィルタ1は、透明基板110と、透明基板110上に設けられる複数種の色変調部およびブラックマトリクス130と、色変調部およびブラックマトリクスを覆って形成される保護層140とを含む。色変調部のそれぞれは、カラーフィルタ層122、色変換層124またはカラーフィルタ層122/色変換層124の積層体から構成される。色変調部のそれぞれが副画素120に相当する。図4においては、赤色副画素120R、緑色副画素120G、青色副画素120Bの3色の場合を示したが、2種類または4種類以上の色変調部を用いてもよいことはいうまでもない。また、後述するように、色変換フィルタ1を構成するためのカラーフィルタ層122、色変換層124およびブラックマトリクスのパターニングは一般的な画像様露光−湿式現像の方法を用いて行うことができる。したがって、大型のディスプレイパネルを形成するのに必要な大きさの基板を用いて、比較的簡便な工程によって大型の色変換フィルタ1を形成することが可能である。
The
色変換フィルタ1においては、複数種の副画素120が1つの画素を形成するように配置される。画素は、略正方形の形状を有するように形成されることが好ましい。したがって、各画素中には、略矩形の形状を有する副画素120を整列させることが好ましい。本発明において、「横方向」とは副画素120の矩形形状の短辺の方向を意味し、「縦方向」とは副画素120の矩形形状の長辺の方向を意味する。
In the
図4においては、トップエミッション方式のアクティブマトリクス駆動型の有機EL素子の例を示した。複数の有機EL素子2は、基板210上に複数のスイッチング素子220が設けられ、複数のスイッチング素子220に1対1で対応する複数の第1電極230が設けられている。複数の第1電極230の上に有機EL層240が設けられ、その上に一体として形成される第2電極250が形成されている。また、後述するように、本発明における有機EL素子としてパッシブマトリクス駆動型素子を使用することも可能である。また、本発明に用いられる有機EL素子2は、図4に示したような第2電極250側から光を取り出すトップエミッション方式を採用してもよいし、あるいは基板210側から光を取り出すボトムエミッション方式を採用してもよい。ボトムエミッション方式の有機EL素子を用いる場合、有機EL層240などの層を周囲環境から保護するために、色変換フィルタ1への組み合わせの後、色変換フィルタ1周辺部において接着層を用いて接着される封止缶または封止樹脂などを用いて、有機EL素子を周囲環境から隔離することが望ましい。
FIG. 4 shows an example of a top emission type active matrix driving type organic EL element. In the plurality of
有機EL素子2は、色変換フィルタ1の表示面に相当する面積を形成するのに足る複数枚を準備する。このような構成を採って有機EL素子2を小型化することは、以下の利点を有する。有機EL素子の製作は、真空中での蒸着および/またはスパッタなどの作業を伴うため、真空装置の大きさなどから基板210のサイズに制約がある。有機EL素子2を小型化することによって、そのような制約を回避することができ、また、基板210全面にわたって均一な特性を有する発光部を形成することが容易になるという利点を有するのである。さらに、大きな真空装置の使用を回避できることから、有機EL素子2の製造コストを低減させることも可能となる。一方、色変換フィルタ1については、真空中の操作が不要であるので、上記のような制限がなく大型のものを容易に作製することができる。
A plurality of
複数の有機EL素子2を貼り合わせて1つの表示素子とし、さらに1つの色変換フィルタ1と組み合わせることによって、本発明の表示装置を形成することができる。貼り合わせの際に、複数の有機EL素子2を電気的に接続して一体として制御するようにしてもよい。ワイヤボンディングなどの当該技術において知られている任意の方法、あるいはバイアを経由した裏面上での接続などを用いて隣接する2つの有機EL素子を電気的に接続することができる。あるいはまた、それぞれの有機EL素子2を電気的に接続せずに独立的に制御できるようにしてもよい。
The display device of the present invention can be formed by combining a plurality of
1つの色変換フィルタ1と複数の有機EL素子2とを組み合わせて形成される本発明の表示装置において、その表示面は、一体に形成される色変換フィルタ1の基板110の表面である。したがって、本発明の表示装置の表示面は、正面視点においても、斜め視点においても、その表示面の歪みによって接合部が視覚的に認識されることはない。
In the display device of the present invention formed by combining one
図5に、本発明により得られる表示装置(図1中に500として示される接合領域)を色変換フィルタ側から見た上面図を示す。図5においては、4個の有機EL素子2a〜2dが横方向接合部270と縦方向接合部280とにおいて貼り合わせられており、色変換フィルタ1の色変調部に相当する赤色副画素120R、緑色副画素120Gおよび青色副画素120Bが確定されており、3種の副画素が組み合わせられた1つの画素を形成している。副画素が設けられていない部分には、ブラックマトリクス130が設けられている。図5から分かるように、有機EL素子の接合部(横方向接合部270および縦方向接合部280)は、色変換フィルタ1のブラックマトリクス130に相当する位置に配置される。また、4個の有機EL素子2a〜2dのそれぞれに設けられている複数の発光部のそれぞれは、対応する副画素120と同等の寸法を有する。
FIG. 5 shows a top view of the display device (joint region shown as 500 in FIG. 1) obtained from the present invention as seen from the color conversion filter side. In FIG. 5, four
有機EL素子2の貼り合わせにおいては、いくつかの有機EL素子2が所定の位置からずれて貼り合わせられる恐れがある。そのように有機EL素子のずれが発生した場合でも、本発明の表示装置においては、色変換層124における光源からの光の波長分布変換を行う色変換色素からの光の放出が無指向性かつ拡散的であるために、色変換層124の下に発光部が存在しない領域が形成されたとしても、その他の部分から拡散される光によって該領域からも光が放射され、正常な副画素と同様に全面から光が放射され、視覚的に認識可能なほどの光強度および(画素全体としての発光の)色相の変化が発生することがない。また、後述するように本発明の表示装置の青色副画素120Bにおいて色変換層124を用いない場合が可能であるが、その場合でも青色光は肉眼に対する比視感度が低いために、副画素中に発光部が存在しない領域が形成されたとしても、視覚的に認識されるほどの影響を光強度および色相に与えることはない。さらに、本発明の表示装置においては、表示面である基板110の表面に接近して光拡散性の色変換層124が設けられているため、光源が表示面から離れて配置され色変換層を持たない液晶ディスプレイおよびカラーフィルタ方式ELディスプレイに比較して、視野角依存性が低いというさらなる利点がある。
In the bonding of the
本発明の1つの態様において、図5に示すように、横方向接合部270に隣接する副画素は、赤色副画素120Rおよび青色副画素120Bとすることが望ましい。なぜなら、これらの副画素から発せられる赤色光および青色光は肉眼に対する比視感度が低いために、副画素120(RまたはB)と発光部とのずれが発生したとしても、前述の色変換層124の拡散効果とあいまって、接合部が視覚的に認識されることを防止することができる。
In one aspect of the present invention, as shown in FIG. 5, the subpixels adjacent to the lateral joint 270 are preferably a
本発明の別の態様において、図7に示すように横方向接合部270に隣接する副画素を、他の部分の副画素120よりも小さい寸法を有する小型副画素170とすることができる。図7においては、赤色および青色の小型副画素170を設けた場合を示し、および有機EL素子2aの発光部290の内、横方向接合部270に隣接するもののみを示した。小型副画素170は、他の部分の副画素120の面積の40〜75%の面積を有することが望ましい。より好ましくは、小型副画素170は矩形形状を有し、その短辺は他の部分の副画素120の短辺の50〜80%の寸法を有し、その長辺は他の部分の副画素120の長辺の80〜100%の寸法を有することが望ましい。ここで、2色の小型副画素170のそれぞれ(図7においては赤色および青色)は、駆動時にそこから発せられる光の強度とその面積との積が、他の部分の同色の副画素120におけるものと同等になるような電流を流すように作働される。このような小型副画素170を有機EL素子2の接合部(特に横方向接合部270)に隣接して設けることによって、接合部に相当する位置のブラックマトリクスの幅を大きくして、有機EL素子の貼り合わせのずれに対する接合部に隣接する副画素の許容度を大きくすることができる。すなわち、多少のずれが発生したとしても、小型副画素170はその下にある発光部290の領域内となり、小型副画素170から発せられる光強度は影響を受けない。したがって、接合部に隣接する画素全体としても、発せられる光の光強度および色相は影響を受けず、接合部の視覚的な認識を防止することが可能となる。
In another aspect of the present invention, as shown in FIG. 7, the subpixel adjacent to the lateral joint 270 can be a small subpixel 170 having a smaller size than the subpixel 120 of the other portion. FIG. 7 shows the case where red and blue small sub-pixels 170 are provided, and only the light-emitting
本発明の別の態様において、図6に示すように、色変換フィルタ全体にわたって緑色副画素を小型副画素170Gとし、有機EL素子2の横方向接合部270は、緑色小型副画素170Gに隣接するブラックマトリクスの位置に配置される。図6においては、有機EL素子2aの発光部290の内、横方向接合部270に隣接するもののみを図示した。本態様における小型副画素の寸法は、前述と同様であってもよい。この構成を採ることによって、肉眼に対して比視感度の高い緑色小型副画素170Gに関して、有機EL素子貼り合わせ時のずれに対する緑色副画素の許容度を、接合部に相当する位置のブラックマトリクスの幅の拡大による接合部における向上のみならず、表示装置全体にわたって向上させ、副画素の有効面積が変化しないようにすることができる。もしずれが発生した場合でも、緑色小型副画素170Gから発せられる光の光強度は変化せず、かつ青色副画素120Bまたは赤色副画素120Rが接続部に隣接するが、それらが発する光の比視感度が低いために画素全体としての色相もほとんど影響を受けない。したがって、接合部における光強度および/または色相の変化によって、接合部が視覚的に認識されることはない。
In another aspect of the present invention, as shown in FIG. 6, the green subpixel is a
本発明の別の態様において、図8に示すように、色変換フィルタ全体にわたって全ての種類の副画素を小型副画素170とする。図8においては、有機EL素子2aの発光部290の内、横方向接合部270に隣接するもののみを図示した。このような構成とすることによって、全種の副画素に関して、有機EL素子貼り合わせ時のずれに対する副画素の許容度を向上させ、副画素の有効面積が変化しないようにすることができる。もしずれが発生した場合でも、それぞれの小型副画素170から発せられる光の光強度は変化せず、したがって画素全体としての色相もほとんど影響を受けない。この効果によって、接合部における光強度および/または色相の変化にる接合部の視覚的認識を防止することができる。
In another aspect of the present invention, as shown in FIG. 8, all types of subpixels are small subpixels 170 throughout the color conversion filter. In FIG. 8, only the
上記のいずれの態様においても、色変換フィルタ1に特定の角度を持って入射した外光が有機EL素子2の接合部端面において反射するために、接合部が視覚的に認識される恐れがある。貼り合わせの際に形成される接合部端面における反射を防止するために、図9に示すように、有機EL素子2の接合部端面に反射防止材料を設けることができる。たとえば、反射防止材料としては、可視光の波長領域でガラスの屈折率に近い屈折率を有する紫外線硬化型接着剤、高分子接着剤を用いることができる。用いられるガラスの屈折率は1.5〜1.6程度であり、接着剤としては紫外線硬化型接着剤であるAVR200(スリーボンド社製、屈折率1.56)またはXNR5623(ナガセケムテックス株式会社製、屈折率1.57)を用いることができる。あるいはまた、反射防止材料としてフィルム状樹脂を使用してもよい。用いることができるフィルム樹脂は、その屈折率とガラスの屈折率との差がガラスの屈折率の5%以下であることが好ましい。フィルム状樹脂は、ポリエステル、ポリエチレン、セロハン、ポリエチレンラミネートセロハン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、またはポリカーボネートから作製することができる。
In any of the above embodiments, since the external light incident on the
以下、本発明の色変換フィルタ1の構造を詳細に示す。透明基板110は、可視光(波長400〜700nm)、好ましくは色変調部120によって変換された光に対して透明であることが必要である。また、透明基板110は、色変調部120および他の必要に応じて設けられる層(後述)の形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板110の材料として好ましいものは、ガラス、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
Hereinafter, the structure of the
色変調部120のそれぞれは、カラーフィルタ層122、色変換層124またはカラーフィルタ層122/色変換層124の積層体から構成される。2種またはそれ以上の種類の色変調部を設けることができるが、好ましくは3種の色変調部、より好ましくは混合により白色を演色できる3種の色変調部、最も好ましくは、赤色変調部120R、緑色変調部120G、青色変調部120Bを設けることが望ましい。
Each of the color modulation units 120 includes a color filter layer 122, a color conversion layer 124, or a color filter layer 122 / color conversion layer 124 stack. Two or more types of color modulation units can be provided, but preferably three types of color modulation units, more preferably three color modulation units capable of rendering white color by mixing, most preferably a red modulation unit It is desirable to provide 120R, a
色変調部120に用いられるカラーフィルタ層122は、光源として用いる有機EL素子2の有機EL層240を発した光および/または色変換層124で波長分布変換された光の特定の波長域の成分のみを透過させ、色純度の高い出力光を得るための層である。カラーフィルタ層122は、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルタ材料を用いて形成することができ、近年はフォトレジストに顔料を分散させた、顔料分散型カラーフィルタ材料が広く用いられてきている。本発明においては、好ましくは、400nm〜550nmの波長を透過する青色カラーフィルタ層122B、500nm〜600nmの波長を透過する緑色カラーフィルタ層122G、600nm以上の波長を透過する赤色カラーフィルタ層122Rを用いることができる。
The color filter layer 122 used in the color modulation unit 120 is a component in a specific wavelength region of light emitted from the
本発明において、色変換層124は、有機EL素子2の有機EL層240を発した光の波長分布変換を行って、所望される波長域の成分を含む光へと変換するための層である。赤色変換層124Rは、近紫外領域ないし可視領域、特には青色ないし青色領域の光を吸収して赤色領域の光に変換するための赤色変換色素を含む。また、緑色変換層124Gは、近紫外領域ないし可視領域、特には青色ないし青色領域の光を吸収して緑色領域の光に変換するための緑色変換色素を含む。さらに、青色変換層124Bは、近紫外領域の光を吸収して青色領域の光に変換するための青色変換色素を含む。これらの色変換層124は、複数種の変換色素を含んでいてもよい。たとえば、赤色変換層124Rが、青色領域の光を緑色領域の光に変換する変換色素および緑色領域の光を赤色領域の光に変換する色素を含んで、全体的な色変換の効率を向上させてもよい。
In the present invention, the color conversion layer 124 is a layer for performing wavelength distribution conversion of light emitted from the
青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の光を発する赤色変換色素としては、例えばローダミンB、ローダミン6G、ローダミン3B、ローダミン101、ローダミン110、スルホローダミン、ベーシックバイオレット11、ベーシックレッド2などのローダミン系色素、シアニン系色素、1−エチル−2−〔4−(p−ジメチルアミノフェニル)−13−ブタジエニル〕−ピリジウム−パークロレート(ピリジン1)などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。
Examples of red conversion dyes that absorb light in the blue to blue-green region and emit light in the red region include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101,
青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の光を発する緑色変換色素としては、例えば3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3−(2’−ベンゾイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン(クマリン7)、3−(2’−N−メチルベンゾイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン(クマリン30)、2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジン(9,9a,1−gh)クマリン(クマリン153)などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー51、さらにはソルベントイエロー11、ソルベントイエロー116などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。 Examples of green conversion dyes that absorb light in the blue or blue-green region and emit light in the green region include 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6) and 3- (2′-benzimidazolyl). ) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), 3- (2′-N-methylbenzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 30), 2,3,5,6-1H, Coumarin dyes such as 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), or basic yellow 51 which is a coumarin dye dye, and solvent yellow 11 and solvent yellow. And naphthalimide dyes such as 116.
上記の色変調部120(カラーフィルタ122および色変換層124のそれぞれ)は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。 The color modulation unit 120 (each of the color filter 122 and the color conversion layer 124) applies the material of each layer using a spin coat method, a roll coat method, a cast method, a dip coat method, etc., and then a photolithography method. It can form by patterning using etc.
本発明において、有機EL層240が青色ないし青緑色の光を発し、かつ十分な量の青色領域の成分を含んでいる場合、青色変換層124Bを用いなくてもよい。その場合には、青色フィルタ層122Bを通して色純度を向上させた青色光を発することが可能である。
In the present invention, when the
透明基板110の表示領域のうち、色変調部120を形成しなかった部分にはブラックマトリクス130が設けられる。すなわち、各副画素の間の領域および各画素の周囲にブラックマトリクス130が設けられる。ブラックマトリクス130は黒色材料から形成され、表示装置内部への外光入射を制限して、コントラスト比を向上させ、および有機EL素子2の接合部の視覚的認識を防止するのに有効な層である。ブラックマトリクス130は、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイに慣用的に用いられる材料を用いて形成することができる。ブラックマトリクス130は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。あるいはまた、スクリーン印刷法を用いてブラックマトリクス130を形成してもよい。
A
必要に応じて、色変調部120およびブラックマトリクス130を覆うように保護層140を形成してもよい。保護層140は、色変調部120およびブラックマトリクス130によって形成される凹凸を平坦化し、かつ色変調部120を周囲環境および有機EL素子2から隔離するためのするための層である。保護層140を形成するのに用いることができる有機材料は、たとえば、イミド変性シリコーン樹脂(たとえば特許文献3〜5参照)、アクリル、ポリイミドまたはシリコーン樹脂中に分散された無機金属化合物(TiO2、Al2O3、SiO2など、特許文献6、7参照)、エポキシ変性アクリレート樹脂、反応性ビニル基を含むアクリレートモノマー/オリゴマー/ポリマーのような紫外線硬化型樹脂(特許文献8参照)、レジスト樹脂(特許文献9〜12参照)、無機化合物(ゾル−ゲル法により形成されてもよい、特許文献13参照)、フッ素系樹脂などの光硬化型および/または熱硬化型樹脂(特許文献12、14参照)を含む。上記のような材料から保護層140を形成する際には、たとえば、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法など)、および湿式法(スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法など)などの、当該技術において知られている任意の方法を用いてもよい。
If necessary, the
さらに必要に応じて、保護層140の上にパッシベーション層を形成してもよい。パッシベーション層は、可視域における高い透明性(400〜700nmの範囲において透過率50%以上)、100℃以上のTg、鉛筆硬度2H以上の表面硬度を示す材料であって、ガスおよび水蒸気を遮断することができる材料から選択することができる。パッシベーション層を形成するのに好ましい材料は、SiOx、SiNx、SiNxOy、AlOx、TiOx、TaOx、ZnOxなどの無機酸化物または無機窒化物を含む。パッシベーション層は、前述の無機酸化物または無機窒化物の単一層であってもよく、あるいはそれらの複数を積層した積層構造を採ってもよい。パッシベーション層の形成には、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法など)、および湿式法(スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など)などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。
Further, a passivation layer may be formed on the
次に、本発明の有機EL素子2の構造を詳細に示す。
Next, the structure of the
基板210は、透明であっても不透明であってもよく、積層される層の形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい材料は、金属、セラミック、ガラス、シリコンなど半導体、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、基板として用いてもよい。有機発光層からの発光を基板210の側から取り出すボトムエミッション方式を採用する場合には、基板10は、波長400〜800nmの光に対して50%以上の透過率を有することが好ましい。透明な基板10としては、ガラス、シリコン、ならびにポリエチレンテレフタレートおよびポリメチルメタクリレート等の樹脂を用いることが好ましく、ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラスを用いることがより好ましい。
The
複数のスイッチング素子220は、複数の第1電極230のそれぞれと1対1で接続され、副画素の点灯/消灯を制御するための素子である。スイッチング素子は、たとえば薄膜トランジスタ(TFT)またはMIMなどの素子を用いて形成することができる。
The plurality of switching
第1電極230は、複数の部分から構成され、有機EL層240に対してキャリア(正孔または電子のいずれか)を注入するための電極である。
The
有機EL層240からの発光を第2電極250側から取り出すトップエミッション方式を採用する場合には、第1電極250は、反射性を有することが好ましい。反射性を有する第1電極250は、高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金と、導電性金属酸化物とを積層することによって形成することができる。導電性金属酸化物は、SnO2、In2O3、ITO、IZO、ZnO:Alなどを含み、正孔注入効率を向上させるために設けることが望ましい層である。高反射率の金属は、Al、Ag、Mo、W、Ni、Crなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、NiP、NiB、CrPおよびCrBなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、NiAlなどを含む。高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金は、蒸着、スパッタなどの当該技術において知られている任意の方法で形成することができる。トップエミッション方式を採用する場合にも、第1電極250を陰極として用いることが可能である。この場合には第1電極250は、前述の高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金から形成される。あるいはまた、高反射率の金属と仕事関数の小さい金属との合金(たとえばMg/Ag合金など)を用いて第1電極250を形成してもよい。第1電極250を陰極として用いる場合、陰極の有機EL層240との界面に電子注入性のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
In the case of employing a top emission method in which light emitted from the
バッファ層の材料としては、Li、Na、K、またはCsなどのアルカリ金属、Ba、Srなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などの用いることができるが、それらに限定されるものではない。バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができるが、通常の場合には10nm以下であることが好ましい。 As the material of the buffer layer, alkali metals such as Li, Na, K, or Cs, alkaline earth metals such as Ba and Sr, alloys containing them, rare earth metals, or fluorides of these metals can be used. However, it is not limited to them. The film thickness of the buffer layer can be appropriately selected in consideration of the driving voltage, transparency, and the like, but in a normal case, it is preferably 10 nm or less.
ボトムエミッション方式を採用する場合には、第1電極230は、SnO2、In2O3、ITO、IZO、ZnO:Alなどの導電性金属酸化物から形成される。導電性金属酸化物をスパッタ法を用いて積層することにより第1電極230を形成することができる。ボトムエミッション方式を採用する場合、第1電極230は、波長400〜800nmの光に対して好ましくは50%以上、より好ましくは85%以上の透過率を有することが好ましい。第1電極230は、通常50nm以上、好ましくは50nm〜1μm、より好ましくは100〜300nmの範囲内の厚さを有することが望ましい。ボトムエミッション方式において第1電極230を陰極として用いることも可能である。この場合には、陰極の有機EL層240との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
When the bottom emission method is employed, the
第2電極250は、一体として形成される共通電極であり、有機EL層240に対してキャリア(正孔または電子のいずれか)を注入するための電極である。
The
トップエミッション方式を採用する場合、第2電極250は有機EL層240からの発光に対する透明性が要求される。この場合には、第2電極250は、波長400〜800nmの光に対して好ましくは50%以上、より好ましくは85%以上の透過率を有することが好ましい。第2電極250は、SnO2、In2O3、ITO、IZO、ZnO:Alなどの導電性金属酸化物から形成される。第2電極250を陰極として用いる場合には、陰極の有機EL層240との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
When the top emission method is employed, the
ボトムエミッション方式を採用する場合、第2電極250は反射性電極である。この場合、第2電極250は、前述の高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金から形成される。あるいはまた、第2電極250が陰極である場合、高反射率の金属と仕事関数の小さい金属との合金(たとえばMg/Ag合金など)を用いて第2電極250を形成してもよい。第2電極250を陰極として用いる場合、陰極の有機EL層との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。また、ボトムエミッション方式を採用する場合に、第2電極250を陽極として用いることもできる。この場合には、前述の導電性金属酸化物と、反射性金属等との積層構造とすることが望ましい。導電性金属酸化物は、有機EL層側に配置されて正孔注入効率を向上させるために用いられる。
When the bottom emission method is employed, the
第1電極230および第2電極250に挟持される有機EL層240は、有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および/または電子注入層を含む。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有して形成される。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
(1)有機発光層
(2)正孔注入層/有機発光層
(3)有機発光層/電子注入層
(4)正孔注入層/有機発光層/電子注入層
(5)正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(7)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
(上記の構成において、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される)
The
(1) Organic light emitting layer (2) Hole injection layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron injection layer (4) Hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer (5) Hole transport layer / Organic light emitting layer / electron injection layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer (7) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection Layer (In the above configuration, the electrode functioning as the anode is connected to the left side, and the electrode functioning as the cathode is connected to the right side)
有機発光層の材料は、所望する色調に応じて選択することが可能であり、例えば青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、スチリルベンゼン系化合物、または芳香族ジメチリデイン系化合物などの1つまたは複数の材料を使用することが可能である。あるいはまた、前述の材料をホスト材料として用い、これにドーパントを添加することによって有機発光層を形成してもよい。ドーパントとして用いることができる材料としては、たとえばレーザ色素としての使用が知られているペリレン(青色)などを用いることができる。 The material of the organic light emitting layer can be selected according to the desired color tone. For example, in order to obtain light emission from blue to blue-green, fluorescent whitening such as benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole It is possible to use one or more materials such as agents, styrylbenzene compounds, or aromatic dimethylidene compounds. Alternatively, the organic light emitting layer may be formed by using the above-mentioned material as a host material and adding a dopant thereto. As a material that can be used as a dopant, for example, perylene (blue), which is known to be used as a laser dye, can be used.
電子輸送層の材料としては、PBD、TPOBのようなオキサジアゾール誘導体;TAZのようなトリアゾール誘導体;トリアジン誘導体;フェニルキノキサリン類;BMB−2T、BMB−3Tのようなチオフェン誘導体;アルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq3)のようなアルミニウム錯体などを用いることができる。 Materials for the electron transport layer include oxadiazole derivatives such as PBD and TPOB; triazole derivatives such as TAZ; triazine derivatives; phenylquinoxalines; thiophene derivatives such as BMB-2T and BMB-3T; aluminum tris (8 An aluminum complex such as (quinolinolato) (Alq 3 ) can be used.
電子注入層の材料としては、Alq3のようなアルミニウム錯体、アルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属を添加したバソフェナントロリンなどを用いることができる。 As a material for the electron injection layer, an aluminum complex such as Alq 3 , an aluminum complex doped with an alkali metal or an alkaline earth metal, or bathophenanthroline added with an alkali metal or an alkaline earth metal can be used.
正孔注入層の材料としては、フタロシアニン(Pc)類(銅フタロシアニン(CuPc)などを含む)またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。 As a material for the hole injection layer, phthalocyanine (Pc) (including copper phthalocyanine (CuPc)) or indanthrene compounds can be used.
正孔輸送層の材料としては、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料(たとえばTPD、α−NPD、PBD、m−MTDATAなど)を用いることができる。 As a material for the hole transport layer, a material having a triarylamine partial structure, a carbazole partial structure, or an oxadiazole partial structure (for example, TPD, α-NPD, PBD, m-MTDATA, etc.) can be used.
前述の有機EL層240を構成する各層は、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。
Each layer constituting the
なお、上記の説明においては、スイッチング素子220を用いたアクティブマトリクス駆動型の有機EL素子について説明したが、本発明においてはパッシブマトリクス駆動型有機EL素子を用いることも可能である。パッシブマトリクス駆動型有機EL素子は、基板210上に、第1の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる第1電極230を形成し、その上に有機EL層240を形成し、さらに第2の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる第2電極250を形成することによって得ることができる。ここで、第1の方向と第2の方向とは互いに交差する方向であり、好ましくは直交する方向である。基板210、第1電極230、有機EL層240、第2電極250を形成する材料は、前述のものを用いることができる。
In the above description, the active matrix driving type organic EL element using the
必要に応じて、第2電極250以下の構造を覆うようなEL素子パッシベーション層を設けてもよい。EL素子パッシベーション層は、ガスおよび水蒸気を遮断することによって有機EL層の機能劣化を防止するのに有効であり、SiOx、SiNx、SiNxOy、AlOx、TiOx、TaOx、ZnOxなどの無機酸化物材料または無機窒化物材料を用いて形成することができる。EL素子パッシベーション層は、前述の無機酸化物または無機窒化物の単一層であってもよく、あるいはそれらの複数を積層した積層構造を採ってもよい。EL素子パッシベーション層の形成には、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法など)、および湿式法(スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など)などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。
If necessary, an EL element passivation layer may be provided so as to cover the structure below the
(実施例1)
40インチのSVGA規格(800×600画素、各画素はRGBの副画素から構成される)のディスプレイの作製を行った。本実施例では、400×300画素に相当する1200×300の発光部を有する有機EL発光素子(20インチ)を4枚用いた。RGB各副画素のサイズを0.148×0.704mm、副画素間の間隔は0.130mmとした。したがって、画素サイズは0.704mm×0.704mmであり、画素間隔は0.312mmであり、画素ピッチは1.016mmであった。
Example 1
A 40-inch SVGA standard display (800 × 600 pixels, each pixel is composed of RGB sub-pixels) was produced. In this example, four organic EL light emitting elements (20 inches) having a 1200 × 300 light emitting portion corresponding to 400 × 300 pixels were used. The size of each RGB subpixel was 0.148 × 0.704 mm, and the interval between subpixels was 0.130 mm. Therefore, the pixel size was 0.704 mm × 0.704 mm, the pixel interval was 0.312 mm, and the pixel pitch was 1.016 mm.
最初に20インチ有機EL素子(400×300画素相当)を形成した。 First, a 20-inch organic EL element (equivalent to 400 × 300 pixels) was formed.
最初に、コーニングガラス基板上に、第1電極の補助電極部として、抵抗率1.5×10−5[Ω・cm]のMoを膜厚300nm、幅100μmで堆積させた。Moの成膜にはDCマグネトロンスパッタ法を用い、Mo上にレジスト剤「OFRP−800」(商品名、東京応化製)を塗布した後、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行った。 First, Mo having a resistivity of 1.5 × 10 −5 [Ω · cm] was deposited on a Corning glass substrate as an auxiliary electrode portion of the first electrode with a film thickness of 300 nm and a width of 100 μm. A DC magnetron sputtering method was used for depositing Mo, and after applying a resist agent “OFRP-800” (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co.) on Mo, patterning was performed by a photolithography method.
次に、スパッタ法にてITOを全面成膜した。そしてITO上にレジスト剤「OFRP−800」(商品名、東京応化製)を塗布した後、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行い、RGB副画素に位置する、幅0.204mm、間隙0.074mm、膜厚100nmの縦方向に延びるストライプパターンからなる第1電極を形成した。本実施例においては、第1電極を陽極として用いた。 Next, ITO was formed on the entire surface by sputtering. Then, after applying a resist agent “OFRP-800” (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) on ITO, patterning is performed by a photolithography method, and the width is 0.204 mm, the gap is 0.074 mm, located in the RGB sub-pixel, A first electrode having a stripe pattern extending in the vertical direction with a thickness of 100 nm was formed. In this example, the first electrode was used as the anode.
次に、ポジ型フォトレジスト[WIX−2A](商品名、日本ゼオン製)を用いて、前記副画素に対応する開口部を除いて、基板面全面に厚さ1μmの絶縁膜を形成した。絶縁膜端部の基板面に対する角度は鋭角となっている。 Next, using a positive photoresist [WIX-2A] (trade name, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), an insulating film having a thickness of 1 μm was formed on the entire surface of the substrate except for the opening corresponding to the subpixel. The angle of the insulating film end with respect to the substrate surface is an acute angle.
本実施例では、絶縁膜としてポジ型フォトレジストを用いたが、他にアクリレート等のネガ型のフォトレジストや、ポリイミド材料、SiOx、SiOxNy、SiNx、TiOx等の無機酸化膜を用いることができる。 In this embodiment, a positive photoresist is used as the insulating film. However, a negative photoresist such as acrylate, or an inorganic oxide film such as a polyimide material, SiOx, SiOxNy, SiNx, or TiOx can be used.
絶縁膜の膜厚は、パネル駆動時に印加される電圧から算出される絶縁耐圧を持つ必要がある。本実施例に用いたポジ型フォトレジストではおよそ800nm以上の膜厚で形成することにより十分な絶縁耐圧を持つことができた。 The film thickness of the insulating film needs to have a withstand voltage calculated from the voltage applied when driving the panel. The positive photoresist used in this example could have a sufficient withstand voltage when formed with a film thickness of about 800 nm or more.
次に、ネガ型フォトレジスト[ZPN1100](商品名、日本ゼオン製)を用いて、隣接する画素間の中央に配置され、横方向(第1電極のストライプパターンと直交する方向)に延びるストライプパターンからなる厚さ4μmの隔壁を形成した。隔壁の幅は、画素間隙の間隔以下、好ましくは(画素間隙の間隔)−50μm以下であり、100μm以上であればよい。本実施例では、隔壁は逆テーパの断面形状を有し、隔壁の頂部幅は230μmであり、底部幅130μmであり、底部におけるピッチは1.016mmである。 Next, using a negative photoresist [ZPN1100] (trade name, manufactured by ZEON CORPORATION), the stripe pattern is arranged in the center between adjacent pixels and extends in the horizontal direction (direction orthogonal to the stripe pattern of the first electrode). A partition wall having a thickness of 4 μm was formed. The width of the partition wall is equal to or less than the interval of the pixel gap, preferably (interval of the pixel gap) −50 μm or less, and may be 100 μm or more. In this embodiment, the partition has a reverse taper cross-sectional shape, the top width of the partition is 230 μm, the bottom width is 130 μm, and the pitch at the bottom is 1.016 mm.
次いで、隔壁を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層および電子注入層を真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は1×10−4Paまで減圧した。正孔注入層として膜厚100nmの銅フタロシアニン(CuPc)を積層した。正孔輸送層として膜厚20nmの4,4’−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(α−NPD)を積層した。ホスト物質として4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)、ゲスト物質として4,4’−ビス[2−{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)を用いて膜厚30nmの有機発光層を積層した。電子注入層として膜厚20nmのアルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq3)を積層した。 Next, the substrate on which the partition walls were formed was mounted in a resistance heating vapor deposition apparatus, and a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron injection layer were sequentially formed without breaking the vacuum. During film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. As the hole injection layer, copper phthalocyanine (CuPc) having a thickness of 100 nm was stacked. As the hole transport layer, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD) having a thickness of 20 nm was laminated. 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) as the host material and 4,4′-bis [2- {4- (N, N-diphenylamino) phenyl} vinyl] as the guest material An organic light emitting layer having a film thickness of 30 nm was stacked using biphenyl (DPAVBi). As an electron injection layer, aluminum tris (8-quinolinolato) (Alq 3 ) having a thickness of 20 nm was stacked.
引き続いて、真空を破ることなしにメタルマスクを用いて、厚さ200nmのMg/Ag(10:1の重量比率)を堆積させて、陰極として用いる第2電極を形成した。第2電極は前述の隔壁によって分離され、幅0.786mm、間隙0.230mmの横方向に延びるストライプパターンから形成された。 Subsequently, using a metal mask without breaking the vacuum, Mg / Ag having a thickness of 200 nm (10: 1 weight ratio) was deposited to form a second electrode used as a cathode. The second electrode was formed by a stripe pattern extending in the lateral direction having a width of 0.786 mm and a gap of 0.230 mm.
最後に、表示部を含んで、20インチサイズ(406.4mm×304.8mm)に基板から切り出し、4枚の有機EL素子を得た。 Finally, including the display part, it cut out from the board | substrate to 20 inch size (406.4 mm x 304.8 mm), and obtained four organic EL elements.
次に、40インチの一体型の色変換フィルタを作製した。 Next, a 40-inch integrated color conversion filter was produced.
透明基板としてのコーニングガラス(845mm×645mm×1.1mm)上に、スピンコート法を用いて黒色色素を含むレジスト樹脂を塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、色変調部(副画素)を形成するための開口部を残して膜厚2μmのブラックマトリックスを形成した。 On a coning glass (845 mm × 645 mm × 1.1 mm) as a transparent substrate, a resist resin containing a black pigment is applied using a spin coating method, patterning is performed by a photolithographic method, and a color modulation unit (subpixel) A black matrix having a film thickness of 2 μm was formed, leaving an opening for forming ().
次に、青色フィルター材料(富士ハントエレクトロニクステクノロジー製:カラーモザイクCB−7001)をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、幅0.148mm、ピッチ1.016mm、膜厚6μmの縦方向に延びるストライプパターンを有する青色フィルタ層を形成して、青色変調部を得た。 Next, after applying a blue filter material (Fuji Hunt Electronics Technology: Color Mosaic CB-7001) by spin coating, patterning is performed by photolithography, width 0.148 mm, pitch 1.016 mm, film thickness 6 μm. A blue filter layer having a stripe pattern extending in the vertical direction was formed to obtain a blue modulator.
次に、蛍光色素としてのクマリン6(0.7重量部)を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート(PGMEA)120重量部へ溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂の[V259PA/P5」(新日鐵化成工業株式会社)100重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、青色フィルタ層を形成した透明基板上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、幅0.148mm、ピッチ1.016mm、膜厚10μmの縦方向に延びるストライプパターンを有する緑色変換層を形成して、緑色変調部を得た。 Next, coumarin 6 (0.7 parts by weight) as a fluorescent dye was dissolved in 120 parts by weight of a solvent, propylene glycol monoethyl acetate (PGMEA). To this solution, 100 parts by weight of photopolymerizable resin [V259PA / P5] (Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto a transparent substrate on which a blue filter layer is formed by using a spin coating method, and patterned by a photolithographic method. The longitudinal direction has a width of 0.148 mm, a pitch of 1.016 mm, and a film thickness of 10 μm. A green color conversion layer having a stripe pattern extending in a green color was formed to obtain a green color modulation part.
そして、蛍光色素としてのクマリン6(0.6重量部)、ローダミン6G(0.3重量部)、ベーシックバイオレット11(0.3重量部)を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート(PGMEA)120重量部へ溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂の「V259PA/P5」(商品名、新日鐵化成工業株式会社)100重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、上記の各層を形成した透明基板上に、スピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、幅0.148mm、ピッチ1.016mm、膜厚10μmの縦方向に延びるストライプパターンを有する赤色変換層を形成して、赤色変調部を得た。 Then, coumarin 6 (0.6 parts by weight), rhodamine 6G (0.3 parts by weight), and basic violet 11 (0.3 parts by weight) as fluorescent dyes were mixed with 120 parts by weight of propylene glycol monoethyl acetate (PGMEA) as a solvent. Was dissolved. To this solution, 100 parts by weight of a photopolymerizable resin “V259PA / P5” (trade name, Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto the transparent substrate on which each of the above layers is formed by using a spin coating method, and patterned by a photolithographic method, so that a vertical width of 0.148 mm, a pitch of 1.016 mm, and a thickness of 10 μm is achieved. A red conversion layer having a stripe pattern extending in the direction was formed to obtain a red modulation portion.
以上のようにRGB各色の色変調部を形成した透明基板上に、UV硬化型樹脂(エポキシ変性アクリレート)をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯にて照射し、膜厚5μmの保護層を形成して、40インチの色変換フィルタを得た。この時、各色変調部のパターンは変形がなく、かつ保護層上面は平坦であった。 As described above, a UV curable resin (epoxy-modified acrylate) is applied by spin coating on the transparent substrate on which the color modulation portions for each color of RGB are formed, and a protective layer having a thickness of 5 μm is applied by irradiation with a high-pressure mercury lamp. As a result, a 40-inch color conversion filter was obtained. At this time, the pattern of each color modulation part was not deformed, and the upper surface of the protective layer was flat.
次に、上記で得られた40インチサイズの色変換フィルタに、20インチサイズの有機EL素子を4枚貼り合わせる。最初に、20インチサイズの有機EL素子のガラス基板接合面(接合部270、280に相当する面)を、高精度な貼り合わせが可能なように高精度研磨剤で平滑に研磨仕上げした。高精度研磨剤としては、酸化セリウムまたは酸化ジルコニウムを添加した酸化セリウムを用いることができる。次に、平坦面を有する支持体を用意し、その上に有機EL素子のガラス基板を載置し、位置合わせを行い、紫外線硬化樹脂であるAVR200(スリーボンド社製、屈折率1.56)を用いて4枚の20インチサイズの有機EL素子の接合面を接合した。次いで、40インチサイズの色変換フィルタに粘性の低いアクリル系接着剤を均一に塗布した後にアライメント位置を確認しながら、上記で得られる20インチサイズのEL素子4枚からなる接合体を配置し、紫外線を照射して樹脂を硬化させた。
Next, four 20-inch organic EL elements are bonded to the 40-inch color conversion filter obtained above. First, the glass substrate bonding surface (surface corresponding to the
最後に、上記の組合せにより得られた色変換フィルタ/有機EL発光素子積層体の有機EL発光素子側(すなわち、両電極および有機EL層の積層体側)を、グローブボックス内の乾燥窒素雰囲気(酸素および水分濃度ともに10ppm以下)下において、封止缶(ガラス製または金属製のものを用いることができる)を用いて封止した。 Finally, the organic EL light emitting element side of the color conversion filter / organic EL light emitting element laminate obtained by the above combination (that is, the laminate side of both electrodes and the organic EL layer) is placed in a dry nitrogen atmosphere (oxygen) in the glove box. And a water concentration of 10 ppm or less) were sealed with a sealing can (glass or metal can be used).
得られた40インチディスプレイは、16〜30Vの駆動電圧を印加することにより100〜300cd/m2の輝度で発光した。 The obtained 40-inch display emitted light with a luminance of 100 to 300 cd / m 2 by applying a driving voltage of 16 to 30V.
(実施例2)
4枚の20インチサイズの有機EL素子からなる接合体の形成を、有機EL素子のガラス基板接合面間にポリエステルのフィルム状樹脂を挟み込んで、接着剤による接合を行うこと以外は、実施例1と同様の手順を用いて、20インチサイズの有機EL素子4枚および40インチサイズの色変換フィルタを用いた40インチディスプレイを形成した。用いたポリエステルのフィルム状樹脂の厚さを25μm以下とすることによって、接着剤の充填不良による有機EL素子接合端面での乱反射を防止し、有機EL素子の接合端面が視覚的に認識されるのを防止する効果を有する。
(Example 2)
Example 1 except for forming a joined body composed of four 20-inch size organic EL elements by sandwiching a polyester film-like resin between the glass substrate bonding surfaces of the organic EL elements and bonding them with an adhesive. A 40-inch display using four 20-inch organic EL elements and a 40-inch color conversion filter was formed using the same procedure as described above. By making the thickness of the polyester film-like resin used 25 μm or less, irregular reflection on the organic EL element joint end face due to poor filling of the adhesive is prevented, and the joint end face of the organic EL element is visually recognized. Has the effect of preventing.
1 色変換フィルタ
2(a〜d) 有機EL発光素子
5 小型有機ELパネル
6 TFT
52、210 基板
54、220 スイッチング素子
56、230 第1電極
58(R,G,B) 有機EL層
60 分離壁
62、250 第2電極
64 保護層
66 透明シール
110 透明基板
120(R,G,B) 色変調部(副画素)
122(R,G,B) カラーフィルタ層
124(R,G,B) 色変換層
130 ブラックマトリクス
140 保護層
170(R,G,B) 小型副画素
240 有機EL層
270 横方向接合部
280 縦方向接合部
290 発光部
300 反射防止材料
500 接合領域
1 Color conversion filter 2 (ad) Organic EL
52, 210
122 (R, G, B) Color filter layer 124 (R, G, B)
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