JP4661745B2 - フィルタ装置および電子楽器 - Google Patents
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Description
ここに、fcはカットオフ周波数、fsはサンプリング周波数、ω0はカットオフ角周波数、Qは選択度を表す。
以下、基本波に基づいてリニアに減衰し或いは増強を始めるポイント(周波数)を基準周波数、サンプリング周波数fsの1/2の周波数における減衰量(dB)をゲイン、ゲインに対して所定の比率となるような周波数(本実施の形態においては、fs/2における減衰量の1/2となるような周波数)を遷移周波数と称する。また、基準周波数からのリニアに減衰し或いは増強する度合いを傾きと称する。傾きは、周波数軸をx軸、減衰量をy軸とする。
Impulse Resonance:無限インパルス応答)フィルタで実現し、フィルタ係数を、理想のフィルタ特性とほぼ同等となるように制御している。
b:e/d、c:f/d、d:1/d、e:b/d、f:c/d
と入れ替えることにより、正のゲイン特性のフィルタ係数を得ることができる。
レジスタ52:o[x+1,y]
レジスタ53:o[x,y+1]
レジスタ54:o[x+1,y+1]
減算器55により、レジスタ52の出力o[x+1,y]からレジスタ51の出力o[x,y]が減算され、かつ、乗算器56により、減算値とdxとが乗算される。その後、加算器57により、乗算値とo[x,y]とが加算されてレジスタ58に格納される。したがって、レジスタ58には以下のような値が格納される。
=o[x+dx,y]
図9に示すように、これは、o[x,y]とo[x+1,y]との間をdxに基づいて直線補間したものに相当する。
(o[x+1,y+1]−o[x,y+1])*dx
=o[x+dx,y+1]
図9に示すように、これは、o[x,y+1]とo[x+1,y+1]との間をdxに基づいて直線補間したものに相当する。
(o[x+dx,y+1]−o[x+dx,y])*dy
=o[x+dx,y+dy]
図9に示すように、出力値は、o[x+dx,y]とo[x+dx,y+1]との間をdyに基づいて補間したものに相当する。したがって、得られた出力値は、dx、dyに基づく二次元の補間値となる。
2 ROM
3 RAM
4 スイッチ類
5 タッチ検出回路
6 鍵盤
7 楽音発生回路
8 波形ROM
9 DAC
10 増幅回路
11、12 スピーカ
20 インタフェース
21 波形発生回路
22 フィルタ回路
23 乗算器
24 ミキサ
25 第1のエンベロープ発生回路
26 フィルタ係数算出回路
27 第2のエンベロープ発生回路
Claims (8)
- フィルタ係数の組を出力するフィルタ係数出力手段と、
外部より供給される、所定の周波数を有する楽音信号に対して、前記フィルタ係数出力手段より出力されたフィルタ係数の組により規定されるフィルタ特性に基づくフィルタ処理を施すフィルタ手段と、を備えたフィルタ装置であって、
前記フィルタ係数出力手段が、
供給される楽音信号の周波数により規定され、当該周波数の高低に伴って高低し、かつ、そこからフィルタのゲインの減衰或いは増強が開始される基準周波数から、ほぼ一定の度合いで前記フィルタのゲインが減衰或いは増強され、かつ当該フィルタのゲインの減衰或いは増強の度合いが、前記供給される楽音信号の強度が大きくなるのにともなって、大きくなるように変化するフィルタ特性となるように、
予め定められた所定の周波数における、前記基準周波数からのゲインの減衰或いは増強の最大レベルを第2のパラメータとし、かつ、ゲインのレベルが前記最大レベルから所定の比率となるような周波数である遷移周波数を第1のパラメータとして、
複数の第1のパラメータのそれぞれについて、第1のパラメータ及び最大レベルが異なる複数の第2のパラメータのそれぞれの組に基づく、フィルタ係数の組を複数種記憶したパラメータテーブルと、
前記供給される楽音信号の周波数及び強度に対応して決定される前記第1のパラメータ及び第2のパラメータにより、前記パラメータテーブルから、該当するフィルタ係数の組を取り出して前記フィルタ手段にする出力するフィルタ係数生成手段と、
を有することを特徴とするフィルタ装置。 - 前記フィルタ係数生成手段はさらに、前記第2のパラメータを時間の経過に伴って変化させるエンベロープ発生手段を有することを特徴とする請求項1に記載のフィルタ装置。
- 前記エンベロープ発生手段は、前記第2のパラメータに対して、その時間の経過に伴って変化する値を加減算することを特徴とする請求項1または2に記載のフィルタ装置。
- 前記パラメータテーブルは、前記第1のパラメータの第1の上位ビット及び第2のパラメータの第2の上位ビットからなる複数ビットのデータを入力として、対応する前記フィルタ係数の組を出力し、
前記フィルタ係数生成手段はさらに、前記フィルタ係数の組に含まれるフィルタ係数のそれぞれについて、
前記パラメータテーブルから出力されたフィルタ係数を、前記第1のパラメータの前記第1の上位ビットを除く所定の第1の下位ビット、及び、第2のパラメータの前記第2の上位ビットを除く所定の第2の下位ビットによって補間する補間手段を有することを特徴とする請求項1ないし3の何れか一項に記載のフィルタ装置。 - 前記補間手段は、前記第1の上位ビットを変化させることにより得られたフィルタ係数、その差分値及び前記第2の下位ビットにより得た第1の補間値と、第2の上位ビットを変化させた上で、前記第1の上位ビットを変化させることにより得られたフィルタ係数、その差分値及び前記第2の下位ビットにより得た第2の補間値と、前記第1の補間値及び第2の補間値の差分値及び前記第1の下位ビットにより得た第3の補間値と、を算出し、前記第3の補間値を補間されたフィルタ係数として出力することを特徴とする請求項4に記載のフィルタ装置。
- さらに、前記供給される楽音信号の強度に基づいて、前記第2のパラメータを生成する制御手段を備えたことを特徴とする請求項1ないし5の何れか一項に記載のフィルタ装置。
- 外部操作により発音すべき楽音の周波数及び強度を指示する発音指示手段と、
前記周波数に基づき第1のパラメータを生成するとともに、前記強度に基づき第2のパラメータを算出する制御手段と、
供給される楽音信号の周波数により規定され、当該周波数の高低に伴って高低し、かつ、そこからフィルタのゲインの減衰或いは増強が開始される基準周波数から、ほぼ一定の度合いで前記フィルタのゲインが減衰或いは増強され、かつ当該フィルタのゲインの減衰或いは増強の度合いが、前記供給される楽音信号の強度が大きくなるのにともなって、大きくなるように変化するフィルタ特性となるように、
予め定められた所定の周波数における、前記基準周波数からのゲインの減衰或いは増強の最大レベルを第2のパラメータとし、かつ、ゲインのレベルが前記最大レベルから所定の比率となるような周波数である遷移周波数を第1のパラメータとして、
複数の第1のパラメータのそれぞれについて、第1のパラメータ及び最大レベルが異なる複数の第2のパラメータのそれぞれの組に基づく、フィルタ係数の組を複数種記憶したパラメータテーブルと、
前記制御手段により算出された第1及び第2のパラメータに基づいて決定される周波数及びレベルに対応するフィルタ係数の組を前記パラメータテーブルから取り出すフィルタ係数生成手段と、
前記供給される楽音信号に対して、このフィルタ係数生成手段からのフィルタ係数の組により規定されるフィルタ特性に基づくフィルタリング処理を施して出力するフィルタ手段と、
を備えたことを特徴とする電子楽器。 - 前記フィルタ係数生成手段はさらに、前記第2のパラメータを時間の経過に伴って変化させるエンベロープ発生手段を有することを特徴とする請求項7に記載の電子楽器。
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