JP4620566B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、全体が100で表される、本発明の実施の形態1にかかる電力用の半導体装置の断面図であり、図2は、半導体装置100のIGBT2近傍の斜視図(樹脂筐体8を除く)である。
電極端子6BとCuリード4との接合部においては、Cuリード4が電極端子6Bより放熱板1側になるように、Cuリード4と電極端子6Bとが重ねられて接合される。
なお、Cuリード1の裏面には、樹脂筐体8よりもフィラーの添加量の多い、熱伝導率の高い絶縁シート9が固着されている。
まず、Cuブロック1を準備する。約280℃に加熱されたCuブロック1上にIGBT2の面積とほぼ同サイズにプリフォームされた板状はんだを載置する。以下のはんだ工程は、還元雰囲気炉中を通過するトンネル炉によって行われる。
なお、IGBT2の第一の主電極(接合領域)上には、予め、はんだとの濡れ性を良くするために、例えば無電解メッキ法等により厚さ5μm程度のNi膜を形成しておくことが好ましい。
また、Cuリード4の曲げ精度が、接合部に律則した0.05mmではなく、半導体素子(IGBT2)や放熱板(Cuブロック1)との絶縁距離に律則するため、0.2mmとすることが可能となり、Cuリード4のコストを約20%削減することが可能となった。
図5は、全体が200で表される、本発明の実施の形態2にかかる電力用の半導体装置の断面図である。図5中、図1と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
本実施の形態にかかる半導体装置200では、Cuリード4の端部が、Cuブロック1の表面端部から約5mm突出しているため、Cuリード4と電極端子6Bとの接合部に容易に圧力を加えることができる。
また、数MPaの加圧力を必要とする抵抗溶接、抵抗ロウ付け、超音波接合など複数の接合方法から適した方法を選択することが可能となる。このため、例えば、100A以下の使用電流の小さい半導体装置においてはスポット溶接を、300Aを超えるような使用電流の大きい半導体においては、接続面積を拡大させることが可能な抵抗ロウ付けなどを、適宜使用することができる。
図6は、全体が300で表される、本発明の実施の形態3にかかる電力用の半導体装置の断面図である。図7は、電力用の半導体装置300のIGBT2近傍の斜視図である。図6、7中、図1、2と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
図10は、本実施の形態4にかかる電力用半導体装置のIGBT2近傍の斜視図である。図10中、図1と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
Claims (6)
- 互いに対向する表面と裏面とを備えたブロック状の放熱板と、
該放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、
該半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、
該リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、
該リードに重心調整部材が固着され、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、該リードと該重心調整部材との重心が、半導体素子上にあることを特徴とする半導体装置。 - 互いに対向する表面と裏面とを備えたブロック状の放熱板と、
該放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、
該半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、
該リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、
該リードは、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、該リードの重心が半導体素子上になるように逆方向に延びたリードの一方を、他方に接続するように折り曲げてなることを特徴とする半導体装置。 - 上記電極端子と上記リードとの接合部において、該リードが該電極端子より上記放熱板側になるように、該リードと該電極端子とが重ねられたことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 上記リードは、上記放熱板の表面と略平行に延び、該放熱板の端部を超えて外方に延びた外方端部を有し、該外方端部に上記電極端子が取り付けられたことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 互いに対向する表面と裏面とを備えた放熱板を準備する工程と、
該放熱板の表面に互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子を固定する工程と、
該半導体素子の表面の接合領域に、リードを固定する固定工程と、
該リードに電極端子を取り付ける工程と含み、
該固定工程が、該接合領域に半田材を配置し、該半田材に該リードが接するように該リードを自立させた状態で該半田材を溶かし、該接合領域に該リードを固定する工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 上記固定工程後に、上記接合領域を挟んで違いに逆方向に延びた上記リードの一方を他方に接続するように折り曲げる工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
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