JP4595926B2 - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents
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Description
図1を参照すると、1は機関本体、2は各気筒の燃焼室、3は各燃焼室2内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結され、コンプレッサ7aの入口はエアフローメータ8を介してエアクリーナ9に連結される。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。
図7を参照するとまず初めにステップ50においてHC吸着触媒12の昇温制御中であるか否かが判別される。通常は昇温制御中でないのでステップ51に進み、図6(A)に示すマップから単位時間当りのHC吸着量Wが算出される。次いでステップ52ではHC吸着量ΣWにHC吸着量Wが加算される。次いでステップ53ではHC吸着量ΣWが許容HC吸着量WXよりも大きくなったか否かが判別され、NOx吸着量ΣWが許容HC吸着量WXよりも大きくなったときにはステップ54に進んでHC吸着触媒12の昇温制御が開始される。
図9を参照するとまず初めにステップ70においてHC吸着触媒12の昇温制御中であるか否かが判別される。通常は昇温制御中でないのでステップ71に進み、図6(A)に示すマップから単位時間当りのHC吸着量Wが算出される。次いでステップ72ではHC吸着量ΣWにHC吸着量Wが加算される。次いでステップ73では尿素供給弁16から供給される尿素供給量QAが算出される。
図6(B)を参照しつつ説明したようにHC脱離速度はHC吸着触媒12の温度TCが脱離開始温度を越えると急速に上昇し、従って図10(A)に示されるようにHC脱離速度はHC吸着触媒12の昇温速度が高くなるほど高くなる。従って図2の横軸を昇温速度に代えるとHCN排出濃度と昇温速度とは図10(B)に示されるような関係となる。ただし、図10(B)には図2と異なってHC吸着量が多い場合と少ない場合についてHCN排出濃度と昇温速度との2つの関係が示されている。
7 ターボチャージャ
12 HC吸着触媒
14 選択還元触媒
16 尿素供給弁
Claims (9)
- 機関排気通路内に尿素吸着型選択還元触媒を配置し、該選択還元触媒に流入する排気ガス中に尿素を供給することにより該選択還元触媒において排気ガス中に含まれるNOxを還元するようにした内燃機関の排気浄化装置において、シアン化水素の発生を抑制するために上記選択還元触媒上流の機関排気通路内に排気ガス中のHCを吸着するためのHC吸着触媒を配置し、上記選択還元触媒から流出する排気ガス中のシアン化水素濃度が予め定められた基準値以下となるように上記HC吸着触媒からのHCの脱離速度を抑制するようにした内燃機関の排気浄化装置。
- 上記HC吸着触媒がゼオライトからなる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記HC吸着触媒上に酸化触媒を担持させた請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記HC吸着触媒が吸着しうるHC吸着量として、HC吸着触媒からHCを脱離させたときに上記選択還元触媒から流出する排気ガス中のシアン化水素濃度が上記基準値以下となる許容HC吸着量が予め求められており、HC吸着触媒へのHC吸着量が該許容HC吸着量以下のときにHC吸着触媒からHCを脱離させるべくHC吸着触媒の昇温作用が行われる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記許容HC吸着量が一定値である請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記許容HC吸着量は上記選択還元触媒に吸着している尿素の量が多いほど小さくされる請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- HC吸着触媒の昇温制御開始時におけるHC吸着触媒へのHC吸着量が多いほど昇温速度が低くされる請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- HC吸着触媒へのHC吸着量を算出する算出手段を具備した請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。
- 上記HC吸着触媒と上記選択還元触媒との間の機関排気通路から該選択還元触媒を迂回するバイパス通路を分岐し、HC吸着触媒から流出する排気ガス中のHC濃度が予め定められた許容濃度以下のときには排気ガスを選択還元触媒内に送り込み、HC吸着触媒から流出する排気ガス中のHC濃度が予め定められた許容濃度以上になったときには排気ガスをバイパス通路内に送り込むようにした請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
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