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JP4584614B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

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JP4584614B2 JP2004123987A JP2004123987A JP4584614B2 JP 4584614 B2 JP4584614 B2 JP 4584614B2 JP 2004123987 A JP2004123987 A JP 2004123987A JP 2004123987 A JP2004123987 A JP 2004123987A JP 4584614 B2 JP4584614 B2 JP 4584614B2
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Description

本発明は液晶表示装置に係り、特に、その画素構成に改良を施した液晶表示装置に関する。
いわゆるアクティブ・マトリクス型の液晶表示装置は、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面に、並設された各ゲート信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設されるドレイン信号線とで囲まれた各領域を画素領域としている。
画素を囲む信号線のうち一方のゲート信号線からの信号によってオンされるスイッチング素子を介して一方のドレイン信号線からの信号を画素電極に供給する構成としているからである。
このことから、たとえばゲート信号線に沿って隣接される2個の画素を着目した場合、その間にドレイン信号線が走行する構成となっている(下記特許文献1参照)。
しかし、いわゆる画素の開口率を向上させるため、該2個の画素が占める領域の両側にそれぞれの画素に信号を供給させる各ドレイン信号線を配置させ、該各画素の間にドレイン信号線を配置させない構成のものも知られるに至った。(下記特許文献2参照)。
特開平9−80473号公報 特開平9−80472号公報
しかし、上述した構成からなる画素は、各信号線が形成された基板側に画素電極を形成するのが通常であり、該2個の各画素の画素電極も近接して配置させることを免れない。
この場合、画素電極との間に電界を発生せしめる対向電極、絶縁膜、画素電極を順次積層させる構成であって、該対向電極を2個の画素領域に跨ってそのほぼ全域に形成し、各画素領域の画素電極を一方向に延在し該方向と交差する方向に並設される複数の電極として形成する場合に、該2個の画素領域の境界部において、充分な輝度段差が得られないことが見出された。
このことから、該2個の各画素の画素電極を近接させて配置させるには制限が付され、充分な開口率を確保するための妨げになることが判明した。
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は、開口率を向上させた液晶表示装置を提供するにある。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
(1)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、基板上に、信号線を境界に有することなく互いに隣接する画素を備え、
これら各画素には、対向電極、絶縁層、前記対向電極との間に電界を発生せしめる画素電極が順次積層されて形成され、
前記画素電極は、前記対向電極に重畳して並設される複数の電極から構成されているとともに、隣接する他方の画素の画素電極に近接する部分を備え、
前記隣接する画素の境界部であって、前記画素電極が形成された層と前記基板との間に導電層を備え、
この導電層は、前記対向電極と電気的に接続されているとともに、その表面の前記基板からの高さが前記対向電極の表面の前記基板からの高さよりも高く設定されていることを特徴とする。
(2)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(1)の構成を前提とし、前記各画素を横切って形成される対向電圧信号線が前記対向電極上に直接接触して形成され、前記導電層は該対向電圧信号線の延在部で構成されていることを特徴とする。
(3)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(1)の構成を前提とし、前記基板と液晶を介して対向配置される他の基板の液晶側の面に、前記各画素の境界を画することなく、該各画素を囲んで形成されるブラックマトリクスを備えていることを特徴とする。
(4)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(1)の構成を前提とし、前記各画素のそれぞれの画素電極は、該各画素の境界と交差する方向に延在され該方向と交差する方向に並設される複数の電極を備えるとともに、前記各画素の境界とは反対側において互いに接続がなされた櫛状のパターンからなることを特徴とする。
(5)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(1)の構成を前提とし、対向電極および画素電極は透光性の導電膜で構成されていることを特徴とする。
(6)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(1)の構成を前提とし、互いに隣接する画素は、一対のドレイン信号線と一対のゲート信号線とで囲まれる領域に2個備えられていることを特徴とする。
(7)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(6)の構成を前提とし、一対のゲート信号線の間に該ゲート信号線と平行に対向電圧信号線が備えられ、この対向電圧信号線は前記対向電極上に形成されているととともに、前記導電層は該対向電圧信号線の延在部として構成されていることを特徴とする。
(8)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(1)の構成を前提とし、互いに隣接する画素は、一対のドレイン信号線と一対のゲート信号線とで囲まれる領域に4個備えられていることを特徴とする。
(9)
本発明による液晶表示装置は、たとえば、(8)の構成を前提とし、一対のゲート信号線の間に該ゲート信号線と平行に対向電圧信号線が備えられ、この対向電圧信号線は前記対向電極上に直接形成されているととともに、前記4個の画素を2個づつ画し、それぞれの2個の画素の境界に該対向電圧信号線の延在部として構成される前記導電層が形成されていることを特徴とする。
なお、本発明は以上の構成に限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
このように構成された液晶表示装置は、互いに隣接する画素電極の境界に信号線が存在しない画素領域があり、これらの各画素領域には対向電極、絶縁層、前記対向電極との間に電界を発生せしめる複数の画素電極が順次積層されて形成されている。
この場合、前記画素電極は、前記対向電極に重畳して並設される複数の電極から構成されており、画素の開口率を向上させんとした場合に、前記画素電極は隣接する他方の画素の画素電極に近接する部分を備えざるを得なくなる。
このため、一方の画素電極と隣接する画素電極に重畳する位置の対向電極との間に電界を発生してしまうことを免れず、隣接する画素の境界にて各画素の表示の区分が明瞭でなくなってしまうという不都合が生じる。
それ故、本願発明は、同一画素領域内の前記隣接する画素電極の境界部であって、前記画素電極が形成された層と前記基板との間に導電層を設け、この導電層を前記対向電極と電気的に接続させているとともに、その表面の前記基板からの高さが前記対向電極の表面の前記基板からの高さよりも高くなるようにしたものである。
すなわち、画素電極のうち同一画素領域内で隣接する画素電極に近接する部分において、隣接する画素電極に重畳する対向電極よりも距離的に近い部分に電界発生の集中部を前記導電層によって形成し、隣接する画素の対向電極との間に電界を発生させることを回避せんとしたものである。
これにより、隣接する画素の境界にて各画素の表示の区分を明瞭にでき、画素電極を隣接する他方の画素の画素電極に近接させて配置できるようになる。
以下、本発明による液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明をする。
図5は、液晶を介して互いに対向配置される透明基板のうち一方の透明基板SUB1の液晶側の面に形成された等価回路を示している。
透明基板SUB1の液晶側の面に、そのx方向に延在しy方向に並設されるゲート信号線GL(GL1〜GLend)、y方向に延在しx方向に並設されるドレイン信号線DL(DL1〜DLend)が形成されている。
この場合ドレイン信号線Lは、たとえば図中左側から右側にかけて、比較的距離が大きく、小さく、比較的距離が大きく、小さく、……というように配置されている。比較的距離が大きく配置された一対のドレイン信号線DLとゲート信号線GLとで囲まれた領域は画素領域を構成し、この画素領域には2個の画素が構成されるようになっている。
すなわち、図中x方向に、互いに隣接する画素の間にはドレイン信号線DLが走行する部分と走行していない部分とを有し、走行する部分には、両脇を除いて、2本のドレイン信号線DLが近接かつ並設されて走行するように構成される。これにより、ドレイン信号線DLを境界に有することなく互いに隣接する画素には、それぞれ該境界側と反対側に近接して配置されるドレイン信号線DLから信号が供給されるようになっている。
また、各画素領域には、その図中x方向に並設される画素群を横切って走行する対向電圧信号線CL(CL1〜CLend)が形成されている。この対向電圧信号線CLは各画素内に形成される後述の対向電極CTに信号を供給するようになっており、その両端のそれぞれは互いに共通に接続されている。該対向電圧信号線CLの全体的な電気的抵抗を低減させるためである。
各画素領域内には、それを囲む各ゲート信号線GLのうち一方のゲート信号線GL(図中下側)からの信号によってオンされる2個の薄膜トランジスタTFTが備えられている。画素領域内には2個の画素が形成されているためで、一方の薄膜トランジスタTFTは一方の画素の駆動を担当し、他方の薄膜トランジスタTFTは他方の画素の駆動を担当するようになっている。
図中左側に配置されるドレイン信号線DLからの信号(映像信号)は、図中左側に配置される薄膜トランジスタTFTを介して画素電極PXに供給されるようになっている。また、図中右側に配置されるドレイン信号線DLからの信号(映像信号)は、図中右側に配置される薄膜トランジスタTFTを介して画素電極PXに供給されるようになっている。
これら各画素電極PXは画素領域内に共通に形成された対向電極CTとの間にそれぞれ電界を生じせしめるようになっており、該対向電極CTは前記対向電圧信号線CLを介して前記映像信号に対して基準となる電圧信号が供給されるようになっている。
各ゲート信号線GLは走査回路(走査信号駆動回路)Vに接続され、この走査回路Vから各ゲート信号線GLに順次信号(走査信号)が供給されるようになっているとともに、各ドレイン信号線DLは信号回路(映像信号駆動回路)Heに接続され、この信号回路Heから前記走査信号の供給タイミングに合わせて信号(映像信号)が供給されるようになっている。
これら走査回路V、および信号回路Heはそれぞれ電源・コントローラによって制御され、それぞれ上述した走査信号および映像信号を生成するようになっている。
上述した説明では、この実施例の液晶表示装置における各画素において、互いに隣接する各画素は、その境界において信号線(ゲート信号線GL、ドレイン信号線DL)が走行されている個所と該信号線が走行されていない個所が存在することが明らかとなる。
図1は、前記各画素領域(ゲート信号線GLとドレイン信号線DLによって囲まれる画素領域)のうちx方向に並設される2個の画素領域を示した図である。この場合、上述したように各画素領域には2個の画素を有することから合計4個の画素が示されていることになる。一方の画素領域と他方の画素領域とは構成が同じことから以下の説明では一方の画素領域の構成のみについて説明をする。
なお、図3には図1の3a−3bにおける断面図を、図4には図1の4a−4bにおける断面図を示している。
まず、透明基板SUB1面において、後述のゲート信号線GLとドレイン信号線DLで囲まれて形成される画素領域にその周辺部を僅かに除いた中央部に対向電極CTが形成されている。この対向電極CTは、たとえば、ITO (Indium Tin Oxide)、ITZO(Indium Tin Zinc Oxide)、IZO (Indium Zinc Oxide)、SnO(酸化スズ)、あるいはIn2O3(酸化インジウム)等からなる透光性の導電層からなっている。画素のいわゆる開口率を向上させるためである。
そして、前記ゲート信号線GLが図中x方向に延在されy方向に並設されて形成されている。また、互いに隣接するゲート信号線GLのほぼ中央に該ゲート信号線GLと平行に対向電圧信号線CLが形成されている。これらゲート信号線GLと対向電圧信号線CLはたとえば同工程で形成され、したがって同一の材料層で形成されている。
対向電圧信号線CLは前記対向電極CTに直接積層されて形成され、これにより各対向電極CTは対向電圧信号線CLと電気的な接続が図れるようになっている。
なお、対向電圧信号線CLは画素領域の中央部から図中y方向の上下に極細の延在部を備え、この延在部は前記画素領域内に形成される2個の画素を画するようにして形成されている。換言すれば、ゲート信号線GLおよび対向電圧信号線CLに挟まれて形成される2個の画素の境界に前記延在部が形成されている。この延在部を構成する導電層CDの機能については後述する。導電層CDは対向電圧信号線CLと同一工程で一体的に形成されている。ドレイン信号線DLと平行に配置された部分にて機能を分離するため便宜上導電層CDとする。
対向電圧信号線CLが形成された面には、この対向電圧信号線CLをも被って絶縁膜GIが形成されている。この絶縁膜は後述する薄膜トランジスタTFTの形成領域においてゲート絶縁膜としての機能を有するものである。
そして、この絶縁膜の上面であってゲート信号線GLと重畳するようにしてたとえばアモルファスの半導体層ASが形成されている。この半導体層ASは画素領域の左右側にそれぞれ別個の2個のそれからなっている。それぞれの部分において薄膜トランジスタTFT(TFT1、TFT2)を形成せんがためである。
これら薄膜トランジスタTFTはそれぞれの半導体層AS上にドレイン電極SD1およびソース電極SD2を形成することにより、いわゆる逆スタガ構造のMIS(Metal Insulator Semiconductor)トランジスタが形成とされるようになるが、該ドレイン電極SD1およびソース電極SD2はそれぞれドレイン信号線DLの形成の際に同時に形成されるようになっている。
すなわち、図中y方向に延在されx方向に並設されるドレイン信号線DLが形成されている。これら各ドレイン信号線DLの配置は上述した通りで、2つの画素をそれら各画素に信号を供給する別個のドレイン信号線DLによって挟持するように配置されている。
この場合、一方の画素における薄膜トランジスタTFTおよび画素電極PXの構成は他方の画素との境界を中心に軸対称となっていることから、以下、一方の画素側における薄膜トランジスタTFTおよび画素電極PXについて説明をする。
一方の画素において、それに隣接するドレイン信号線DLの一部が延在され、その延在部は前記半導体層ASの上面に形成されることによって、前記ドレイン電極SD1が形成されている。また、前記半導体層ASの上面にこのドレイン電極SD1に対向配置された前記ソース電極SD2が形成され、このソース電極SD2は画素側に若干延在されて後述の画素電極PXとの接続を図るためのコンタクト部を備えたものとなっている。
このようにドレイン信号線DL、ドレイン電極SD1、およびソース電極SD2が形成された面にはこれらをも被って保護膜PASが形成されている。この保護膜PASは前記薄膜トランジスタTFTの液晶との直接の接触を回避させ該薄膜トランジスタTFTの特性劣化を防止させるようになっている。
そして、この保護膜の上面には画素電極PXが形成されている。この画素電極PXは、たとえば、ITO (Indium Tin Oxide)、ITZO(Indium Tin Zinc Oxide)、IZO (Indium Zinc Oxide)、SnO2(酸化スズ)、あるいはIn2O3(酸化インジウム)等からなる透光性の導電層からなっている。画素のいわゆる開口率を向上させるためである。
また、その一部は、前記保護膜PASに予め形成されたコンタクトホールCNを通して前記薄膜トランジスタTFTのソース電極SD2のコンタクト部に接続されている。
画素電極PXは図中y方向に沿って並設される複数の電極群から構成され、これら各電極は、それに接続される薄膜トランジスタTFTに映像信号を供給するドレイン信号線DL側において互いに接続された櫛状のパターンからなっている。
また、画素電極PXの各電極のそれらを互いに接続する側とは反対側の各端部は、隣接する他の画素との境界部に近接して延在され、これにより前記対向電圧信号線CLの延在部を構成する前記導電層CDに近接されて形成されている。
当該画素の画素電極PXを隣接する他の画素側への近接した延在は、前記導電層CDの存在によって可能ならしめるものである。
すなわち、該導電層CDが形成されていない場合を想定し、当該画素の画素電極PXを隣接する他の画素側へ近接して延在させた場合、該画素電極PXと他方の画素の対向電極CTとの間に電界が発生してしまうことを免れず、隣接する画素の境界にて各画素の表示の区分が明瞭でなくなってしまうという不都合が生じる。このため、前記導電層CDが存在しない場合において、前記画素電極PXの隣接する他の画素側への近接も制限が付され、画素の開口率の向上も限界が生じるのを否めなくなる。
したがって、上述のように前記導電層CDを設けることによって、該導電層CDを前記対向電極CTと電気的に接続させるとともに、その表面の前記基板SUB1からの高さが前記対向電極CTの表面の前記基板SUB1からの高さよりも高くなるようにした。図3に示す電気力線Exにて電界が集中している様子を表している。
すなわち、画素電極PXのうち他方の画素に近接する部分において、他方の画素の対向電極CTよりも距離的に近い部分に電界発生の集中部を前記導電層CDによって形成し、他方の画素の対向電極CTとの間に電界を発生させることを回避せんとした。
これにより、隣接する画素の境界にて各画素の表示の区分を明瞭にでき、画素電極PXを隣接する他方の画素の画素電極PXに近接させて配置でき、画素の開口率の向上を図ることができる。
なお、画素電極PXの各電極は図中x方向に対して傾斜を有するように延在され、該傾斜は、ドレイン信号線DLによって囲まれる画素領域において、対向電圧信号線CLおよびその延在部を構成する導電層CDに対してそれぞれ軸対称となる関係でそれぞれ傾きが異なっている。いわゆるマルチドメイン効果を図らんとしているからである。
そして、これら画素電極PXが形成された面には該画素電極PXをも被って配向膜OIL1が形成されている。この配向膜OIL1は液晶LCと直接に接触し該液晶LCの分子の初期配向を決定づけるようになっている。
なお、液晶を介して対向配置される透明基板SUB2の液晶側の面には、ブラックマトリクスBMが形成され、このブラックマトリクスBMは、ドレイン信号線DLによって囲まれた2個の画素を一単位とし隣接する他の画素領域と画するようにして形成されている。換言すれば、該ブラックマトリクスBMの開口部(一つの開口部)からは互いに近接された2個の画素が目視できるようになっており、該2個の画素の境界はブラックマトリクスBMによって画されていないようになっている。前記ブラックマトリクスBMの開口部は図1に重ねて記載しており、太線の一点鎖線で示している。
そして、ブラックマトリクスBMの開口部には該ブラックマトリクスBMをも被ってカラーフィルタFILが形成され、このカラーフィルタFILは前記2個の画素の境界部の左右で色が異なるものとして形成されている。
図2は、x方向に並設される4個の画素を示し、そのうち図中左側の2個の画素および右側の2個の画素はブラックマトリクスBMに形成された各開口部から目視されるようになっている。そして、各画素に対応して、図中左側の画素から赤色(R)、緑色(G)、青色(B)赤色(R)のカラーフィルタFILが形成されている。
この場合、ドレイン信号線DLによって囲まれる2個の画素におけるそれぞれ色の異なる各カラーフィルタFILは重畳されることなく形成されるのが好ましいが、若干重畳されて形成されることは否めない。しかし、この場合にあっても対向電圧信号線CLの延在部を構成する前記導電層CDとの対向部分内にあることから、遮光がなされ、その不都合を回避することができる。
カラーフィルタFILが形成された面には平坦化膜OCが形成され、その平坦化膜OCの上面には配向膜ORI2が形成されている。
図6は上述した構成からなる液晶表示装置を駆動させる際の各信号を示した図で、その上側図において、ゲート信号線GLに供給する走査信号のオン信号Vgl(GL)およびオフ信号Vgh(GL)を、ドレイン信号線DLに供給する映像信号の“High”信号Vdhおよび“Low”信号Vdl(実際には階調によって電圧差を有する)を示している。また、下側図において、画素電極PXに印加される画素電圧Vpx(PX)を示している。なお、図中Vcom(CL)は対向電極CTに供給される対向電圧を示している。
実施例2.
上述した実施例では、ゲート信号線GLとドレイン信号線DLとで囲まれる画素領域に2個の画素を配置させた構成のものを示したものであるが、以下に示す実施例は、4個の画素を配置させた構成のものを示している。
すなわち、図11は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す等価回路図で、図5に対応した図となっている。
図5の場合と比較して異なる構成は、まず、ゲート信号線GL(GL1〜GLend)にあり、これらゲート信号線GLは、たとえば図中上側から下側にかけて、比較的距離が大きく、小さく、比較的距離が大きく、小さく、……というように配置されていることにある。
一方、各ドレイン信号線DL(DL1〜DLend)は、図5の場合と同様に、たとえば図中左側から右側にかけて、比較的距離が大きく、小さく、比較的距離が大きく、小さく、……というように配置されている。このため、隣接する一対のゲート信号線GLと一対のドレイン信号線DLとで囲まれた比較的面積の大きな領域には4個の画素が備えられるようになっていることにある。
図7は、互いに隣接する4個の画素の一実施例を示した平面図で、図1に対応した図となっている。なお、図9は図7の9a−9b線における断面図を、図10は図7の10a−10b線における断面図を示している。
図9および図10から明らかなように、層構造としては実施例1と同様に、透明基板SUB1の表面側から、対向電極CT、ゲート信号線GLおよび対向電圧信号線CL、絶縁膜GI、ドレイン信号線DLおよびドレイン電極SD1およびソース電極SD2、保護膜PAS、画素電極PX、および配向膜POL1が順次形成されている。
このことから、上述した各機能を有する層は、その一部において平面的に異なるパターンとして形成されていることになる。
図7において、一対のゲート信号線GLと一対のドレイン信号線DLで囲まれた画素領域には、その左上、左下、右上、右下にそれぞれ各画素が形成されている。
左上の画素は上側のゲート信号線GL上の左側に形成され該ゲート信号線GLによって駆動される薄膜トランジスタTFT4を介して左側のドレイン信号線DLから供給される信号によって駆動されるようになっている。左下の画素は下側のゲート信号線GL上の左側に形成され該ゲート信号線GLによって駆動される薄膜トランジスタTFT1を介して左側のドレイン信号線DLから供給される信号によって駆動されるようになっている。右上の画素は上側のゲート信号線GL上の右側に形成され該ゲート信号線GLによって駆動される薄膜トランジスタTFT3を介して右側のドレイン信号線DLから供給される信号によって駆動されるようになっている。そして右下の画素は下側のゲート信号線GL上の右側に形成され該ゲート信号線GLによって駆動される薄膜トランジスタTFT2を介して右側のドレイン信号線DLから供給される信号によって駆動されるようになっている。
対向電極CTは、一対のゲート信号線GLと一対のドレイン信号線DLとで囲まれた画素領域において僅かな周辺部分を除いて形成されている。
該画素領域の中央をx方向に走行する対向電圧信号線CLが形成され、この対向電圧信号線CLは前記対向電極CT上に直接形成されて該対向電極CTと電気的に接続されている。なお、この対向電圧信号線CLは該画素領域とx方向にて隣接する他の画素領域にも及んで形成され、それらの画素領域の対向電極CTと接続されているのは実施例1の場合と同様である。
そして、この対向電圧信号線CLには、実施例1の場合と同様、画素領域の中央から図中y方向の上下に延在する極細の延在部からなる導電層CDを有している。この導電層CDは、結果として、図中左上の画素と右上の画素との間、および左下の画素と右下の画素との間をそれぞれ画するように配置されている。
実施例1の説明で示したように、この導電層CDの透明基板SUB1からの表面の高さは対向電極CTの該透明基板SUB1からの表面の高さよりも高く形成されている。このため、保護膜PASの表面に形成される画素電極PXをその一部において前記導電層CDに近接して形成することによる不都合を回避できるようになる。
このことは、前記導電層CDを境にしてその左右の画素電極PXを互いに近接して配置でき、ひいては画素の開口率を向上させることができる。
保護膜PAS上に形成される画素電極PXは、4つの各画素において互いに電気的に分離して形成され、当該画素の薄膜トランジスタTFTに接続されている。
一つの画素の画素電極PXは図中x方向に延在しy方向に並設された複数の電極からなる電極群によって構成され、これら各電極は当該薄膜トランジスタTFTに映像信号を供給するドレイン信号線DL側の端部が共通接続された櫛状のパターンをなしている。
また、各電極の共通に接続された側とは反対側の端部は対向電圧信号線CLから図中y方向に延在された延在部からなる導電層CDに近接するまで延在させ、当該画素の占有面積を有効に拡大せしめている。
さらに画素電極PXの各電極はゲート信号線GLに対して僅かな傾斜を有して形成され、他の画素の画素電極PXの各電極は、当該画素の画素電極PXの各電極と、対向電圧信号線CLあるいはその延在部である導電層CDに対し、軸対称の関係があるようにそれぞれ異なった傾斜を有するようになっている。いわゆるマルチドメイン効果を充分なものとせんがためである。
ここで、前記対向電圧信号線CLは、この実施例の場合、それを画素領域(一対のゲート信号線GLと一対のドレイン信号線DLを囲む領域)の中央に走行させるようにして配置したため、その延在部である前記導電層CDと同様な機能を有するとともに、その両脇のうち一方の側に配置される2個の画素と他方の側に配置される2個の画素とを画する機能をも有する。
しかし、この対向電圧信号線CLは、必ずしも画素を画することも目的として形成されなくてもよい。すなわち、該対向電圧信号線CLは、他の実施例として、一方のゲート信号線GL側に近接させて配置させるようにしてもよいからである。
この場合、4個の画素は一対のドレイン信号線DL、一方のゲート信号線GL、および前記対向電圧信号線CLによって画される領域内に形成されることになり、該対向電圧信号線CLによっても画されることなく配置されることになる。
そして、前記対向電圧信号線CLを一方のゲート信号線GL側に近接させて配置させた場合、図中左上の画素の画素電極PXと左下の画素の画素電極PXとの距離を近接させるため、および右上の画素の画素電極PXと右下の画素の画素電極PXとの距離を近接させるため、それらの境界にあって、前記各画素電極PXが形成された層と透明基板SUB1との間に導電層CDを備えるようにし(この結果、該導電層CDは十字形のパターンとして形成される)、この導電層CDは、対向電極CTと電気的に接続させるとともに、その表面の前記透明基板SUB1からの高さが前記対向電極CTの表面の前記透明基板SUB1からの高さよりも高く設定するようにする。前記導電層CDは具体的には前記対向電圧信号線CL(一方のゲート信号線CLに近接して配置させた対向電圧信号線CL)の延在部として構成することもでき、また、前記対向電圧信号線CLとは物理的に分離された状態で構成することもできる。
図8は、図7に示した画素の構成において、透明基板SUB2側に形成するブラックマトリクスBMとカラーフィルタFILを該画素と重畳させて描いた平面図である。
ブラックマトリクスBMの一つの開口からは、一対のドレイン信号線DLと一対のゲート信号線GLで囲まれた4個の画素が露出されている。また、カラーフィルタFILは、その色が図中y方向に並列される画素同士で共通となっており、図中x方向にたとえば図中左側から右側にかけて各画素ごとに赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、赤色(R)、……となる順序で配列されている。
上述した実施例は、そのいずれも、カラー表示の単位画素を3個の画素とし、それぞれの画素のカラーフィルタFILを赤色(R)、緑色(G)、青色(B)としたものである。
しかし、カラー表示の単位画素を4個の画素とし、それぞれの画素のカラーフィルタFILとして上述の色のものの他にカラーフィルタが設けられていないもの(便宜上ここでは白色(W)のカラーフィルタFILと称す)を有するように構成してもよいことはいうまでもない。
図12は、図2に対応した図で、図中x方向に並設される4個の画素、すなわちx方向に隣接されるブラックマトリクスBMの開口から露出される各画素に、たとえばその図中左側から右側にかけて、それぞれ赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、白色(W)の各カラーフィルタFILを重畳させて形成したようにしたものである。
図12の13a−13b線における断面図を図13に示している。同図から、透明基板SUB2の液晶側の面であって、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各カラーフィルタFILが形成されている面の前記白色(W)のカラーフィルタFILが形成される個所において、該カラーフィルタFILが形成されていないことが明らかになる。
また、図14は、図8に対応した図で、ブラックマトリクスBMの一つの開口から露出される4個の各画素にそれぞれ赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、白色(W)の各カラーフィルタFILを割り当てて構成している。
この場合、これら各画素はカラー表示用の単位画素を構成し、互いにブラックマトリクスに画されることなく隣接していることから、該単位画素における混色に信頼性を有するようになるという効果を奏する。
なお、上述した各実施例では、対向電極CTに、対向電圧信号線CLおよびその延在部である導電層CDを重畳させて形成したものである。しかし、前記対向電極CTは前記導電層CDの形成部分において物理的に分離して形成されていてもよいことはいうまでもない。
この場合、前記導電層CDは対向電極CT上に形成されないことになるが、それであっても、該導電層CDの表面の透明基板SUB1の表面からの高さが対向電極CTの表面の透明基板SUB1の表面からの高さよりも大きくなるように形成すれば、本願発明の効果が得られるからである。
また、上述した各実施例では、対向電極CT上に対向電圧信号線CTおよびその延在部である導電層CDを直接重ねて形成したものである。しかし、対向電極CTと対向電圧信号線CTおよびその延在部である導電層CDとの間に絶縁膜が介在されていてもよいことはいうまでもない。該導電層CDの表面の透明基板SUB1の表面からの高さが対向電極CTの表面の透明基板SUB1の表面からの高さよりも大きくなり、本願発明の効果が同様に得られるからである。
上述した各実施例はそれぞれ単独に、あるいは組み合わせて用いても良い。それぞれの実施例での効果を単独であるいは相乗して奏することができるからである。
本発明による液晶表示装置の一方の基板側に形成される画素の構成の一実施例を示す平面図である。 本発明による液晶表示装置の他方の基板側に形成される画素の構成の一実施例を示す平面図である。 図1の3a−3b線における断面図である。 図1の4a−4b線における断面図である。 本発明による液晶表示装置の等価回路の一実施例を示す図である。 本発明による液晶表示装置を駆動させる信号を示した図である。 本発明による液晶表示装置の他方の基板側に形成される画素の構成の他の実施例を示す平面図である。 本発明による液晶表示装置の他方の基板側に形成される画素の構成の他の実施例を示す平面図である。 図7の9a−9b線における断面図である。 図7の10a−10b線における断面図である。 本発明による液晶表示装置の等価回路の他の実施例を示す図である。 本発明による液晶表示装置の他方の基板側に形成される画素の構成の他の実施例を示す平面図である。 図12の13a−13b線における断面図である。 本発明による液晶表示装置の他方の基板側に形成される画素の構成の他の実施例を示す平面図である。
符号の説明
SUB……基板、GL……ゲート信号線、DL……ドレイン信号線、CL……対向電圧信号線、TFT……薄膜トランジスタ、PX……画素電極、CT……対向電極、GI……絶縁膜、PAS……保護膜、BM……ブラックマトリクス、FIL……カラーフィルタ、CD……導電層。

Claims (9)

  1. 基板上に、ドレイン信号線とゲート信号線で囲まれた複数の画素領域を備え、
    これら各画素領域には、対向電極、絶縁層、前記対向電極との間に電界を発生せしめるものでありそれぞれ異なる薄膜トランジスタに接続された複数の画素電極が順次積層されて形成され、
    前記対向電極は、前記画素領域内において、前記複数の画素電極に跨って形成され、
    前記画素領域内の複数の画素電極間であって、前記画素電極が形成された層と前記対向電極との間に導電層を備え、
    この導電層は、前記対向電極と電気的に接続されているとともに、その表面の前記基板からの高さが前記対向電極の表面の前記基板からの高さよりも高く設定されていることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記各画素領域を横切って形成される対向電圧信号線が前記対向電極上に直接接触して形成され、前記導電層は該対向電圧信号線の延在部で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記基板と液晶を介して対向配置される他の基板の液晶側の面に、前記ドレイン信号線と前記ゲート信号線に重畳する位置に形成されるブラックマトリクスを備えていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  4. 前記各画素領域のそれぞれの画素電極は、複数のスリットを有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  5. 前記対向電極および前記画素電極は透光性の導電膜で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  6. 前記画素領域内の前記画素電極は、2個備えられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  7. 一対の前記ゲート信号線の間に該ゲート信号線と平行に対向電圧信号線が備えられ、この対向電圧信号線は前記対向電極上に形成されているとともに、前記導電層は該対向電圧信号線の延在部として構成されていることを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
  8. 前記画素領域内の前記画素電極は、4個備えられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  9. 一対の前記ゲート信号線の間に該ゲート信号線と平行に対向電圧信号線が備えられ、この対向電圧信号線は前記対向電極上に直接形成されているとともに、前記4個の画素電極を2個つ画し、それぞれの2個の画素電極の境界に該対向電圧信号線の延在部として構成される前記導電層が形成されていることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
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