JP4570380B2 - メタノールの製造方法 - Google Patents
メタノールの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4570380B2 JP4570380B2 JP2004080674A JP2004080674A JP4570380B2 JP 4570380 B2 JP4570380 B2 JP 4570380B2 JP 2004080674 A JP2004080674 A JP 2004080674A JP 2004080674 A JP2004080674 A JP 2004080674A JP 4570380 B2 JP4570380 B2 JP 4570380B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methanol
- filter
- particles
- ion exchange
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
レジスト組成物の溶媒としては、その粘度が低くなるような溶媒が選択され、レジスト樹脂の種類や作業環境に応じて数種類の溶媒からなる混合溶媒が用いられる。その混合溶媒では、高沸点溶媒、中沸点溶媒、低沸点溶媒が組み合わされ、低沸点溶媒としては、樹脂溶解性が高いメタノールを使うことが多い。
また、近年、燃料電池の活物質にメタノール−水の混合液を用いることが検討されている。
また、メタノールは海外で製造されており、日本にはタンカーにより輸送されている。日本に輸送されたメタノールはタンクで一旦貯蔵された後、パイプラインで供給されたり、タンクローリー、ドラム缶、石油缶などに充填して供給されたりする。ところが、メタノールは酸素により容易に酸化されてホルムアルデヒドやギ酸になるので、純度が低くなる上に、メタノールに接触したイオンや金属を溶解させてしまうという問題があった。
本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、イオン成分、金属、パーティクル、ホルムアルデヒドやギ酸などの不純物含有量が少なく、レジスト組成物用や燃料電池用として好適であるメタノールの製造方法を提供することを目的とする。
本発明のメタノールの製造方法においては、最後のろ過に使用するフィルタが、フッ素樹脂またはポリエチレン樹脂から構成されたものであることが好ましい。
図1は、本実施形態例のメタノールの製造方法を行うためのメタノールの製造装置を模式的に示す図である。このメタノールの製造装置10は、蒸留塔から排出されたメタノールをろ過する第1のフィルタ11と、第1のフィルタ11を通してろ過したメタノールをさらにろ過する第2のフィルタ12と、第1のフィルタ11および第2のフィルタ12によりろ過したメタノールを処理するイオン交換膜13とを有して概略構成される。
また、第2のフィルタ12は、ポリエチレン樹脂から構成されたものであって、第1のフィルタ11より定格ろ過精度が小さいものである。ここで、定格ろ過精度とは、ろ過効率が99.9%以上になる粒子径のことであり、さらに、ろ過効率とは、(ろ過前のパーティクル数−ろ過後のパーティクル数/ろ過前のパーティクル数)×100(%)で求められる値のことである。つまり、定格ろ過精度が小さいほど、フィルタの目が細かい。
また、メタノールの製造装置10において、イオン交換膜13は、ポリエチレン膜の孔内部にH型イオン交換基が修飾されたものである。
まず、蒸留した直後のメタノールを第1のフィルタ11に通し、続いて、第1のフィルタ11を通過したメタノールを第2のフィルタ12に通してろ過する。次いで、第2のフィルタ12を通過したメタノールをイオン交換膜13に通して最終的なメタノールを得る。その際、メタノールを、第1のフィルタ11、第2のフィルタ12、イオン交換膜13に連続的に通してメタノールを連続的に製造する。
このメタノールの製造方法においては、第1のフィルタ11および第2のフィルタ12によるろ過で、メタノール中に含まれるパーティクルを除去する。また、イオン交換膜13では、メタノール中に含まれる金属イオンとイオン交換基のプロトンイオンとが交換されることで、金属イオンを除去する。さらには、イオン交換基のアニオンにパーティクルが吸着してメタノール中のパーティクルを捕捉する。なお、この吸着は、パーティクルがメタノール中でプラスに帯電しているために生じる現象である。
ここで、パーティクル数とは、リオン株式会社製パーティクルカウンタ(KL−22)を用い、流量100ml/分で測定した値である。
具体的には、メタノール中のナトリウム含有量は10ppb以下、カリウム含有量は3ppb以下、カルシウム含有量は10ppb以下になっている。このように、メタノールでは、ナトリウム、カリウム、カルシウム含有量が少ないため、メタノールをレジスト組成物に用いた場合に、電蝕を防止できる。また、メタノール中の鉄含有量が1ppb以下になっているので、鉄の磁性による電子部品の不具合を防ぐことができる。さらに、他の金属についても1ppb以下になっている。
ここで、メタノール中の金属含有量は、メタノール中に硝酸を添加した後に蒸発させ、次いで、純水を添加して測定試料とし、ICP−MS絶対検量線法で定量した値である。
また、上記製造方法で得られたメタノールは、ホルムアルデヒドやギ酸の含有量も少ない。
このような不純物量の少ないメタノールをレジスト組成物に用いた場合には、電蝕を抑制して回路の断線やショートの発生を防止できる。また、燃料電池に用いた場合には、固体電解質や触媒電極の寿命劣化を防止できる。したがって、本発明におけるメタノールは、レジスト組成物用や燃料電池用に好適である。
第1のフィルタ11の材質には制限はないが、パーティクル数をさらに少なくしたい場合にはポリエチレン樹脂またはフッ素樹脂から構成されたものが好ましい。また、第1のフィルタ11は、通常の純度のメタノールを製造する際のろ過に使用されるフィルタと共通のものであってもよい。
イオン交換膜13は、少なくともH型イオン交換基を有する膜であればよい。また、イオン交換膜13のイオン交換容量は、パーティクルおよび金属イオンの除去率がさらに高くなることから、15ミリ当量以上であることが好ましい。
まず、蒸留した直後のメタノールを第1のフィルタ11に通し、続いて、第1のフィルタ11を通過したメタノールを第2のフィルタ12である日本ポール株式会社製「ペンフロン」(ポリテトラフルオロエチレン樹脂製、定格ろ過精度:0.10μm、ろ過面積:1.1m2)に通して連続的にろ過した。そして、第2のフィルタ12を通過したメタノールをイオン交換膜13である日本ポール株式会社製「イオンクリーン」(イオン交換容量:16ミリ当量以上)に連続的に通して最終的なメタノールを得た。
このメタノールのパーティクル数と金属含有量を測定した。パーティクル数の測定結果を表1に、金属含有量の測定結果を表2に示す。
また、表2に示すように、上記製造方法によって得られたメタノールは、いずれの金属においても、その含有量が1ppb以下になっており、例えば、ナトリウム含有量、カリウム含有量、カルシウム含有量は0.1ppb未満、鉄含有量は0.4ppbになっていた。
12 第2のフィルタ(フィルタ)
13 イオン交換膜
Claims (2)
- 粒子径0.5μm以上のパーティクル数が30個/ml以下、粒子径0.3μm以上のパーティクル数が100個/ml以下、粒子径0.2μm以上のパーティクル数が200個/ml以下のメタノールの製造方法であって、
メタノールを、少なくとも2回フィルタに通してろ過した後、イオン交換膜に通す工程を有し、
前記フィルタを、下流側に向かうにつれて定格ろ過精度が小さくなるように配置し、最下流側のフィルタの定格ろ過精度を0.2μm以下にすることを特徴とするメタノールの製造方法。 - 最後のろ過に使用するフィルタが、フッ素樹脂またはポリエチレン樹脂から構成されたものであることを特徴とする請求項1に記載のメタノールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004080674A JP4570380B2 (ja) | 2004-03-19 | 2004-03-19 | メタノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004080674A JP4570380B2 (ja) | 2004-03-19 | 2004-03-19 | メタノールの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005263729A JP2005263729A (ja) | 2005-09-29 |
JP4570380B2 true JP4570380B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=35088634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004080674A Expired - Fee Related JP4570380B2 (ja) | 2004-03-19 | 2004-03-19 | メタノールの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4570380B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5762862B2 (ja) * | 2011-07-15 | 2015-08-12 | オルガノ株式会社 | アルコールの精製方法及び装置 |
TWI787224B (zh) | 2016-12-28 | 2022-12-21 | 日商日揮觸媒化成股份有限公司 | 二氧化矽粒子分散液之製造方法 |
JP6819713B2 (ja) * | 2019-03-27 | 2021-01-27 | 栗田工業株式会社 | 有機溶媒の処理方法及び処理材 |
CN114163305A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-03-11 | 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 | 降低1,4-丁二醇金属含量的纯化工艺及其纯化设备 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06157374A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | メタノール精製方法および装置 |
JPH09124523A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-13 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | メタノール中の亜鉛の除去方法および装置 |
-
2004
- 2004-03-19 JP JP2004080674A patent/JP4570380B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06157374A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | メタノール精製方法および装置 |
JPH09124523A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-13 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | メタノール中の亜鉛の除去方法および装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005263729A (ja) | 2005-09-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4085987B2 (ja) | フォトレジスト現像廃液の再生処理方法 | |
DE102007037246B4 (de) | Verfahren zum recyceln einer beschichteten bipolaren platte aus rostfreiem stahl | |
CN108404686A (zh) | 一种金属离子吸附污水分离膜的制备方法 | |
JP7072634B2 (ja) | ろ過装置、精製装置、及び、薬液の製造方法 | |
KR102295991B1 (ko) | 처리액, 키트, 기판의 세정 방법 | |
JP4570380B2 (ja) | メタノールの製造方法 | |
WO2013146909A1 (ja) | 膜モジュール及びその製造方法 | |
CN106154772A (zh) | 一种半导体凸块制程用正胶去胶液 | |
CN104772051A (zh) | 一种共聚物亲水改性超滤膜及其制备方法与应用 | |
US20190062159A1 (en) | Composition, composition reservoir, and method for producing composition | |
US11545307B2 (en) | Fabrication of capacitors and recovery of capacitor fabrication matertials | |
JP7067919B2 (ja) | ジヒドロキシナフタレンの精製方法 | |
CN107879388A (zh) | 一种利用颗粒稳定的泡沫快速净化水中重金属离子的方法 | |
TWI845936B (zh) | 多孔聚(環烯烴)膜 | |
JP2024026548A (ja) | 薬液、薬液収容体 | |
JP6986156B2 (ja) | 部材、容器、薬液収容体、反応槽、蒸留塔、フィルタユニット、貯留タンク、管路、薬液の製造方法 | |
Xue et al. | Characterization of a supported ionic liquid membrane used for the removal of cyanide from wastewater | |
TWI754080B (zh) | 構件、容器、藥液收容體、藥液的純化裝置、製造槽 | |
CZ20012814A3 (cs) | Způsob úpravy impregnovaného tělesa anody elektrolytického kondenzátoru | |
KR20200113262A (ko) | 여과 장치, 정제 장치, 약액의 제조 방법 | |
WO2022102263A1 (ja) | テトラアルキルアンモニウムイオンを含有する被処理液の精製方法および精製装置 | |
CN100376721C (zh) | 用于钼的化学蚀刻溶液 | |
JPH04171724A (ja) | 半導体基板の洗浄方法及び装置 | |
JPS61161500A (ja) | 電解除染廃液処理方法 | |
CN115845632B (zh) | 一种阴离子交换膜及其制备方法和应用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091020 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100713 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100810 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |