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JP4510298B2 - 例えば自動車用の三相交流ジェネレータのための整流器装置 - Google Patents

例えば自動車用の三相交流ジェネレータのための整流器装置 Download PDF

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Description

【0001】
従来技術
本発明は独立請求項記載の三相ブリッジ整流器装置に関する。DE 42 25 359C1により既に、相ごとに2つの半導体ダイオードを備えた三相ブリッジ整流器装置が公知であり、この三相ブリッジ整流器装置では個々のツェナーダイオードの電圧安定特性が利用される。しかしながらこの種の電圧安定性は、整流器装置を例えば42Vの比較的高い自動車搭載電源網電圧のために設計すべき場合には、通過させる電圧のリップル成分を所定のように最小にして確実な電圧制限を達成しようとすると、ツェナーダイオードの降伏電圧の製造許容差が過度に大きくなってしまう。
【0002】
発明の利点
それに対して有利には、独立請求項記載の特徴を有する本発明による三相ブリッジ整流器装置は、高い搭載電源網電圧に対しても確実な電圧安定性をブリッジ整流器装置自体によって達成される。殊に例えば、B+での作動電圧が42Vであり、B+での最大リップルが47Vであるときに、B+での電圧が55Vの値に達すると直ちに確実な電圧制限が達成される。
【0003】
従属請求項記載の手段によって、独立請求項記載の整流器の有利な実施形態及び改良が可能である。
【0004】
例えば、ツェナーダイオードペアを設けることによって、高い制限電圧を狭い許容差範囲でもって達成することができる。
【0005】
殊に有利には、高い制限電圧が、少なくとも2つのpn接合を3または4層ダイオードの形式のただ1つの半導体素子に組み込むことによって達成される。例えば降伏電圧の不安定性の問題は、ロードダンプ電流が大きかったり、降伏電圧が正の温度経過を有することによる過度の加熱の結果で生じるが、この問題点は阻止される。なぜなら、電圧が降伏の直後に小さな値に降下するからである。この小さな値とは、3層または4層素子が導通状態のままとなるのに必要な値である。
【0006】
図面の説明
本発明を図面の実施例に基づき以下詳細に説明する。図1はそれ自体は公知の整流器装置、図2は第1の実施例、図3は第2の実施例、図4は電流電圧グラフ及び図5は別の実施例をそれぞれ示す。
【0007】
実施例の説明
図1は、それ自体公知の三相ブリッジ整流器装置を示す。三相交流ジェネレータの3つの端子u、v及びwは、それぞれダイオードペア(1、4)、(2、5)ないしは(3、6)と接続されており、端子はそれぞれ直列に接続されたダイオードの中央タップとして構成されている。ダイオード4、5および6のアノードはアースに接続されており、ダイオード1、2及び3のカソードは整流器装置のプラス極B+に接続されている。
【0008】
端子u、v及びwに三相交流が印加されると、これは直流に変換される。この直流変換は三つの相の正の半波がプラス極に導かれ、負の半波がアース端子に導かれることによって。このためにそれぞれ互いに向き合って配置された整流器ダイオードは阻止方向に極性付けられている。B+において14または28Vの作動電圧を有する自動車搭載電源網のための電圧供給は、このようにして公知の半導体ダイオードを用いて行うことができる。図2は本発明による第1の実施例であり、図1と比較して個々のダイオード1〜6が直列に接続されたダイオードのペア11、12、13、14、15及び16により置換されている。すなわちダイオードペアは直列に接続された2つのpn接合を有するスイッチ素子である。
【0009】
この装置により、B+で42Vの作動電圧を有する自動車搭載電源網のための電圧供給が実現される。整流器装置は、B+での47Vの(三相交流ジェネレータのコイル装置によって生じる)リップルを可能にし、そして同時にB+での電圧を最大55Vに制限する。このために例えば、少なくとも14、15及び16のダイオードペアはツェナーダイオードとして構成されており、3つの三相交流相のうちの2つの組み合わせそれぞれに、逆直列に接続された2つのツェナーダイオードペアを備える少なくとも1つの電流経路が配置されている。これによって三相交流のそれぞれの相位置において、個々のツェナーダイオードの降伏電圧が相応に調整されていれば、B+での作動電圧は55Vの値を上回らないということが保証される。このことは、必要に応じて該当するツェナーダイオードペアが「降伏し」、すなわち該当する2つの三相交流相が短絡することによって行われる。
【0010】
個々のツェナーダイオードをツェナーダイオードペアの代わりに使用すると、例えばツェナーダイオードがB+において少なくとも47Vの最大リップルをさらにB+に導通すべきであり、しかも同時に電圧制限のための所定の限界が比較的47Vの近くにある(例えば上記の55V)場合に、上記のことを達成するのは非常に困難である。ツェナーダイオードでの降伏電圧に対する製造許容差は典型的に6Vであり、したがって例えば、47V〜53Vまでの範囲をカバーする。しかしながら実際の降伏は比較的高い電圧の際に行われる。何故ならば、阻止方向における内部抵抗はこの種の高い降伏電圧を有するツェナーダイオードでは相応に高く、そして付加的な電圧降下を引き起こすからである。この電圧降下はツェナーダイオード降伏が開始する際に行われる必要がある。
【0011】
その上例えば自動車では、比較的長い時間にわたって、ツェナーダイオードを加熱する大電流がダイオードを流れる。このことによってやはり、阻止方向のツェナーダイオードのそれ自体で既に高い内部抵抗がさらに高まり、さらにはアバランシェダイオードでの降伏電圧も正の温度経過を有し、これによって降伏のために必要とされる電圧をさらに高める。最終的に降伏自体の際に、すなわち「ロードダンプ」の場合においては大電流が流れ、この大電流は既述の正の温度経過の結果としての降伏電圧を高めることがあり、その結果降伏電圧はさらに上昇する。
【0012】
本発明による装置はこれに対してこの問題を次のようにして回避する。すなわち、全体降伏電圧をツェナーダイオードペア14、15ないし16の直列に接続された2つのツェナーダイオードの降伏電圧の和として実現することにより回避する。ここでこの2つのツェナーダイオードの各降伏電圧は全体降伏電圧の半分の大きさである。個々のダイオードは例えば、平均して24.5Vの降伏電圧を有し、同様に半分にされた許容差は±1.5Vである。ダイオードペアの結果として生じる降伏電圧は、この場合、47V〜51Vの範囲であり、√2×3Vの許容差範囲を有し、これは約4Vである。これはそれ自身単独で既に所要の降伏電圧を提供するであろう個々のダイオードに対して許容差範囲が2Vだけ減少されている。これに加えロードダンプの際に阻止方向に流れる大電流が、該当するダイオードペアの各ダイオードに発生する損失電力は半分だけとなり、pn接合の温度は明らかに低くなる。降伏電圧が半分であるので、ダイオードの内部抵抗も減少する。したがって結果として、最大電圧として要求される55Vを簡単に実現することができる。
【0013】
変形実施形態においては、ダイオードペア11、12及び13が、例えば60Vよりも大きな降伏電圧を有する高阻止性の個々のダイオードと置換されている。電圧制限はさらにツェナーダイオードペア14、15及び16によって保証される。別の実施形態においては、ダイオードペア11、12及び13は同様に、ダイオードペア14、15及び16のように、相応の降伏電圧を有するツェナーダイオードペアとして構成されている。このように形成されている場合には、3つの三相交流相のうちの2つの組み合わせのそれぞれの間に、それぞれ2つの逆直列に接続されたツェナーダイオードペアを有する2つの電流経路が存在し、その結果三相交流の2つの相の間で過電圧が生じた際には2つの降伏経路を開くことができる。このことによってダイオード当たりの電流は減少し、それとともに降伏電圧への温度の作用はさらに減少される。
【0014】
図3には、本発明による別の実施例が図示されており、図1と比較すると個々のダイオード1〜3は55Vよりも大きい降伏電圧を有する高阻止性のダイオード17、18及び19によって形成されており、単一のダイオード4〜6は半導体整流器素子20、21及び22と置換されている。整流器素子20、21及び22は、それぞれカソード短絡を有する4層ダイオードによって形成されていて、各4層ダイオードのアノードはアース端子に接続されている。4層ダイオードは、公知のようにカソード短絡を有するpnpn半導体層によって形成されており、そして3つのpn接合の直列接続である。アース端子と各相端子u、vないしwとの間に逆直列に接続された各4層ダイオードは、整流器装置のプラス極側B+でのダイオードタイプと同じ高阻止性のダイオードである。
【0015】
図3の装置の動作を説明するために図4は、4層ダイオードの電流電圧グラフ(I−Uグラフ)a及び整流器素子20、21ないし22の電流電圧グラフbを示す。順方向において、4層ダイオードはまず電圧U1(例えば50V)で導通接続され、したがって整流器素子では高阻止性のダイオードが4層ダイオードに並列に接続されて、順方向に極性付けられていれば(4層ダイオードのカソードが負電圧)、整流器素子による導通が保証される。これはただ1つのpn接合を有する通常の2層ダイオード(カーブb、導通電圧U2)の場合と同じである。これに対して阻止方向に極性付けられていれば、4層ダイオードないし整流器素子を流れる電流が折り返し電圧(Kippspannung)U3(例えば−50V)から非常に大きくなり、4層ダイオードは降伏し、そして電圧は導通接続された状態が持続している場合には阻止方向において非常に小さい値U4(例えば−1〜−2Vまで)に降下する。
【0016】
電圧特性のこの折り返しの際の電流の値は、いわゆる折り返し電流(Kippstrom)である。折り返し電圧U3及び折り返し電流の値は、4層ダイオードの相応の設計仕様によって選択することができる。したがって55Vに電圧制限するという要求は、本発明による整流器において使用される整流器祖素子を用いて容易に満たすことができる。図2の装置と比べると、12個の代わりにただ9個の半導体ダイオードチップが必要とされ、したがって低電圧搭載電源網用の図1の公知の設計の場合での6つよりもわずか3つ多いだけである。図2の解決策では、ダイオードの整流方向における損失電力は図1の公知の設計と比べて、ダイオードの数が2倍になっていることにより2倍にされているので、損失電力はダイオードチップの数が少なくなっていることに基づき比較的小さくなっている。それに加え有利には整流器機能では、整流器素子の降伏の際に電圧が大きく降下し、したがって付加的に損失電力は僅かなものとなり、そしてこれによって降伏電圧をより正確に規定することができる。
【0017】
変形実施形態においては、整流器素子20、21及び22は高阻止性のダイオード17、18及び19と置換することができる。またこの変形装置では、3つの三相交流相のうちの2つの組み合わせそれぞれに対して、2つの逆直列に接続された整流器素子によって与えられた少なくとも1つの降伏電流経路が保証されている。図3の別の変形実施形態において整流器素子20、21及び22は、高阻止性のダイオードを有する4層ダイオード(「サイリスタダイオード」)の並列接続の代わりに、3層ダイオード(「トランジスタダイオード」)によって形成される。各整流器素子はすなわち3層ダイオードによって形成される。3層ダイオードは公知の通り、カソード短絡を有するpnp半導体層によって形成され、2つのpn接合の直列接続である。3層ダイオードは公知の通り、既に図4におけるbで表されるI−U特性曲線を有し、並列接続された高阻止性のダイオードによる付加的な配線は必要ない。3層ダイオードではU4は典型的に−15Vである。したがってこの変形実施形態においては、高電圧搭載電源網のために全部で僅か6つの半導体チップだけが必要とされる。
【0018】
図5は、ダイオードペア11、12、13、14、15または16の機械的構造の側面図を示す。ダイオードペアのそれぞれの個々のダイオードは、押し込みソケット33ないし34を有する押し込みダイオード31ないし32として構成されている。半導体チップは図示されたダイオードケーシングの内部に配置されていて(図示されていない)、外部からヘッド線35ないし36及び押し込みソケット33ないし34を介してコンタクト可能である。両押し込みソケットは導電性にアルミニウム冷却板30を介して接続されており、そのアルミニウム冷却板では押し込みソケットがその形状に適合した2つの開口部に押し込まれている。
【0019】
個々のダイオードの直列接続を実現するために、半導体チップは押し込みダイオード31及び32に表面のレイアウトを変えて配置されていて、冷却板を介して一方のダイオードのカソードを他の一方のダイオードのアノードに電気的に接続する。ヘッド線は図2によれば、搭載電源網の三相交流端子ないし極(アース端子ないしB+)に電気的に接続されている(図5には図示されていない)。図2による整流器全体は、ここでは図5の6つの同じ冷却板装置から統合されており、6つの冷却板は例えばプラスチックからなる接続板に固定され、そして接続部は冷却板装置の間でプラスチックに鋳込まれている。
【0020】
図5の冷却板装置は、図3の整流器素子20、21及び22を実現するためにも使用することが可能であり、このことは押し込みダイオード31に4層ダイオードを備えた半導体チップを、そして押し込みダイオード32に高阻止性のダイオードを備えた半導体チップを配置することによって行われる。ダイオードのアノードは例えば、冷却板を介して4層ダイオードのカソードに電気的に接続されていて、反対側に配置された電極はヘッド線を介して互いにコンタクトされなければならず、また該当する三相交流相に接続されなければならない(図5には図示されていない)。
【0021】
図5に対して択一的に、ダイオードペア11〜16の機械的構造は冷却板30がなくとも実施することができ、これは2つの半導体ダイオードチップの直列接続が押し込みダイオードの1つのダイオードケーシング内に配置されることによっておこなわれる。このことによって、それぞれが1つの押し込みダイオードの形態で実現されるダイオードペアを、既に公知の整流器冷却板装置に使用することも可能である。このことは内部に1つの半導体チップを有する押し込みダイオードを新たな押し込みダイオードと単に置換されることによって行われる。その際、新たな押し込みダイオードを通る電流経路は、押し込みソケットからはんだ領域を介して第1のダイオードチップへと延在し、そこから別のはんだ領域を介して第2の半導体チップへ延在し、さらにそこから別のはんだ領域を介してヘッド線へと延在している。この別のはんだ領域は第1の半導体チップをその上に配置された第2の半導体チップに接続する。この構造は、ただ1つのダイオードチップを有する公知の装置の場合と同じように、通常のはんだ炉ではんだ接合することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 それ自体は公知の整流器装置である。
【図2】 第1の実施例である。
【図3】 第2の実施例である。
【図4】 電流電圧グラフである。
【図5】 別の実施例である。

Claims (3)

  1. それぞれ2つの整流器素子が直列に配置されている3つの整流器経路を備えた三相ブリッジ整流器装置であって、
    該整流器素子の間の各整流器経路は三相交流端子(u、v、w)の3つの線路のうちの1つに接続され、
    該整流器素子の、三相交流端子とは反対側にある3つのカソード端子はプラス極(B+)に、該整流素子の、三相交流端子とは反対側にある3つのアノード端子はマイナス極に一緒に接続されている三相ブリッジ整流器装置において、
    少なくとも3つの整流器素子が、直列に接続された少なくとも2つのpn接合を有する二極性の半導体整流器(11、12、13、14、15、16;11、12、13、20、21、22)によって形成されており、
    プラス極またはマイナス極に接続された半導体整流器は、直列に接続され、かつツェナーダイオードとして構成された半導体ダイオード(11、12、13、14、15、16)によって形成され、
    マイナス極に接続された前記半導体整流器はそれぞれ、高阻止性のダイオードを備えた4層ダイオードの逆並列接続によって形成されることを特徴とする、三相ブリッジ整流器装置。
  2. それぞれ2つの整流器素子が直列に配置されている3つの整流器経路を備えた三相ブリッジ整流器装置であって、
    該整流器素子の間の各整流器経路は三相交流端子(u、v、w)の3つの線路のうちの1つに接続され、
    該整流器素子の、三相交流端子とは反対側にある3つのカソード端子はプラス極(B+)に、該整流素子の、三相交流端子とは反対側にある3つのアノード端子はマイナス極に一緒に接続されている三相ブリッジ整流器装置において、
    少なくとも3つの整流器素子が、直列に接続された少なくとも2つのpn接合を有する二極性の半導体整流器(11、12、13、14、15、16;11、12、13、20、21、22)によって形成されており、
    プラス極またはマイナス極に接続された半導体整流器は、直列に接続され、かつツェナーダイオードとして構成された半導体ダイオード(11、12、13、14、15、16)によって形成され、
    マイナス極に接続された半導体整流器はそれぞれ3層ダイオードによって形成されることを特徴とする、三相ブリッジ整流器装置。
  3. 直列に接続された半導体ダイオード(11、12、13、14、15、16)はそれぞれ2つの半導体チップからなり、該半導体チップは互いにはんだ付けされ、共通のダイオードケーシングに配属されている、請求項1または2記載の整流器装置。
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