JP4495308B2 - 半導体デバイス試験方法・半導体デバイス試験装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は高速で書き込み、および読び出しが可能なメモリを装備した半導体デバイスを試験する場合に用いて好適な半導体デバイス試験方法およびこの試験方法を用いて動作する半導体デバイス試験装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
この発明に係わる従来の技術を説明する前に念のため一般的な半導体デバイスを試験するIC試験装置の概要を説明する。
図9中TESは半導体デバイス試験装置の全体を示す。半導体デバイス試験装置TESは主制御器13と、パターン発生器14、タイミング発生器15、波形フォーマッタ16、論理比較器12、ドライバ17、信号読取回路11、不良解析メモリ18、論理振幅基準電圧源19、比較基準電圧源21、デバイス電源22等により構成される。
【0003】
主制御器13は一般にコンピュータシステムによって構成され、利用者が作成した試験プログラムに従って主にパターン発生器14とタイミング発生器15を制御し、パターン発生器14から試験パターンデータを発生させ、この試験パターンデータを波形フォーマッタ16で実波形を持つ試験パターン信号に変換し、この試験パターン信号を論理振幅基準電圧源19で設定した振幅値を持った波形に電圧増幅するドライバ17を通じて被試験半導体デバイスDUTに印加し記憶させる。
【0004】
被試験半導体デバイスDUTから読み出した応答信号は信号読取回路11でその論理値を読み取る。論理比較器12は信号読取回路11で読み取った論理値がパターン発生器14から出力される期待値と比較し、期待値と不一致が発生した場合は、その読み出したアドレスのメモリセルに不良があるものと判定し、不良発生毎に不良解析メモリ18に不良アドレスを記憶し、試験終了時点で例えば不良セルの救済が可能か否かを判定する。
【0005】
図9は1ピン分の試験装置の構成を示すが現実には、この構成が被試験半導体デバイスDUTのピン数分は設けられ、各ピン毎にテストパターンの入力と、被試験半導体デバイスDUTの応答信号の取り込みが実行される。
以上は一般的な半導体デバイスを試験する試験装置の構成である。
ところで半導体で構成されるメモリの品種の中にはクロックと共にデータを入力しクロックに同期して半導体デバイスへデータを書き込み、クロックと共にクロックに同期したデータが半導体デバイスから出力され、このクロックのタイミングを利用してデータの受け渡しを行うメモリが存在する。
【0006】
図10にこの種のメモリの読み出し時の様子を示す。図10Aに示すDA、DB、DC…は半導体デバイスから出力されるデータ(ある1つのピンから出力されたデータ)を示す。TD1、TD2…は各テストサイクルを示す。図10Bに示すDQSはメモリから出力されるクロックを示す。データDA、DB、DC…はこのクロックDQSに同期して半導体デバイスから出力される。このクロックは実用されている状態では他の回路にデータDA、DB、DC…を受け渡す際の同期信号(データストローブ)として利用される。
【0007】
この種の半導体デバイスを試験する場合の試験項目の一つに、各クロックDQS(以下このクロックを基準クロックと称す)の立上りおよび立下りのタイミングから、データの変化点までの時間差(位相差)dI1、dI2、dI3…を測定する項目がある。これらの時間差dI1、dI2、dI3…が例えば極力短い程応答が速く優れた特性を持つデバイスとして評価される。この時間差の長短によって被試験半導体デバイスのグレードが決定される。
【0008】
被試験半導体デバイスから出力される基準クロックDQSは実用されている状態ではクロック源で生成されたクロックが半導体デバイスに印加され、このクロックが半導体デバイスの内部の回路に配給され、このクロックに同期してデータが出力される。従って、試験装置で試験を行う場合にも試験装置側から被試験半導体デバイスにクロックを印加し、そのクロックが被試験半導体デバイスの内部を通り、データと共にデータ受渡しのための基準クロックとして出力される。従って、この基準クロックの立上りと立下りのタイミングを測定し、この測定した立上りと立下りのタイミングからデータDA、DB、DC…の変化点までの時間dI1、dI2、dI3…を測定することになる。
【0009】
上述したように半導体デバイスから出力される基準クロックはその半導体デバイスの内部を通過して出力されるため、その立上りのタイミングおよび立下りのタイミングはこの半導体デバイスの内部及び温度等の外的環境の影響を大きく受け、図11に示すように各半導体デバイス毎に基準クロックDQS1、DQS2、DQS3…の位相に差が発生する現象が見られる。さらに位相の差は各半導体デバイスの違いによるものに加えて、半導体デバイスの内部でもアクセスするメモリのアドレスの違い、時間の経過(熱的な変化)に従って変動するいわゆるジッタJが発生する現象も見られる。
【0010】
従って、基準クロックDQSの立上りのタイミングおよび立下りのタイミングからデータDA、DB、DC…の変化点までの時間dI1、dI2、dI3…を正確に測定するためには、まず半導体デバイスから出力される基準クロックDQSの立上りのタイミングおよび立下りのタイミングを正確に測定しなければならない。
このため、従来は半導体デバイス試験装置に装備している信号読取回路のストローブパルスの印加タイミングを漸次移動させ、基準クロックDQSの立上りおよび立下りのタイミングを測定し、その測定結果を使って時間dI1、dI2、dI3…を測定している。
【0011】
図12に従来用いられている基準クロックDQSの立上りおよび立下りのタイミングを測定するための部分を示す。レベル比較器10は一対の電圧比較器CP1とCP2によって構成され、これら一対の電圧比較器CP1とCP2により被試験半導体デバイスDUTが出力する基準クロックDQSの論理値が正規の電圧条件を満たしているか否かを判定する。電圧比較器CP1は基準クロックDQSのH論理の電圧値が正規の電圧値VOH以上であるか否かを判定する。また電圧比較器CP2は基準クロックDQSのL論理側の電圧値が正規の電圧VOL以下であるか否かを判定する。
【0012】
これらの判定結果を信号読取回路11に入力し、この信号読取回路11で基準クロックDQSの立上りのタイミングおよび立下りのタイミングを測定する。信号読取回路11はストローブパルスSTBの印加タイミング毎にそのとき入力されている論理値を読み取る動作を実行する。
ストローブパルスSTBは図13に示すように各テストサイクル毎に少しずつ位相差(τT)が与えられて印加される。つまり、テストサイクル毎にストロー部パルスSTBが信号読取回路11に1個ずつ与えられて電圧比較器CP1およびCP2の出力の状態を読み取る動作を実行する。
【0013】
論理比較器12は信号読取回路11が出力する論理値と予め定めた期待値(図12の例ではH論理)とを比較し、信号読取回路11が出力する論理値が期待値と一致した時点でパス(良)を表わすパス信号PAを出力する。レベル比較器10の出力がH論理に反転したことを読み取ったストローブパルスSTB1(図13B)の発生タイミング(ストローブパルスSTBの発生タイミングは既知)から時間T1(図13C)を知り基準クロックDQSの立上りのタイミングを決定する。
【0014】
基準クロックDQSの立下りのタイミングを検出する場合はストローブパルスSTBの発生は基準クロックDQSのH論理に立上ったタイミングより後のタイミングで発生を開始し、立上りの検出と同様に電圧比較器CP2の出力がH論理に反転した状態を読み取ったストローブパルスにより立下りのタイミングを検定する。
上述したように、従来は基準クロックDQSの発生タイミングを半導体試験装置に装備している信号読取回路11とこの信号読取回路11に印加するストローブパルスSTBを用いたタイミング測定手段を利用して測定しているから基準クロックDQSの立上りおよび立下りのタイミングを測定するだけでもテストサイクルTDを何サイクルも繰り返し実行しなくてはならないため、時間がかかる欠点がある。
【0015】
しかも、基準クロックDQSの立上りおよび立下りのタイミングの測定は試験すべき被試験メモリの全てのアドレス、あるいは発熱によるジッタの影響を回避する場合には試験パターンの開始から終了までの全てにわたって測定しなければならないから、基準クロックの立上りおよび立下りのタイミングを測定するには長い時間が必要となる。
基準クロックDQSの立上りおよび立下りのタイミングを測定する時間を短くする方法としてはストローブパルスSTBに与える位相差τTを粗く採り、テストサイクルの実行回数を減らすことも考えられるが、ストローブパルスSTBに与える位相差τTを粗く変化させると、基準クロックDQSの立上りおよび立下りのタイミング測定の精度が低下し、この結果として基準クロックDQSとデータDA、DB、DC…の変化点までの時間dI1、dI2、dI3…の測定結果の信頼性が低下する欠点がある。
【0016】
これらの不都合を解消するために本出願人は平成12年1月18日付けで「特願2000−009113号:名称半導体デバイス試験方法・半導体デバイス試験装置」を提案した。
本発明の理解を容易にするために先に提案した半導体デバイス試験方法・半導体デバイス試験装置の概要を簡単に説明する。
図14はこの先に提案した半導体デバイス試験方法を用いて動作する半導体デバイス試験装置の要部の構成を示す。先に提案した半導体デバイス試験装置は図14に示すように、基準クロックDQSを出力するピンに対してレベル比較器10と、多相パルス発生器30と、複数の信号読取回路TC1、TC2、TC3、TC4、TC5…と、複数の比較判定手段PF1、PF2、PF3、PF4、PF5…と、これらの比較判定手段PF1、PF2、PF3、PF4、PF5…の判定結果を多相パルスの相番号に変換する変換手段31と、この相番号を記憶するメモリ32と、テスト時にメモリ32から読み出した相番号から、ストローブパルスSTBの発生タイミングを選択して出力するタイミング選択回路33と、このタイミング選択回路33で選択したタイミングでストローブパルスSTBを発生させるストローブ発生回路34とを設けた構成とした半導体デバイス試験装置を提案したものである。
【0017】
多相パルス発生器30はこの例では遅延時間がわずかずつ異なる値に設定された複数の遅延素子DY1、DY2、DY3、DY4、DY5…によって構成した場合を示す。各遅延素子DY1、DY2、DY3、DY4、DY5…の遅延時間に例えば100PS(ピコ秒)ずつの時間差を持たせることにより、100PSの時間差を持つ多相パルスを発生させることができる。
図15に多相パルスの一例を示す。テストサイクルTDの所定の位相位置から例えば100PSずつ、位相差が与えられた多相パルスP1、P2、P3、P4…が信号読取回路TC1、TC2、TC3、TC4、TC5…の各ストローブパルスの入力端子に与えられる。
【0018】
信号読取回路TC1、TC2、TC3、TC4、TC5…の各入力端子にはレベル比較器10からレベル比較結果を入力する。図14では、基準クロックDQSの立上りのタイミングを測定する場合の構成を示す。従って、信号読取回路TC1、TC2、TC3、TC4、TC5…の各入力端子にはH論理側のレベル比較を行う電圧比較器CP1の出力を入力している。
基準クロックDQSの立下り側のタイミングを測定する構成は図14では省略しているが、その構成は図12に示す構成と同様であり、その場合はL論理側のレベル比較を行う電圧比較器CP2の出力を多相パルスで読み込む構成とされる。
【0019】
図15に基準クロックDQSの立上りのタイミングを測定する様子を、また図16に基準クロックDQSの立下りのタイミングを測定する様子を示す。図15Aおよび図16Bは被試験半導体デバイスDUTの基準クロックを出力するピンから出力される基準クロックDQSの波形を示す。レベル比較器10を構成する電圧比較器CP1には比較電圧VOHが与えられ、基準クロックDQSのレベルが比較電圧VOHより高くなると電圧比較器CP1はH論理を出力する。
【0020】
従って電圧比較器CP1がH論理を出力した後に多相パルスで構成されるストローブパルスが印加されると、その信号読取回路はH論理を出力する。比較判定手段PF1、PF2、PF3、PF4、PF5…はそれぞれ期待値(この例ではH論理)と信号読取回路TC1、TC2、TC3、TC4、TC5…の各読み取り結果とを比較し、信号読取回路TC1、TC2、TC3、TC4、TC5…の出力とH論理の期待値とが一致すると一致を表わすH論理を出力する。
【0021】
各比較判定手段PF1、PF2、PF3、PF4、PF5…は更に前段(多相パルスの相順序が1つ若い番号の比較判定手段)の比較判定手段の判定結果と、自己の信号読み取り結果とを比較し、前段の比較判定結果と自己の信号読み取り結果との間に不一致が発生した状態で有効と判定し、有効を表わす判定結果を出力する。図15及び図16の例では比較判定手段PF4が有効を表わすH論理の判定結果を出力した場合を示す。
【0022】
図17に比較判定手段の一例としてPF4の具体的な構成の一例を示す。図17では基準クロックDQSの立下りのタイミングを測定する回路にも兼用できる構成とした場合を示す。従って、電圧比較器CP2の出力側に信号読み取り回路TC4´を接続し、信号読取回路TC4とTC4´のストローブ入力端子には図15及び図16に示した多相パルスP4及びTC4´がストローブパルスとして与えられる。
【0023】
比較判定手段PF4は期待値EXPと信号読取回路TC4及びTC4´の出力とを比較するゲートG1とG2及びこれらのゲートG1、G2の出力の論理和をとるオアゲートG3と、このオアゲートG3の出力と前段の比較判定結果との不一致を検出する不一致検出ゲートG4とによって構成することができる。
基準クロックDQSの立上りのタイミングは電圧比較器CP1と、信号読取回路TC4と、ゲートG1と、オアゲートG3と、不一致検出ゲートG4とからなる系路で検出することができる。基準クロックDQSの立上りのタイミングを測定する場合の期待値としてはH論理が与えられ、立下りのタイミングを検出する場合の期待値としてはL論理が設定される。H論理の期待値が設定されることにより、ゲートG1が有効となり、このゲートG1は信号読取回路TC4の出力がH論理に反転するか否かを監視する。
【0024】
信号読取回路TC4の出力がH論理に反転するとゲートG1の出力もH論理に反転し、そのH論理はオアゲートG3を通して不一致検出ゲートG4に入力される。不一致検出ゲートG4は例えば排他的論理和回路によって構成することができ、その一方の入力端子には前段の比較判定結果P/Fが与えられる。
前段の比較判定結果P/FがH論理でなく、自己の信号読取回路TC4の読み取り結果がH論理に反転した場合にだけ不一致検出ゲートG4はH論理を出力する。このH論理の出力は図14に示す変換手段31に入力されると共に、次段の比較判定手段、ここではPF5に供給される。次段の比較判定手段PF5では自己の信号読取回路PC5がH論理を出力するが前段の比較判定手段PF4からH論理が入力されているから不一致の検出結果は出力されず、L論理が出力される。
【0025】
この結果、基準クロックDQSのレベルがレベル比較のために設けた比較電圧VOHを越えた時点から最初に多相パルスが与えられた比較判定手段のみがH論理を出力することになる。尚、初段の比較判定手段PF1の不一致検出ゲートG4には前段の比較判定結果としてL論理を与える。これにより自己の信号読取回路TC1がH論理を出力するとH論理の不一致検出信号を出力し、テストサイクルTDの初期において基準クロックDQSが立上ったことを検出する。
【0026】
変換手段31は各比較判定手段PF1、PF2、PF3、PF4、PF5…の比較判定結果を取り込んで、可及的に小さいビット数のデータに変換する。つまり、先に提案した発明では比較判定手段PF1、PF2、PF3、PF4、PF5…の各判定結果が有効となる信号読取回路の読み取り結果を与えた多相パルスの相番号に変換する構成とした点を特徴とするものである。
図18に変換手段31の変換アルゴリズムを示す。信号読取回路TC1、TC2、…と比較判定手段PF1、PF2…はデバイスのスペックに対して測定精度を十分満足することのできるストローブ間隔で設定できるだけの個数を設けることが望ましいが、ここでは8個の比較判定手段PF1〜PF8が存在するものとして示している。8個の比較判定手段PF1〜PF8の何れか一つがH論理(図では1で示す)を出力すると、そのビット位置を数値1〜8に変換し、更にその数値から「1」を減算し、その減算結果をこの例では4ビットの数値データD0〜D7に変換した場合を示す。4ビットの数値データF0〜F7は多相パルスP1〜P8の相順序を表わす番号として取り扱うことができる。4ビットにより0〜15の16相分の番号に変換することができ、この相番号をメモリ32に記憶させる。
【0027】
このように例えば8ビットの比較判定結果を4ビットの相番号データに変換することにより、メモリ32の記憶空量を小さくできる利点が得られる。
【0028】
図19にタイミング選択回路33の概要を示す。タイミング選択回路33はストローブパルスSTBの発生タイミングを記憶したタイミングメモリ33Aと、このタイミングメモリ33Aに記憶した発生タイミングの何れかをメモリ32から読み出される測定結果にしたがって選択するセレクタ33Bとによって構成される。
タイミングメモリ33Aには例えば200PS、300PS、400PS、500PS…の16種類の時間値が記憶されている。この時間値は各テストサイクルTDの初期位相位置からの時間値に対応しており、測定した基準クロックDQSの立上りまたは立下りのタイミングを指し示している。この時間値で与えられるタイミングがこれから測定しようとするデータの変化点までの時間dI1、dI2、dI3…を測定する基準位相位置となる。この時間値をメモリ32に取り込んである測定結果に従って選択し、その選択された時間値をストローブ発生回路34に入力する。
【0029】
ストローブ発生回路34ではタイミング選択回路33から入力された時間値に被試験半導体デバイスDUTから読み出されるデータの変化点までの時間(予定値)を加算または減算し、その演算結果のタイミングでストローブパルスSTBを発生し、このストローブパルスSTBを信号読取回路11に印加して被試験半導体デバイスDUTから読み出されるデータの読取を実行させ、そのストローブパルスのタイミングでデータの変化点が存在するか否かを試験する。
【0030】
つまり、半導体デバイスの設計者は基準クロックDQSの立上り又は立下りのタイミングから半導体デバイスより読み出されるデータの変化点までの時間を予め設計値として把握している。従って、基準クロックDQSの立上り及び立下りのタイミングを予め測定し、そのタイミングを既知の値にしておくことにより基準クロックDQSの立上り及び立下りのタイミングから、予定した時間の範囲内にデータの変化点が存在したか否かを試験すれば正確な検査を実施することができることになる。
図20は多相パルス発生器30の変形実施例を示す。この実施例では互いに等しいわずかな遅延時間を持つ遅延素子DY1、DY2、DY3・・・を継続接続し、この継続接続された各遅延素子DY1、DY2、DY3・・・の各段間からわずかずつ位相差が与えられた多相パルスを発生させる構成として例を示す。
【0031】
【発明が解決しようとする課題】
先に提案した発明では被試験半導体デバイスを試験する試験パターン発生長の全長(全テストサイクル)に渡って基準クロックDQSのタイミングを測定し、その測定結果をメモリ32に格納し、この測定結果を利用して実際の試験を実行する試験方法を採ったから試験に要する時間が通常の2倍になる欠点がある。
この発明は試験パターン発生長の全長を1回実行するだけで試験を完了することができる半導体デバイス試験方法及び半導体デバイス試験装置を提案しようとするものである。
【0032】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項1では、被試験半導体デバイスから読み出される各データの立上り又は立下りのタイミングと、これらのデータに同期して出力される基準クロックの立上り又は立下りのタイミングのそれぞれをわずかずつ位相差が与えられた多相パルスで構成されたストローブパルスでサンプリング動作して各データのタイミングと基準クロックのタイミングとの位相差をそれぞれ計測し、この位相差が予め定めた範囲内であるか否かにより被試験半導体デバイスの良否を判定する半導体デバイス試験方法を提案する。
【0033】
この請求項2では、請求項1記載の半導体デバイス試験方法において、各テストサイクル毎に各テストサイクルの所定の位相位置から順次わずかずつ位相差が与えられた多相パルスを発生させ、この多相パルスを基準クロックの発生タイミングを検出するための信号読取回路と、各データの発生タイミングを検出するための信号読取回路のストローブパルスとして利用すると共に、基準クロックの変化点を検出したストローブパルスの相番号及び各データの変化点を検出したストローブパルスの相番号を基準クロック及び各データの位相と定め、この相番号の差の値が予定した値の範囲内であるか否かにより被試験半導体デバイスの良否を判定する半導体デバイス試験方法を提案する。
【0034】
この発明の請求項3では、請求項1記載の半導体デバイス試験方法において、各テストサイクル毎に各テストサイクルの所定の位相位置から順次わずかずつ位相差が与えられた多相パルスを発生させ、この多相パルスを基準クロックの発生タイミングを検出するための信号読取回路と、各データの発生タイミングを検出するための信号読取回路のストローブパルスとして利用すると共に、基準クロックの変化点を検出したストローブパルスの相番号と各データの変化点を検出したストローブパルスの相番号のそれぞれによって参照表をアクセスし、参照表から良否の判定結果を直接読み出す半導体デバイス試験方法を提案する。
【0035】
この発明の請求項4では、
A、被試験半導体デバイスが出力するデータの発生タイミングを計測するために設けられた複数組の信号読取回路と、
B、被試験半導体デバイスが出力する基準クロックの発生タイミングを計測するために設けられた1組の信号読取回路と、
C、信号読取回路のそれぞれの組にわずかずつ位相差が与えられた多相パルスで構成されるストローブパルスを印加する多相パルス発生手段と、
D、複数個の信号読取回路のそれぞれが読み取った結果を期待値と比較する複数組の比較判定手段と、
E、この複数組の比較判定手段の判定結果の中の基準クロックの変化点を検出したストローブパルスに基準相番号を与える基準相番号変換手段と、
F、複数組の比較判定手段の判定結果の中の各データの変化点を検出したストローブパルスのそれぞれにデータ相番号を与える複数のデータ相番号変換手段と、
G、これら基準相番号変換手段とデータ相番号変換手段が変換して基準相番号と各データ相番号との差を求める複数の位相差検出部と、
H、これら複数の位相差検出部が出力する位相差が所定の範囲内にあるか否かを判定する良否判定部と、
によって構成した半導体デバイス試験装置を提案する。
【0036】
この発明の請求項5では、
A、被試験半導体デバイスが出力するデータの発生タイミングを計測するために設けられた複数組の信号読取回路と、
B、被試験半導体デバイスが出力する基準クロックの発生タイミングを計測するために設けられた1組の信号読取回路と、
C、信号読取回路のそれぞれの組にわずかずつ位相差が与えられた多相パルスで構成されるストローブパルスを印加する多相パルス発生手段と、
D、複数組の信号の読取回路のそれぞれが読み取った結果を期待値と比較する複数組の比較判定手段と、
E、この複数組の比較判定手段の判定結果の中の基準クロックの変化点を検出したストローブパルスに基準相番号を与える基準相番号変換手段と、
F、複数組の比較判定手段の判定結果の中の各データの変化点を検出したストローブパルスのそれぞれにデータ相番号を与える複数のデータ相番号変換手段と、
G、基準相番号が一方のアドレスに入力され、各データ相番号が他方のアドレスに入力されて各データの発生タイミングが所定の範囲内か否かを参照し、その参照結果を良否判定結果として出力する複数の参照表と、
によって構成した半導体デバイス試験装置を提案する。
【0037】
この発明の請求項6では、請求項4又は5記載の半導体デバイス試験装置の何れかにおいて、
多相パルス生成手段は遅延時間がわずかずつ異なる複数の遅延素子によって構成され、これら複数の遅延素子にパルスを印加してわずかずつ位相差が与えられた多相パルスを発生させる構成とした半導体デバイス試験装置を提案する。
この発明の請求項7では、請求項4又は5記載の半導体デバイス試験装置の何れかにおいて、
多相パルス発生手段は同一遅延時間を持つ複数の遅延素子を継続接続し、この縦続接続した複数の遅延素子の各接続点から多相パルスを得る構成とした半導体デバイス試験装置を提案する。
【0038】
この発明の請求項8では、請求項4又は5記載の半導体デバイス試験装置の何れかにおいて、
複数の比較判定手段は多相パルスで構成されるストローブパルスの遅延時間が短い側から順にその比較判定結果を次に遅延時間が長い比較判定手段に出力し、各比較判定手段は各前段の比較判定結果と不一致を検出した比較判定手段のみから有効とする判定結果を出力させ、この有効とする判定結果の出力ビット位置を基準クロックの変換店を検出したストローブパルスの相番号に変換する構成とした半導体デバイス試験装置を提案する。
【0039】
【発明の実施の形態】
図1にこの発明の一実施例を示す。図1において、図14と対応する部分には同一符号を付して示す。この発明では被試験半導体デバイスが出力するデータD0、D1、…それぞれと、基準クロックDQSをレベル比較器10でレベル比較すると共に、そのレベル比較結果を信号読取回路40に供給し、基準クロックDQSは元より全てのデータD0、D1、…の立上り又は立下りのタイミングを多相パルス発生器30で生成した多相パルスで構成されるストローブパルスSTRBで測定する。ここでは図15で説明した立上りのタイミングを検出するものとして説明する。
【0040】
信号読取回路40の出力を比較判定手段50に入力し、この比較判定手段50で多相のストローブパルスの中のどの相のストローブパルスがデータD0、D1、…及び基準クロックDQSの立上りの変化点をとらえたかを判定する。
この比較判定手段50の判定動作は図17の説明と同様に変化点をとらえた相の比較部のみが優先的に「1」を出力するように構成される。
【0041】
比較判定手段50でどの相のストローブパルスがデータD0、D1、…と基準クロックDQSの変化点をとらえたかを判定すると、その判定結果をデータ相番号変化手段31Dと基準相番号変換手段31Rに入力し、データ相番号DN0と基準相番号RN0に変換する。
図2にこれらの相番号変換手段31Dと31Rの変換アルゴリズムを示す。図2に示す例では判定手段50で「1」論理を出力した相のビット位置をそのまま数値データF1、F2、F3、F4、F5、F6、F7、F8に変換し、この数位データF1〜F8をデータ相番号DN0と基準相番号RN0として出力させた場合を示す。
【0042】
データ相番号変換手段31Dで変換したデータ相番号DN0と基準相番号変換手段31Rで変換した基準相番号RN0はそれぞれ各データD0、D1、D2、D3…の立上りのタイミング及び基準クロックDQSの立上りのタイミングを規定する位相と定め、これらを位相比較部60で位相比較を行う。
図3に位相比較部60の具備例を示す。この例ではデジタル減算器を用いて位相比較部60を構成した場合を示す。プラス入力端子側にデータ相番号DN0を入力し、マイナス入力端子側に基準相番号RN0を入力する。
【0043】
従って、データ相番号DN0が図4に示すように「6」、基準相番号RN0が「3」であった場合は位相比較部60の出力XとしてはX=6−3=3が出力される。
また、データ相番号DN0が図5に示すように「3」、基準相番号RN0が「7」であった場合には位相比較部60の出力XはX=3−7=−4になる。
図6に良否判定手段70とスペック設定器71の構成の一例を示す。スペック設定器71はレジスタG1、G2で構成することができ、このレジスタG1、G2に利用者が被試験半導体デバイスに対応した仕様の設定値を設定する。ここではレジスタG1に「5」を設定し、レジスタG2に「0」を設定した場合を示す。
【0044】
良否判定手段70は2個の減算器U1、U2と、2個のエンコーダE1、E2と、オアゲートORとによって構成することができる。減算器U1のマイナス入力端子と減算器U2のプラス入力端子に位相比較部60の位相比較結果Xを入力し、減算器U1のプラス入力端子にスペック設定器71を構成するレジスタG1に設定した設定値「5」を入力し、減算器U2のマイナス入力端子にレジスタG2に設定した「0」を入力する。
【0045】
エンコーダE1と、E2は減算器U1及びU2の出力が正ならば0論理を出力し、負ならば1論理を出力する。
オアゲートORはエンコーダE1とE2の出力をオアゲートし、良否判定結果PASS/FAILを出力する。オアゲートORの出力が0のときパス(良)、1のときフェイル(不良)と判定する。
従って、図4に示す例の場合はX=3であるから、減算器U1の出力は5−3=2、減算器U2の出力は3−0=3であるから、エンコーダE1とE2の出力は共に0となりパスと判定される。
【0046】
一方、図5に示す例ではX=−4であるから、減算器U1の出力は5−(−4)=9、減算器U2の出力は−4−0=−4であるから、エンコーダE1の出力は0であるが、エンコーダE2の出力が1となり、これによりオアゲートORの判定出力は1となりフェイルと判定される。
つまり、この場合の設定例としてはデータの位相より基準クロックDQSの位相が遅れている場合は不良と判定するように設定した場合を示す。
【0047】
良否判定手段70の判定結果はスペック設定器71に設定する設定値により種々に変化するが、その判定結果は利用者の都合によって種々変更される。
図7はこの発明の変形実施例を示す。この実施例ではデータ相変換手段31Dと基準相変換手段31Rの各後段にメモリによって構成した参照表80を用意し、この参照表80から直接良否の判定結果PASS/FAILを出力させるように構成した場合を示す。
【0048】
この例では基準相番号RN0を参照表80を構成するメモリにXアドレスに入力し、各データ相番号DN0をメモリのYアドレスに入力した場合を示す。
図8Aにデータ相番号DN0と基準相番号RN0との差の値を表にして示す。図8Aに示す表において、利用者が例えば−2〜+2を良と判定しようとする場合には、参照表80には図6Bに示すように−2〜+2の範囲の記憶セルにパスをあらわすPを記憶させ、それ以外の記憶セルにはフェイルを表すFを記憶させる。
【0049】
このように記憶させることによりXアドレス基準相番RNOを印加し、Yアドレスにデータ相番号DNOを印加することにより−2〜+2の範囲に入っている位相差に関してはパスPが読み出され、それ以外の位相差に関してはフェイルFが読み出され、良否の判定が行われる。
【0050】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によればリアルタイムで基準クロックと各データの発生タイミングの位相差を測定し、その位相差が所定の範囲か、または基準クロックより速いか遅いか等を判定して、良否を判定できるから、試験パターンを開始から終了までの1巡だけ発生させるだけで試験を終了することができる。この結果、従来より短時間に試験を終了することができる利点が得られる。
また、位相比較部60の各出力値を試験開始から終了までの間メモリ等に記憶させることによりデータと基準クロックとの位相差のゆらぎ、或いはジッタ等を解析することができる利点も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の1実施例を説明するためのブロック図。
【図2】図1の動作を説明するための図。
【図3】図1に示した位相比較部の具体的な回路構造の一例を示すブロック図。
【図4】図3に示した位相比較部の動作を説明するためのタイミングチャート。
【図5】図4と同様の図。
【図6】図1に示した良否判定手段の回路構造を説明するためのブロック図。
【図7】この発明の変形実施例を説明するためのブロック図。
【図8】図7に示した参照表の内部構成の一例を示す図。
【図9】従来の技術としての半導体デバイス試験装置の概要を説明するためのブロック図。
【図10】データの読み出し出力と同期して基準クロックを発生する半導体デバイスの動作を説明するタイミングチャート。
【図11】図10で説明した半導体デバイスが出力する基準クロックにジッタが発生する様子を説明するためのタイミングチャート。
【図12】半導体デバイス試験装置における読み出し信号の良否を判定するレベル比較器と信号読取回路を説明するためのブロック図。
【図13】図9に示した従来の半導体デバイス試験装置において読み出した信号の発生タイミングを測定する方法を説明するためのタイミングチャート。
【図14】先願の技術内容を説明するためのブロック図。
【図15】図14に示した先願の動作を説明するためのタイミングチャート。
【図16】図14に示した先願の動作を説明するためのタイミングチャート。
【図17】図14に示した先願の実施例に用いた比較判定手段の動作を説明するためのブロック図。
【図18】図14に示した先願の実施例に用いた変換手段の動作を説明するための図。
【図19】図14に示したタイミング選択回路の構造を説明するためのブロック図。
【図20】先行技術における多相パルス発生器の変形例を示すブロック図。
【符号の説明】
10 レベル比較器
30 多相パルス発生器
31D データ相番号変換手段
31R 基準相番号変換手段
40 信号読取回路
50 比較判定手段
60 位相比較部
70 良否判定手段
71 スペック設定器
80 参照表
Claims (8)
- 試験パターンに応じて基準クロックとそれに同期した複数のデータとを出力する半導体デバイスの試験方法であって、
試験パターンの全テストサイクルに渡って、各テストサイクル内で、所定の位相位置から順次わずかづつ位相差が与えられた多相パルスを発生し、
各テストサイクル内で、被試験半導体デバイスから読み出される複数のデータと基準クロックとをそれぞれ上記多相パルスで構成されたストローブパルスでサンプリングして上記複数のデータそれぞれの多相サンプル出力と基準クロックの多相サンプル出力とを求め、
上記それぞれのデータの多相サンプル出力内で、隣り合った相のサンプル出力間で変化を生じたサンプル出力を検出して、当該変化を生じたサンプル出力をサンプリングしたストローブパルスの発生位相をそれぞれのデータの立上り又は立下りのタイミング位相として求め、かつ上記基準パルスの多相サンプル出力内で、隣り合った相のサンプル出力間で変化を生じたサンプル出力を検出して、当該変化を生じたサンプル出力をサンプリングしたストローブパルスの発生位相を基準クロックの立上り又は立下りのタイミング位相として求め、
得られたそれぞれのデータの立上り又は立下りのタイミング位相と基準クロックの立上り又は立下りのタイミング位相との位相差をそれぞれ求め、
この位相差が予め定めた範囲内であるか否かにより上記被試験半導体デバイスの良否を判定することを特徴とする半導体デバイス試験方法。 - 請求項1記載の半導体デバイス試験方法において、
基準クロックのサンプル出力の変化点を検出したストローブパルスの相番号、及びそれぞれのデータのサンプル出力の変化点を検出したストローブパルスの相番号を基準クロック位相及びそれぞれのデータの位相と定め、この相番号の差の値が予定した値の範囲内であるか否かにより被試験半導体デバイスの良否を判定することを特徴とする半導体デバイス試験方法。 - 請求項1記載の半導体デバイス試験方法において、
基準クロックのサンプル出力の変化点を検出したストローブパルスの相番号と、それぞれのデータのサンプル出力の変化点を検出したストローブパルスの相番号のそれぞれによって参照表をアクセスし、参照表から良否の判定結果を直接読み出すことを特徴とする半導体デバイス試験方法。 - 試験パターンの全テストサイクルに渡って、各テストサイクル内で、基準クロックとそれに同期した複数のデータを出力する半導体デバイスの試験装置であって、
A、各テストサイクル内で、所定の位相位置から順次微小時間づつ時間差が与えられた多相パルスを、上記時間差に応じた相順序で発生する多相パルス発生器と、
B、被試験半導体デバイスが各テストサイクル内で出力する上記複数のデータにそれぞれ対応して設けられた複数の信号読取手段であって、各信号読取手段は上記多相パルスの各相にそれぞれ対応して設けられ、対応する相のパルスをストローブパルスとしてして印加される複数の信号読取回路を含み、各信号読取手段の複数の信号読取回路は対応するデータを並列に受け取り、印加された各相のストローブパルスによる上記相順序での発生タイミングでサンプリングして当該データのサンプル出力を出力し、これによって上記複数のデータのそれぞれのサンプル出力を並列に出力する複数の信号読取手段と、
C、被試験半導体デバイスが各テストサイクル内で出力する基準クロックに対応して設けられた基準クロック用の信号読取手段であって、上記多相パルスの各相にそれぞれ対応して設けられ、対応する相のパルスをストローブパルスとしてして印加される複数の基準クロック用の信号読取回路を含み、上記複数の基準クロック用の信号読取回路は基準クロックを並列に受け取り、印加された各相のストローブパルスによる上記相順序での発生タイミングでサンプリングして基準クロックのサンプル出力を出力する基準クロック用の信号読取手段と、
D、上記複数の信号読取手段にそれぞれ対応して設けられた複数の比較判定手段であって、各比較判定手段は対応する信号読取手段の複数の信号読取回路にそれぞれ対応して設けられた複数の比較判定回路を含み、各比較判定手段の複数の比較判定回路は、対応する信号読取回路から受け取った上記データのサンプル出力のレベルが期待値と一致するか否か比較判定して、かかる比較判定結果を、多相パルスの相順序が1つ後の番号の後段の比較判定回路に出力し、各比較判定回路は自己の比較判定結果と各前段の比較判定結果とを比較し、不一致を検出した比較判定回路のみから有効とする判定結果を出力させ、この有効とする判定結果を発した相のストローブパルスが、当該データの立上り又は立下りの変化点を捉えたものと判定し、これによって上記複数のデータのそれぞれの立上り又は立下りの変化点を検知する複数の比較判定手段と、
E、上記基準クロック用の信号読取手段に対応して設けられた基準クロック用の比較判定手段であって、上記複数の基準クロック用の信号読取回路にそれぞれ対応して設けられた複数の基準クロック用の比較判定回路を含み、複数の基準クロック用の比較判定回路は、対応する基準クロック用の信号読取回路から受け取った上記基準クロックの多相サンプル出力のレベルが期待値と一致するか否か比較判定して、かかる比較判定結果を、多相パルスの相順序が1つ後の番号の後段の基準クロック用の比較判定回路に出力し、各基準クロック用の比較判定回路は自己の比較判定結果と各前段の比較判定結果とを比較し、不一致を検出した基準クロック用の比較判定回路のみから有効とする判定結果を出力させ、この有効とする判定結果を発した相のストローブパルスが、当該基準クロックの立上り又は立下りの変化点を捉えたものと判定する基準クロック用の比較判定手段と、
F、上記基準クロック用の比較判定手段が出力した有効とする判定結果の出力ビット位置を、基準クロックの変化点を検出したストローブパルスの相番号に変換し、これを基準相番号とする基準相番号変換手段と、
G、上記複数の比較判定手段にそれぞれ対応して設けられ、対応する比較判定手段のが出力した有効とする判定結果の出力ビット位置を、各データの変化点を検出したストローブパルスの相番号にそれぞれ変換し、それらをデータ相番号とする複数のデータ相番号変換手段と、
H、上記基準相番号変換手段が変換した基準相番号と上記複数のデータ相番号変換手段が変換した各データ相番号とから被試験半導体デバイスの良否を判定する手段と、
によって構成したことを特徴とする半導体デバイス試験装置。 - 請求項4記載の半導体デバイス試験装置であって、
上記良否判定手段は、基準相番号入力用の一方のアドレスと、各データ相番号入力用の他方のアドレスを持ち、これら両アドレスで決まる記憶セルに、入力された基準相番号と各データ相番号との差の値を記憶し、かつ上記相番号の差の値の内の所望の範囲の値を持った記憶セルのみにパスを表わすPを記憶し、それ以外の記憶セルにフェイルを表わすFを記憶したメモリによって構成する参照表を含み、上記参照表は基準相番号変換手段から基準相番号を一方のアドレスに入力され、複数のデータ相番号変換手段からデータ相番号を他方のアドレスに入力されて、これら両アドレスで決まる記憶セルが参照され、これによって参照表は当該参照された記憶セルから各データの良否判定結果として出力する、ことを特徴とする半導体デバイス試験装置。 - 請求項4記載の半導体デバイス試験装置であって、
上記複数のデータ相番号変換手段にそれぞれ対応して設けられた複数の位相比較部を更に含み、
上記複数の位相比較部のそれぞれは、対応するデータ相番号変換手段から出力されるデータ相番号と基準相番号変換手段から出力される基準相番号との減算を行うデジタル減算器を含み、
上記被試験半導体デバイスの良否を判定する手段は、上記複数の位相比較部にそれぞれ対応して設けられた複数の良否判定手段を含み、各良否判定手段は第1及び第2減算器、第1及び第2エンコーダ、及びオアゲートを含み、各良否判定手段においては、第1減算器は対応する位相比較部から出力される減算結果と上限スペック値との減算を行い、第2減算器は対応する位相比較部から出力される減算結果と下限スペック値との減算を行い、第1エンコーダは第1減算器の減算出力の正又は負に応じて0又は1のエンコード出力を出力し、第2エンコーダは第2減算器の減算出力の正又は負に応じて0又は1のエンコード出力を出力し、オアゲートは第1と第2エンコーダの出力をオアゲートし、0又は1に応じて良又は否の判定結果を出力することを特徴とする半導体デバイス試験装置。 - 請求項4−6の何れかに記載の半導体デバイス試験装置において、
多相パルス生成手段は遅延時間がわずかずつ異なる複数の遅延素子によって構成され、これら複数の遅延素子にパルスを印加してわずかずつ位相差が与えられた多相パルスを発生させる構成としたことを特徴とする半導体デバイス試験装置。 - 請求項4−6の何れかに記載の半導体デバイス試験装置において、
多相パルス発生手段は同一遅延時間を持つ複数の遅延素子を継続接続し、この縦続接続した複数の遅延素子の各接続点から多相パルスを得る構成としたことを特徴とする半導体デバイス試験装置。
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