JP4422808B2 - トランス−（ｒ，ｒ）−アクチノール - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、触媒としてのアミノ−アミド−ルテニウム錯体の存在下にジアステレオ選択的な移動水素化反応により、トランス−（Ｒ，Ｒ）−アクチノールを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光学的に活性なアクチノールは、例えば、ゼアキサンチンのようなカロテノイドの合成のための重要な基礎的要素として、とりわけよく知られている〔Pure & Appl. Chem. 51, 535-564 (1979)〕。既知のプロセスでは、アクチノールは、トリメチルシクロヘキサジオン リボジオン（levodione）から製造されていた。そのような方法の一つは、例えば、ラネーニッケルの存在下に低い塩基含量でのリボジオンの接触水素化反応によるものである〔Helv. Chim. Acta 59, 1832(1976)〕。トランス−及びシス−アクチノールの３〜４：１混合物に導く不均一水素化反応のジアステレオ選択性の悪さは、結局、複雑な精製の結果として収率の低下を生起させ、更に、不均一触媒反応に用いた反応条件下では、該リボジオンのラセミ化のおそれがある。適切な蒸留カラムを用いる、代わりの精製が、ＥＰ０７７５６８５号に記載されているが、その収率は余り大きくない。高純度でエナンチオマー及び高純度のジアステレオマーでアクチノールを得る製造方法についての関心は、今までそうであったのと同程度に大きい。
【０００３】
【発明の説明】
驚くべきことに、（Ｒ）−リボジオンを、優れた化学収率及び高い光学収率で、アミノ−アミド−ルテニウム錯体の存在下での移動水素化反応により、（Ｒ，Ｒ）−アクチノールに転換できることが見い出された。
【０００４】
したがって、本発明は、下記式：
【０００５】
【化４】
【０００６】
で示されるトランス−（Ｒ，Ｒ）−アクチノール（１）を、リボジオンのジアステレオ選択的な移動水素化反応により製造する方法であって、下記式：
【０００７】
【化５】
【０００８】
で示される（Ｒ）−リボジオン（２）を、同時に溶媒としても用いることができる水素ドナー、及びアミノ−アミド−ルテニウム錯体の存在下に水素化する方法に関する。
【０００９】
移動水素化反応によるケトン類からのアルコール類の製造方法は既知である。例えば、R. Noyori et al. 〔Acc. Chem. res. 30, 97-102 (1997)〕は、水素ドナー、例えばイソプロパノール／水酸化カリウム又は酢酸／トリエチルアミン、及びルテニウム錯体の存在下、高い光学的及び化学的収率で水素化することができるアリールアルキルケトン類、例えばアセトフェノンの不斉移動水素化反応を研究している。しかしながら、例えばジアルキルケトン類を基質として用いる場合、化学収率だけではなく、光学的収率もまた格段に減少する。
【００１０】
本発明のプロセスによれば、一般式Ｉ：
ＲｕＨ（Ｌ｛−Ｈ｝）（Ｙ） Ｉ
（式中、
Ｙは、中性リガンドであり；
Ｌは、一般式II：
【００１１】
【化６】
【００１２】
で示される、場合により光学的に活性な、モノスルホニル化されたジアミンであり；
Ｒ1は、場合によりモノ−若しくは複−フッ素化されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、場合によりモノ−若しくは複−置換されていてもよいアリール、複素環式アリール又はカンファー−１０−イルであり；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、又は場合によりモノ−若しくは複−置換されていてもよいアリールであるか；あるいは
Ｒ2及びＲ3は、それらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ2）n−ＣＨ−と一緒になって、炭素原子４〜８個の炭素環式基を形成し；
Ｒ4は、水素又はアルキルであり；そして
ｎは、０、１、２又は３である）
で示されるアミノ−アミド−ルテニウム錯体を用いることが好ましい。
【００１３】
モノスルホニル化ジアミンは、モノアニオンとして錯体中に存在し、したがって、式Ｉでは「Ｌ｛−Ｈ｝」として表される。
【００１４】
本発明の範囲において、用語「アルキル」は、直鎖状又は分枝状で、場合によりキラルであってもよい炭素原子１〜８個、好ましくは炭素原子１〜５個のアルキル基を包含する。メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル及びイソペンチルが、そのような基の例である。トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル及びペンタフルオロエチルが、モノ−又は複−フッ化アルキル基の例である。
【００１５】
用語「アルケニル」は、直鎖状又は分枝状で、炭素原子３〜８個のアルケニル基、例えばアリル、２−ブテニル及び３−ブテニルを包含する。
【００１６】
用語「アルキニル」は、直鎖状又は分枝状で、炭素原子３〜８個及び三重結合を１個有するアルキニル基、例えばプロピニル及びブチニルを包含する。
【００１７】
用語「シクロアルキル」は、３〜７員の脂環式基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロヘプチルであり、そのなかでシクロペンチル及びシクロヘキシルが好ましい。
【００１８】
用語「場合によりモノ−若しくは複−フッ化されていてもよいアリール」は、未置換、モノ置換若しくは複置換されていてもよいフェニル基又はナフチル基を包含する。置換基としては、例えば、フェニル基、ハロゲン基、並びにそれぞれ、直鎖及び分枝状で炭素原子１〜５個のアルキル基及びアルコキシ基が挙げられ、それにより複−置換されていてもよい、フェニル基又はナフチル基は同一又は異なる置換基を有していてもよい。アルキル基及びアルコキシ基のうち、それぞれ、メチル基及びメトキシ基が好ましい。場合により置換されていてもよいアリール基の例は、フェニル、クロロ−、ブロモ−及びフルオロフェニル、トリル、アニシル、２，４−ジメチルフェニル、並びにナフチルである。
【００１９】
用語「複素環式アリール」は、例えば、フリル、チエニル、ベンゾフリル、ジベンゾフリル、キサンテニル、ピロリル及びピリジニルのようなＯ、Ｓ又はＮを含有する５員又は６員の複素環式基を包含する。Ｏを含有する複素環式基が特に好ましい。
【００２０】
本発明の範囲では、用語「中性リガンド」は、アレン、特にベンゼン、ナフタレン又はテトラリンであり、ベンゼンの場合は、炭素原子１〜５個をそれぞれ有する直鎖状又は分枝状のアルキル基及び／又はアルコキシ基、好ましくはメチル基若しくはメトキシ基、並びに／あるいはシクロアルキル基でモノ−又は複−置換されていてもよいと理解されたい。そのようなリガンドの例は、ベンゼン、ｐ−シメン、トルエン、アニソール、キシレン、１，３，５−トリメチルベンゼン、ｐ−ジシクロヘキシルベンゼン、ナフタレン及びテトラリンである。
【００２１】
本発明の製法で出発物質として用いる（Ｒ）−リボジオンは、知られているように、とりわけ発酵法によって得られ、商業的に入手可能である。
【００２２】
本発明の製法で用いる特定の種類のアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、式IIのリガンドを有する式Ｉのものからなり、そしてＲ2及びＲ3は、それぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、又は場合によりモノ−又は複−置換されていてもよいアリールであるか、Ｒ2及びＲ3はそれらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ2)n−ＣＨ−と一緒になって、好ましくは炭素原子４〜６個の炭素環式基を形成し、ｎは好ましくは０又は１であり、Ｒ1及びＲ4は上記と同義である。
【００２３】
好ましいモノスルホニル化ジアミン リガンドＬは、Ｒ2及びＲ3は同一であって、水素又はフェニルのいずれかである式IIのものである。同様に、Ｒ2及びＲ3はそれらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ2)n−ＣＨ−と一緒になって、炭素原子４〜８個の炭素環式基を形成するリガンドＬが好ましい。両方の場合において、Ｒ4は水素が好ましい。これらの好ましいリガンドＬのうち、ｎは０であるものが特に好ましい。
【００２４】
特に好ましいリガンドＬは、式IIの光学的に活性な、モノスルホニル化ジアミン リガンドＬであり、Ｒ2及びＲ3の両方が水素以外であるリガンドである。
【００２５】
式IIのモノスルホン化ジアミン リガンドＬが光学的に活性であるかどうかに係わらず、Ｒ1がトリル、アニシル又はナフチル基である式IIのリガンドＬが好ましい。
【００２６】
特に好ましいモノスルホニル化ジアミン リガンドＬの例は、下記のとおりである：
（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１Ｒ，２Ｒ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１ＲＳ，２ＲＳ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド（ラセミ体）；
（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メトキシ−ベンゼンスルホンアミド；
ナフタレン−１−スルホン酸〔（１Ｓ，２Ｓ）−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−アミド〕；
（１Ｒ，２Ｒ）−Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１ＲＳ，２ＲＳ）−Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド（ラセミ体）；
Ｎ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；そして
Ｎ−（３−アミノ−プロピル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
【００２７】
最初の７個の化合物はキラル化合物であるが、８番目及び９番目の化合物はキラル化合物ではない。
【００２８】
本発明の製法（移動水素化反応）は、同時に水素ドナーとして働く溶媒中で、又は水素ドナーと適切な不活性溶媒との混合物中で行うのが好都合である。水素ドナーであり、かつ同時に溶媒であるものとしては、特にアルコール類、好ましくは第二級アルコール類、例えばイソプロパノールを用いることができる。水素ドナーと不活性溶媒との混合物としては、アルコール類と不活性溶媒との混合物、好ましくはアルコールとハロゲン化低級脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレン又は塩化エチレンとの混合物を用いるのが好都合である。他の適切な水素ドナー／溶媒の混合物は、ギ酸又はその塩と、不活性溶媒、例えばトリエチルアミンとの混合物である。イソプロパノールは、水素ドナー／溶媒として特に好ましい。この場合、アセトンが形成され、所望によりこれは反応系から連続的に除去することができる。不活性溶媒中にギ酸又はその塩を還元剤として用いる場合、原則として、（Ｒ）−リボジオンの量をベースとして、ほぼ化学量論量のギ酸又はその塩が消費される。
【００２９】
ハロゲン化低級脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレン若しくは塩化エチレン、又はギ酸若しくはその塩とトリエチルアミンとの混合物を、（付加的な）溶媒として用いることが好ましい。
【００３０】
水素ドナーと不活性溶媒との混合物を用いる場合、原則として、全ての混合比で用いることができる。
【００３１】
（Ｒ）−リボジオンに対する触媒（アミノ−アミド−ルテニウム錯体）の比率は、約１モル：２０モル〜約１モル：１０，０００モルであるのが好都合であり、特に約１モル：２００モル〜約１モル：２，０００モルであることが好ましい。
【００３２】
本発明によるジアステレオ選択的な移動水素化反応は、温度約０〜約１００℃で行うのが好都合であり、特に約２０〜約５０℃が好ましく、そして所望により保護ガス雰囲気下に、特にアルゴン雰囲気下に行うのが好ましい。更に、原則として、それは常圧下、又は軽い減圧下に行う（例えば、イソプロパノールから形成されたアセトンの除去を促進するためである）。
【００３３】
有機化学の慣用の方法、例えば蒸留及び結晶化を、こうして製造したトランス−（Ｒ，Ｒ）−アクチノールの単離及び精製のために用いてもよい。
【００３４】
本発明によるジアステレオ選択的な移動水素化反応において、触媒として用いる式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、そのまま用いる必要はない。つまり、その触媒を反応系内でin situで生成させるのが合理的であることが見い出され、それは下記の製造法にしたがって行う。
【００３５】
本発明によれば、触媒として用いるアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、スキームＩ：
【００３６】
【化７】
【００３７】
に概略が示されているようにして製造することができる。
【００３８】
スキームＩでは、Ｘ以外の記号は上記と同義であり、Ｘは、塩素、臭素又はヨウ素であり、特に塩素である。
【００３９】
ルートＡによれば、式Ｉのルテニウム錯体は、溶媒中で、例えば低級アルコール、又は特に二相系の塩化メチレン／水中で、タイプ４のルテニウム−ハロゲン錯体と、例えばギ酸ナトリウム又はナトリウムメチレートのようなヒドリドドナーとの反応により生成される。その反応は、室温で行うのが好都合である。錯体の生成は、通常、約３０分後に既に終了する。これは、Ｒｕ（II）−ハロゲン錯体をＲｕ（II）−ヒドリド錯体に転換する既知の方法である〔例えば、Principles and Applications of Organotransition Metal Chemistry, J.P. Collman et al., University Science books (1987) 及び Organometallics 4, 1202 et seq. (1985)を参照〕。それは、式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体をin situで製造するのに特に適切である。
【００４０】
式Ｉのルテニウム錯体は、また、タイプ４のルテニウム−ハロゲン錯体を水酸化ナトリウム、タリウムエチレートのような塩基とともに、タイプ５のルテニウム−ジアミド錯体に転換し、続けて後者の錯体とアルコール、例えば同時に溶媒としても働くイソプロパノールとを、反応させることにより得ることができる(ルートＢ)。例えば、塩化メチレンのような不活性溶媒と一緒に、アルコール及び水の混合物を、この場合の溶媒として用いることができる。この場合も、また、反応を室温で行うことが好都合であり、錯体形成は、通常３０分以内に完了する。
【００４１】
これらの既知の方法についての更なる参考は、R. Noyori et al., J. Am. Chem. Soc. 118, 2581 (1996) 及びR. Noyori et al., Angew. Chemie 109 (3), 297 (1997) に記載されている。これら及び他の参考文献、例えばＰＣＴ特許公報ＷＯ９７／２０７８９には、Ｒ2及びＲ3が、それぞれ、水素以外である（したがって、それらはキラル中心を有している）式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体の数種、及びそれらの上記の方法での製造が記載されている。この種の新規な錯体は同様の方法で製造することができる。
【００４２】
本発明によれば、触媒として用いる式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体を製造する更なる方法は、ここに、下記：
【００４３】
【化８】
【００４４】
で示されるスキームIIに説明されている。
【００４５】
このスキームでは、Ｘは、塩素、臭素又はヨウ素である。Ｙは上記と同義であり、IIは、上記の場合により光学的に活性な、式IIのモノスルホン化されたジアミンである（リガンドＬ）。反応条件（溶媒、反応温度及び反応時間）は、ルートＡ及びルートＢのそれに対応している。
【００４６】
上記の錯体中に存在するリガンドＬ（式II）は、部分的に既知の化合物であり〔例えば、J. A. C. S. 62, 2811-2812 (1940) を参照〕、それらの数種は商業的に入手可能である。商業的に入手できない光学的に活性なジアミン類は、対応するラセミ体の分割により得ることができる。残余の（新規な）リガンドＬは、既知のリガンドＬと同様にして製造することができる。
【００４７】
式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、そのリガンドＬがＮ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；Ｎ−（３−アミノ−プロピル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；又はＮ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミドであるものが特に好ましい。
【００４８】
Ｌが一般式：
Ｒ1ＳＯ2−ＨＮ−ＣＨ2−（ＣＨ2）n−ＣＨ2−ＮＨＲ4 II′
で示されるモノスルホニル化ジアミンであり（すなわち、Ｒ2及びＲ3の両方が水素である式IIのものである）、そこでＲ1、Ｒ4及びｎは上記と同義である、式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体は新規であり、また、本発明の目的の一つである。それぞれ、基：ＮＨ−ＳＯ2Ｒ1及び基：ＮＨＲ4と結合する炭素原子２個は、キラルではないため、その式II′のジアミンリガンドは、これらの位置に置換基を有するそれらの式IIのジアミンリガンド（Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、水素以外である）と異なっている。
【００４９】
式：ＲｕＸ（Ｌ′｛−Ｈ｝）（Ｙ）（ここで、Ｘが塩素、臭素又はヨウ素であり；Ｌ′が式II′のモノスルホニル化ジアミンであり；そしてＹが中性リガンドである）の対応するアミノ−アミド−ルテニウム錯体もまた新規であり、本発明の更なる特徴を示している。
【００５０】
アミノ−アミド−ルテニウム錯体が、ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−シメン）であることが好ましい。
【００５１】
アミノ−アミド−ルテニウム錯体が、ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−シメン）であることが好ましい。
【００５２】
アミノ−アミド−ルテニウム錯体が、ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ヘキサメチルベンゼン）であることが好ましい。
【００５３】
【実施例】
【００５４】
実施例中で、本発明をより具体的に説明するが、いかなる意味においても本発明を限定するものではない。なお、これらの実施例中、選ばれた略称は、下記の意味を有する。
【００５５】
Ｔｓ−ＤＰＥＮ： Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
（１−ナフチルＳ）−ＤＰＥＮ： ナフタレン−１−スルホン酸〔（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−アミド〕
（ｐ−ＡｎＳ）−ＤＰＥＮ： Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド
Ｔｓ−１，２−ＤＡＣＨ： Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
Ｔｓ−ｅｎ： Ｎ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
Ｔｓ−ｐｎ： Ｎ−（３−アミノ−プロピル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
【００５６】
ｐ−Ｃｙｍ： ｐ−シメン
Ｍｅ： メチル
Ｅｔ： エチル
ＴＬＣ： 薄層クロマトグラフィー
ＧＣ： キャピラリー ガスクロマトグラフィー
ｅｅ： エナンチオマー過剰
ｄｅ： ジアステレオマー過剰
【００５７】
例１
【００５８】
【化９】
【００５９】
（Ｒ）−リボジオン５．０ｇ（３２．４mmol）、イソプロパノール５７ml及び〔Ｒｕ（（Ｓ，Ｓ）−Ｔｓ−ＤＰＥＮ｛−２Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１９．５mg（０．０３２４mmol）を、グローブボックス（酸素含有量＜１ppm）中の１８５ml容鋼鉄製容器内に入れた。その鋼鉄製容器を閉じ、移動水素化反応を撹拌しながら２０℃で行った。水素化反応は、２４時間以内に終了した（転化率＞９９％）。水素化反応溶液を４０℃／５０mbar（５kPa）で蒸発させ、残渣を、バルブ−チューブオーブン内で１１０℃／０．２mbar（２０Pa）で蒸留した。（Ｒ，Ｒ）−アクチノール（１）／（Ｓ，Ｒ）−アクチノール（３）の９４％／５％混合物４．９ｇを得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は９９．４％であった。ｅｅ値及びｄｅ値での転化率の決定は、キラル相でのガスクロマトグラフィー（ＢＧＢ−１７６：２，３−ジメチル−６−tert−ブチル−ジメチル−シリル化−β−シクロデキストリン）により行った。
【００６０】
例２
（Ｒ）−リボジオン１００．０ｇ（０．６４８mol）、イソプロパノール１．１５リットル及び〔Ｒｕ（（Ｓ，Ｓ）−Ｔｓ−ＤＰＥＮ｛−２Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕０．３８９ｇ（０．６４８mmol）を、２リットル容の４ツ首フラスコに入れ、移動水素化反応を撹拌しながら３５℃で開始した。反応溶液にアルゴンを通しながら、水素化反応中に得られたアセトンを連続的に分離した。８時間後の転化率は、＞９９％であった。例１と同様に後処理をして、（Ｒ，Ｒ）−トランス−アクチノール／（Ｓ，Ｒ）−シス−アクチノールの９４％／６％混合物９８ｇを得た。（Ｒ，Ｒ）−トランス−アクチノールのｅｅ値は、９９．３％であった。
【００６１】
例３〜１４
水素化反応３〜１４を、表１に示す条件下に例１と同様にして行った。
【００６２】
【表１】
【００６３】
例１５
〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を例として、用いる触媒のin situでの製造方法
操作は全部酸素の不存在下で行った。
【００６４】
方法Ａ（ルートＡ）
塩化メチレン１０mlと水１ml中のギ酸ナトリウム１７．７３mg（０．２６mmol）及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕６３．１０mg（０．１３mmol）を、室温で激しく１５分間撹拌した。相分離の後、有機相をそれぞれ水１０mlで３回水洗し、続けて無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
【００６５】
方法Ｂ（ルートＡ）
塩化メチレン３mlと水３ml中のギ酸ナトリウム５．７mg（０．０８mmol）及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕２０．２mg（０．０４mmol）を、室温で激しく３０分間撹拌した。続く相分離の後、有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。その後、アセトン０．０３ml（０．４mmol）を添加し、次いでその混合物を１５分間撹拌した。
【００６６】
方法Ｃ（ルートＢ）
イソプロパノール７ml中の〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１４０．７０mg（０．２９mmol）及びタリウムエチレート７２．５mg（０．２９mmol）を室温で３０分間撹拌した。得られた沈殿物をろ別した。
【００６７】
方法Ｄ（ルートＡ）
メタノール５ml中のギ酸ナトリウム３．８８mg（０．０６mmol）及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕２７．６mg（０．０６mmol）を、室温で３０分間撹拌した。
【００６８】
方法Ｅ（ルートＡ）
メタノール５ml中のナトリウムメチレート１．１２mg及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１１mgを、室温で３０分間撹拌した。
【００６９】
例１６
アルゴンガス雰囲気下の丸型の二ツ口フラスコ内で、（Ｒ）−リボジオン１１．３ｇ（７３．５mmol）をイソプロパノール１３０mlに懸濁した。例１５の方法Ａにしたがって、〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕７１．２mg（０．１４７mmol）及びギ酸ナトリウム２０．０mg（０．２９４mmol）から調製した触媒を、空気の不存在下にリボジオン懸濁液に添加した。反応は３時間以内に終了し、移動水素化反応中に得られたアセトンを、２５℃で撹拌しながら連続して留去した。転化率は９９．８ＧＣ面積％であった。例１と同様に後処理をして、（Ｒ，Ｒ）−アクチノール／（Ｓ，Ｒ）−アクチノールの９６％／４％混合物１０．９ｇを得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は、９８．１％であった。
【００７０】
例１７〜２９
触媒溶液を例１５に記載した方法によって調製した。移動水素化反応１７〜２９を、表２に示す条件下に例１と同様にして行った。
【００７１】
【表２】
【００７２】
例３０
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１０１mg（０．２１mmol）、ギ酸ナトリウム１．４２ｇ（２１．０mmol）及び（Ｒ）−リボジオン０．６５ｇ（４．２mmol）を、５０ml容シュレンケ管内でジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）２１ml中に酸素不存在下に懸濁し、次いで室温で２時間撹拌した。このときは、弱い流れのアルゴンを懸濁液に通した。続けて、シュレンケ管を閉じ、その懸濁液を更に１４時間撹拌した。その後、水１０ml及び塩化メチレン５０mlを添加し、二つの相を分離した。水相を、それぞれ塩化メチレン５０mlで２回抽出した。合わせた有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ロータリーエバポレーターで蒸発させた。残渣のＧＣ分析によれば、転化率は９９．３％であり、（Ｒ，Ｒ）−アクチノール含量９１．２％（ｅｅ値７６．１％）を含む。
【００７３】
例３１〜３４
水素化反応３１〜３４を、表３に示す条件下に例３０と同様にして行った。
【００７４】
【表３】
【００７５】
例３５
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕から出発する触媒溶液の製造
水１２０ml中のギ酸ナトリウム０．６６２ｇ（９．７３mmol）の溶液、及び塩化メチレン１２０ml中の〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕０．９４２ｇ（１．９５mmol）の溶液を、アルゴンガス雰囲気下でスルホン化フラスコに導入した。その二相混合物を２０〜２３℃で１時間激しく撹拌した。塩化メチレン相は、活性な触媒である〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を含有していた。
【００７６】
移動水素化反応
（Ｒ）−リボジオン３００．０ｇ（１．９６mol）を、スルホン化フラスコ内でイソプロパノール３４４０mlに、２０〜２５℃で撹拌しながら懸濁し、その系をアルゴンで不活性にし、次いで該懸濁液を続けて４０℃まで加熱した。触媒を含有している塩化メチレン相を、酸素の不存在下にリボジオン溶液に添加した。反応溶液を、１５０mbar（１５kPa）の部分真空下に４０℃で、最初に塩化メチレン、その後移動水素化反応中に形成したアセトンを連続して留去しながら撹拌した。留去したアセトン／イソプロパノール混合物を新鮮なイソプロパノールの添加によって置換した。水素化反応は６時間後に終了した。転化率は、９９．６ＧＣ面積％であった。
【００７７】
触媒分離のため、水素化反応溶液を蒸発させ、その残渣をジイソプロピルエーテル中に溶解し、次いでその溶液を活性炭で処理した。ろ過及び蒸発の後、（Ｒ，Ｒ）−／（Ｓ，Ｒ）−アクチノールの９５％／５％混合物３０３．２ｇを油状物として得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は、９８．９％であった。この混合物１００ｇを、ジイソピロピルエーテル／ｎ−ヘキサンから結晶化した。純粋な（Ｒ，Ｒ）−アクチノール７５ｇを、ｅｅ＞９９．５％で得た。
【００７８】
例３６
〔ＲｕＣｌ2（ｐ−Ｃｙｍ）2〕（ルートＣ）から出発する触媒溶液の製造
〔ＲｕＣｌ2（ｐ−Ｃｙｍ）2〕０．１９９ｇ(０．３２４mmol)及びＮ−（ｐ−トシル）−エチレンジアミン０．１３９ｇ（０．６４８mmol）を、アルゴンガス雰囲気下のスルホン化フラスコ内で塩化メチレン２０ml中に溶解し、次いで水２０ml中のギ酸ナトリウム０．２２１ｇ（３．２５mmol）及び水酸化カリウム０．０３６ｇ（０．６４mmol）の溶液を添加した。二相混合物を２０〜２３℃で１時間激しく撹拌した。塩化メチレン相は、活性な触媒である〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を含有していた。
【００７９】
移動水素化反応
（Ｒ）−リボジオン１００ｇ（６４８．５mmol）の水素化を、例３５と同様にして行った。その水素化反応は８時間後に終了した。（Ｒ，Ｒ）−アクチノール／（Ｓ，Ｒ）−アクチノールの９５％／５％混合物を、＞９９％の収率で得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は、９８．９％であった。
【００８０】
例３７
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕の製造
Ｎ−（ｐ−トシル）−エチレンジアミン５０．０ｇ（０．２３３mol）及び〔ＲｕＣｌ2（ｐ−Ｃｙｍ）2〕７１．５ｇ（０．１１７mmol）を、アルゴン雰囲気下に２リットル容スルホン化フラスコ内で塩化メチレン６５０リットル、水３３０リットル及び１M水酸化カリウム水溶液２３０ml中に溶解した。二相混合物を室温で３０分間激しく撹拌した。相分離の後、水相を塩化メチレン３００mlで逆抽出し、合わせた有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。ろ過及び蒸発の後に、橙−赤色の残渣をヘキサン４００mlに蒸解し、次いで高真空下に乾燥した。〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を、収率９７％（１１４．３ｇ）で橙色の固体として単離した。試料１０ｇをメタノール中で結晶化し、〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕８．５ｇを赤色の結晶として単離した。
【００８１】
【表４】
【００８２】
例３８
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（Ｍｅ6Ｃ6）〕の製造
例３７と同様にして、水／塩化メチレン中のＮ−（ｐ−トシル）−エチレンジアミン９７．２mg（０．４mmol）、〔ＲｕＣｌ2（Ｍｅ6Ｃ6)2〕１５２．４mg（０．２mmol）及び０．１M水酸化カリウム水溶液４．６mlの反応、続けてメタノール中での粗生成物の結晶化の後に、〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（Ｍｅ6Ｃ6）〕１０６．０mg（４６％）を橙色の結晶として単離した。
【００８３】
【表５】
【００８４】
例３９
〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕の製造
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１９．０mg（０．０４mmol）及びギ酸ナトリウム２６．７mg（０．４mmol）を、アルゴン雰囲気下に５ml容シュレンケ管内でＤ2Ｏ２ml及びＣＤ2Ｃｌ2２mlに溶解し、次いで二相混合物を室温で３０分間撹拌した。1Ｈ−ＮＭＲ分析によれば、その黄色のＣＤ2Ｃｌ2相は、〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕及び未反応〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕少量を含有していた。
【００８５】
【表６】
【発明の属する技術分野】
本発明は、触媒としてのアミノ−アミド−ルテニウム錯体の存在下にジアステレオ選択的な移動水素化反応により、トランス−（Ｒ，Ｒ）−アクチノールを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光学的に活性なアクチノールは、例えば、ゼアキサンチンのようなカロテノイドの合成のための重要な基礎的要素として、とりわけよく知られている〔Pure & Appl. Chem. 51, 535-564 (1979)〕。既知のプロセスでは、アクチノールは、トリメチルシクロヘキサジオン リボジオン（levodione）から製造されていた。そのような方法の一つは、例えば、ラネーニッケルの存在下に低い塩基含量でのリボジオンの接触水素化反応によるものである〔Helv. Chim. Acta 59, 1832(1976)〕。トランス−及びシス−アクチノールの３〜４：１混合物に導く不均一水素化反応のジアステレオ選択性の悪さは、結局、複雑な精製の結果として収率の低下を生起させ、更に、不均一触媒反応に用いた反応条件下では、該リボジオンのラセミ化のおそれがある。適切な蒸留カラムを用いる、代わりの精製が、ＥＰ０７７５６８５号に記載されているが、その収率は余り大きくない。高純度でエナンチオマー及び高純度のジアステレオマーでアクチノールを得る製造方法についての関心は、今までそうであったのと同程度に大きい。
【０００３】
【発明の説明】
驚くべきことに、（Ｒ）−リボジオンを、優れた化学収率及び高い光学収率で、アミノ−アミド−ルテニウム錯体の存在下での移動水素化反応により、（Ｒ，Ｒ）−アクチノールに転換できることが見い出された。
【０００４】
したがって、本発明は、下記式：
【０００５】
【化４】
で示されるトランス−（Ｒ，Ｒ）−アクチノール（１）を、リボジオンのジアステレオ選択的な移動水素化反応により製造する方法であって、下記式：
【０００７】
【化５】
で示される（Ｒ）−リボジオン（２）を、同時に溶媒としても用いることができる水素ドナー、及びアミノ−アミド−ルテニウム錯体の存在下に水素化する方法に関する。
【０００９】
移動水素化反応によるケトン類からのアルコール類の製造方法は既知である。例えば、R. Noyori et al. 〔Acc. Chem. res. 30, 97-102 (1997)〕は、水素ドナー、例えばイソプロパノール／水酸化カリウム又は酢酸／トリエチルアミン、及びルテニウム錯体の存在下、高い光学的及び化学的収率で水素化することができるアリールアルキルケトン類、例えばアセトフェノンの不斉移動水素化反応を研究している。しかしながら、例えばジアルキルケトン類を基質として用いる場合、化学収率だけではなく、光学的収率もまた格段に減少する。
【００１０】
本発明のプロセスによれば、一般式Ｉ：
ＲｕＨ（Ｌ｛−Ｈ｝）（Ｙ） Ｉ
（式中、
Ｙは、中性リガンドであり；
Ｌは、一般式II：
【００１１】
【化６】
で示される、場合により光学的に活性な、モノスルホニル化されたジアミンであり；
Ｒ1は、場合によりモノ−若しくは複−フッ素化されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、場合によりモノ−若しくは複−置換されていてもよいアリール、複素環式アリール又はカンファー−１０−イルであり；
Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、又は場合によりモノ−若しくは複−置換されていてもよいアリールであるか；あるいは
Ｒ2及びＲ3は、それらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ2）n−ＣＨ−と一緒になって、炭素原子４〜８個の炭素環式基を形成し；
Ｒ4は、水素又はアルキルであり；そして
ｎは、０、１、２又は３である）
で示されるアミノ−アミド−ルテニウム錯体を用いることが好ましい。
【００１３】
モノスルホニル化ジアミンは、モノアニオンとして錯体中に存在し、したがって、式Ｉでは「Ｌ｛−Ｈ｝」として表される。
【００１４】
本発明の範囲において、用語「アルキル」は、直鎖状又は分枝状で、場合によりキラルであってもよい炭素原子１〜８個、好ましくは炭素原子１〜５個のアルキル基を包含する。メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル及びイソペンチルが、そのような基の例である。トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル及びペンタフルオロエチルが、モノ−又は複−フッ化アルキル基の例である。
【００１５】
用語「アルケニル」は、直鎖状又は分枝状で、炭素原子３〜８個のアルケニル基、例えばアリル、２−ブテニル及び３−ブテニルを包含する。
【００１６】
用語「アルキニル」は、直鎖状又は分枝状で、炭素原子３〜８個及び三重結合を１個有するアルキニル基、例えばプロピニル及びブチニルを包含する。
【００１７】
用語「シクロアルキル」は、３〜７員の脂環式基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロヘプチルであり、そのなかでシクロペンチル及びシクロヘキシルが好ましい。
【００１８】
用語「場合によりモノ−若しくは複−フッ化されていてもよいアリール」は、未置換、モノ置換若しくは複置換されていてもよいフェニル基又はナフチル基を包含する。置換基としては、例えば、フェニル基、ハロゲン基、並びにそれぞれ、直鎖及び分枝状で炭素原子１〜５個のアルキル基及びアルコキシ基が挙げられ、それにより複−置換されていてもよい、フェニル基又はナフチル基は同一又は異なる置換基を有していてもよい。アルキル基及びアルコキシ基のうち、それぞれ、メチル基及びメトキシ基が好ましい。場合により置換されていてもよいアリール基の例は、フェニル、クロロ−、ブロモ−及びフルオロフェニル、トリル、アニシル、２，４−ジメチルフェニル、並びにナフチルである。
【００１９】
用語「複素環式アリール」は、例えば、フリル、チエニル、ベンゾフリル、ジベンゾフリル、キサンテニル、ピロリル及びピリジニルのようなＯ、Ｓ又はＮを含有する５員又は６員の複素環式基を包含する。Ｏを含有する複素環式基が特に好ましい。
【００２０】
本発明の範囲では、用語「中性リガンド」は、アレン、特にベンゼン、ナフタレン又はテトラリンであり、ベンゼンの場合は、炭素原子１〜５個をそれぞれ有する直鎖状又は分枝状のアルキル基及び／又はアルコキシ基、好ましくはメチル基若しくはメトキシ基、並びに／あるいはシクロアルキル基でモノ−又は複−置換されていてもよいと理解されたい。そのようなリガンドの例は、ベンゼン、ｐ−シメン、トルエン、アニソール、キシレン、１，３，５−トリメチルベンゼン、ｐ−ジシクロヘキシルベンゼン、ナフタレン及びテトラリンである。
【００２１】
本発明の製法で出発物質として用いる（Ｒ）−リボジオンは、知られているように、とりわけ発酵法によって得られ、商業的に入手可能である。
【００２２】
本発明の製法で用いる特定の種類のアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、式IIのリガンドを有する式Ｉのものからなり、そしてＲ2及びＲ3は、それぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、又は場合によりモノ−又は複−置換されていてもよいアリールであるか、Ｒ2及びＲ3はそれらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ2)n−ＣＨ−と一緒になって、好ましくは炭素原子４〜６個の炭素環式基を形成し、ｎは好ましくは０又は１であり、Ｒ1及びＲ4は上記と同義である。
【００２３】
好ましいモノスルホニル化ジアミン リガンドＬは、Ｒ2及びＲ3は同一であって、水素又はフェニルのいずれかである式IIのものである。同様に、Ｒ2及びＲ3はそれらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ2)n−ＣＨ−と一緒になって、炭素原子４〜８個の炭素環式基を形成するリガンドＬが好ましい。両方の場合において、Ｒ4は水素が好ましい。これらの好ましいリガンドＬのうち、ｎは０であるものが特に好ましい。
【００２４】
特に好ましいリガンドＬは、式IIの光学的に活性な、モノスルホニル化ジアミン リガンドＬであり、Ｒ2及びＲ3の両方が水素以外であるリガンドである。
【００２５】
式IIのモノスルホン化ジアミン リガンドＬが光学的に活性であるかどうかに係わらず、Ｒ1がトリル、アニシル又はナフチル基である式IIのリガンドＬが好ましい。
【００２６】
特に好ましいモノスルホニル化ジアミン リガンドＬの例は、下記のとおりである：
（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１Ｒ，２Ｒ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１ＲＳ，２ＲＳ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド（ラセミ体）；
（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メトキシ−ベンゼンスルホンアミド；
ナフタレン−１−スルホン酸〔（１Ｓ，２Ｓ）−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−アミド〕；
（１Ｒ，２Ｒ）−Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１ＲＳ，２ＲＳ）−Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド（ラセミ体）；
Ｎ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；そして
Ｎ−（３−アミノ−プロピル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
【００２７】
最初の７個の化合物はキラル化合物であるが、８番目及び９番目の化合物はキラル化合物ではない。
【００２８】
本発明の製法（移動水素化反応）は、同時に水素ドナーとして働く溶媒中で、又は水素ドナーと適切な不活性溶媒との混合物中で行うのが好都合である。水素ドナーであり、かつ同時に溶媒であるものとしては、特にアルコール類、好ましくは第二級アルコール類、例えばイソプロパノールを用いることができる。水素ドナーと不活性溶媒との混合物としては、アルコール類と不活性溶媒との混合物、好ましくはアルコールとハロゲン化低級脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレン又は塩化エチレンとの混合物を用いるのが好都合である。他の適切な水素ドナー／溶媒の混合物は、ギ酸又はその塩と、不活性溶媒、例えばトリエチルアミンとの混合物である。イソプロパノールは、水素ドナー／溶媒として特に好ましい。この場合、アセトンが形成され、所望によりこれは反応系から連続的に除去することができる。不活性溶媒中にギ酸又はその塩を還元剤として用いる場合、原則として、（Ｒ）−リボジオンの量をベースとして、ほぼ化学量論量のギ酸又はその塩が消費される。
【００２９】
ハロゲン化低級脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレン若しくは塩化エチレン、又はギ酸若しくはその塩とトリエチルアミンとの混合物を、（付加的な）溶媒として用いることが好ましい。
【００３０】
水素ドナーと不活性溶媒との混合物を用いる場合、原則として、全ての混合比で用いることができる。
【００３１】
（Ｒ）−リボジオンに対する触媒（アミノ−アミド−ルテニウム錯体）の比率は、約１モル：２０モル〜約１モル：１０，０００モルであるのが好都合であり、特に約１モル：２００モル〜約１モル：２，０００モルであることが好ましい。
【００３２】
本発明によるジアステレオ選択的な移動水素化反応は、温度約０〜約１００℃で行うのが好都合であり、特に約２０〜約５０℃が好ましく、そして所望により保護ガス雰囲気下に、特にアルゴン雰囲気下に行うのが好ましい。更に、原則として、それは常圧下、又は軽い減圧下に行う（例えば、イソプロパノールから形成されたアセトンの除去を促進するためである）。
【００３３】
有機化学の慣用の方法、例えば蒸留及び結晶化を、こうして製造したトランス−（Ｒ，Ｒ）−アクチノールの単離及び精製のために用いてもよい。
【００３４】
本発明によるジアステレオ選択的な移動水素化反応において、触媒として用いる式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、そのまま用いる必要はない。つまり、その触媒を反応系内でin situで生成させるのが合理的であることが見い出され、それは下記の製造法にしたがって行う。
【００３５】
本発明によれば、触媒として用いるアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、スキームＩ：
【００３６】
【化７】
に概略が示されているようにして製造することができる。
【００３８】
スキームＩでは、Ｘ以外の記号は上記と同義であり、Ｘは、塩素、臭素又はヨウ素であり、特に塩素である。
【００３９】
ルートＡによれば、式Ｉのルテニウム錯体は、溶媒中で、例えば低級アルコール、又は特に二相系の塩化メチレン／水中で、タイプ４のルテニウム−ハロゲン錯体と、例えばギ酸ナトリウム又はナトリウムメチレートのようなヒドリドドナーとの反応により生成される。その反応は、室温で行うのが好都合である。錯体の生成は、通常、約３０分後に既に終了する。これは、Ｒｕ（II）−ハロゲン錯体をＲｕ（II）−ヒドリド錯体に転換する既知の方法である〔例えば、Principles and Applications of Organotransition Metal Chemistry, J.P. Collman et al., University Science books (1987) 及び Organometallics 4, 1202 et seq. (1985)を参照〕。それは、式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体をin situで製造するのに特に適切である。
【００４０】
式Ｉのルテニウム錯体は、また、タイプ４のルテニウム−ハロゲン錯体を水酸化ナトリウム、タリウムエチレートのような塩基とともに、タイプ５のルテニウム−ジアミド錯体に転換し、続けて後者の錯体とアルコール、例えば同時に溶媒としても働くイソプロパノールとを、反応させることにより得ることができる(ルートＢ)。例えば、塩化メチレンのような不活性溶媒と一緒に、アルコール及び水の混合物を、この場合の溶媒として用いることができる。この場合も、また、反応を室温で行うことが好都合であり、錯体形成は、通常３０分以内に完了する。
【００４１】
これらの既知の方法についての更なる参考は、R. Noyori et al., J. Am. Chem. Soc. 118, 2581 (1996) 及びR. Noyori et al., Angew. Chemie 109 (3), 297 (1997) に記載されている。これら及び他の参考文献、例えばＰＣＴ特許公報ＷＯ９７／２０７８９には、Ｒ2及びＲ3が、それぞれ、水素以外である（したがって、それらはキラル中心を有している）式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体の数種、及びそれらの上記の方法での製造が記載されている。この種の新規な錯体は同様の方法で製造することができる。
【００４２】
本発明によれば、触媒として用いる式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体を製造する更なる方法は、ここに、下記：
【００４３】
【化８】
で示されるスキームIIに説明されている。
【００４５】
このスキームでは、Ｘは、塩素、臭素又はヨウ素である。Ｙは上記と同義であり、IIは、上記の場合により光学的に活性な、式IIのモノスルホン化されたジアミンである（リガンドＬ）。反応条件（溶媒、反応温度及び反応時間）は、ルートＡ及びルートＢのそれに対応している。
【００４６】
上記の錯体中に存在するリガンドＬ（式II）は、部分的に既知の化合物であり〔例えば、J. A. C. S. 62, 2811-2812 (1940) を参照〕、それらの数種は商業的に入手可能である。商業的に入手できない光学的に活性なジアミン類は、対応するラセミ体の分割により得ることができる。残余の（新規な）リガンドＬは、既知のリガンドＬと同様にして製造することができる。
【００４７】
式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体は、そのリガンドＬがＮ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；Ｎ−（３−アミノ−プロピル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；又はＮ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミドであるものが特に好ましい。
【００４８】
Ｌが一般式：
Ｒ1ＳＯ2−ＨＮ−ＣＨ2−（ＣＨ2）n−ＣＨ2−ＮＨＲ4 II′
で示されるモノスルホニル化ジアミンであり（すなわち、Ｒ2及びＲ3の両方が水素である式IIのものである）、そこでＲ1、Ｒ4及びｎは上記と同義である、式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体は新規であり、また、本発明の目的の一つである。それぞれ、基：ＮＨ−ＳＯ2Ｒ1及び基：ＮＨＲ4と結合する炭素原子２個は、キラルではないため、その式II′のジアミンリガンドは、これらの位置に置換基を有するそれらの式IIのジアミンリガンド（Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、水素以外である）と異なっている。
【００４９】
式：ＲｕＸ（Ｌ′｛−Ｈ｝）（Ｙ）（ここで、Ｘが塩素、臭素又はヨウ素であり；Ｌ′が式II′のモノスルホニル化ジアミンであり；そしてＹが中性リガンドである）の対応するアミノ−アミド−ルテニウム錯体もまた新規であり、本発明の更なる特徴を示している。
【００５０】
アミノ−アミド−ルテニウム錯体が、ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−シメン）であることが好ましい。
【００５１】
アミノ−アミド−ルテニウム錯体が、ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−シメン）であることが好ましい。
【００５２】
アミノ−アミド−ルテニウム錯体が、ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ヘキサメチルベンゼン）であることが好ましい。
【００５３】
【実施例】
【００５４】
実施例中で、本発明をより具体的に説明するが、いかなる意味においても本発明を限定するものではない。なお、これらの実施例中、選ばれた略称は、下記の意味を有する。
【００５５】
Ｔｓ−ＤＰＥＮ： Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
（１−ナフチルＳ）−ＤＰＥＮ： ナフタレン−１−スルホン酸〔（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−アミド〕
（ｐ−ＡｎＳ）−ＤＰＥＮ： Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メトキシベンゼンスルホンアミド
Ｔｓ−１，２−ＤＡＣＨ： Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
Ｔｓ−ｅｎ： Ｎ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
Ｔｓ−ｐｎ： Ｎ−（３−アミノ−プロピル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド
【００５６】
ｐ−Ｃｙｍ： ｐ−シメン
Ｍｅ： メチル
Ｅｔ： エチル
ＴＬＣ： 薄層クロマトグラフィー
ＧＣ： キャピラリー ガスクロマトグラフィー
ｅｅ： エナンチオマー過剰
ｄｅ： ジアステレオマー過剰
【００５７】
例１
【００５８】
【化９】
（Ｒ）−リボジオン５．０ｇ（３２．４mmol）、イソプロパノール５７ml及び〔Ｒｕ（（Ｓ，Ｓ）−Ｔｓ−ＤＰＥＮ｛−２Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１９．５mg（０．０３２４mmol）を、グローブボックス（酸素含有量＜１ppm）中の１８５ml容鋼鉄製容器内に入れた。その鋼鉄製容器を閉じ、移動水素化反応を撹拌しながら２０℃で行った。水素化反応は、２４時間以内に終了した（転化率＞９９％）。水素化反応溶液を４０℃／５０mbar（５kPa）で蒸発させ、残渣を、バルブ−チューブオーブン内で１１０℃／０．２mbar（２０Pa）で蒸留した。（Ｒ，Ｒ）−アクチノール（１）／（Ｓ，Ｒ）−アクチノール（３）の９４％／５％混合物４．９ｇを得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は９９．４％であった。ｅｅ値及びｄｅ値での転化率の決定は、キラル相でのガスクロマトグラフィー（ＢＧＢ−１７６：２，３−ジメチル−６−tert−ブチル−ジメチル−シリル化−β−シクロデキストリン）により行った。
【００６０】
例２
（Ｒ）−リボジオン１００．０ｇ（０．６４８mol）、イソプロパノール１．１５リットル及び〔Ｒｕ（（Ｓ，Ｓ）−Ｔｓ−ＤＰＥＮ｛−２Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕０．３８９ｇ（０．６４８mmol）を、２リットル容の４ツ首フラスコに入れ、移動水素化反応を撹拌しながら３５℃で開始した。反応溶液にアルゴンを通しながら、水素化反応中に得られたアセトンを連続的に分離した。８時間後の転化率は、＞９９％であった。例１と同様に後処理をして、（Ｒ，Ｒ）−トランス−アクチノール／（Ｓ，Ｒ）−シス−アクチノールの９４％／６％混合物９８ｇを得た。（Ｒ，Ｒ）−トランス−アクチノールのｅｅ値は、９９．３％であった。
【００６１】
例３〜１４
水素化反応３〜１４を、表１に示す条件下に例１と同様にして行った。
【００６２】
【表１】
例１５
〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を例として、用いる触媒のin situでの製造方法
操作は全部酸素の不存在下で行った。
【００６４】
方法Ａ（ルートＡ）
塩化メチレン１０mlと水１ml中のギ酸ナトリウム１７．７３mg（０．２６mmol）及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕６３．１０mg（０．１３mmol）を、室温で激しく１５分間撹拌した。相分離の後、有機相をそれぞれ水１０mlで３回水洗し、続けて無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
【００６５】
方法Ｂ（ルートＡ）
塩化メチレン３mlと水３ml中のギ酸ナトリウム５．７mg（０．０８mmol）及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕２０．２mg（０．０４mmol）を、室温で激しく３０分間撹拌した。続く相分離の後、有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。その後、アセトン０．０３ml（０．４mmol）を添加し、次いでその混合物を１５分間撹拌した。
【００６６】
方法Ｃ（ルートＢ）
イソプロパノール７ml中の〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１４０．７０mg（０．２９mmol）及びタリウムエチレート７２．５mg（０．２９mmol）を室温で３０分間撹拌した。得られた沈殿物をろ別した。
【００６７】
方法Ｄ（ルートＡ）
メタノール５ml中のギ酸ナトリウム３．８８mg（０．０６mmol）及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕２７．６mg（０．０６mmol）を、室温で３０分間撹拌した。
【００６８】
方法Ｅ（ルートＡ）
メタノール５ml中のナトリウムメチレート１．１２mg及び〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１１mgを、室温で３０分間撹拌した。
【００６９】
例１６
アルゴンガス雰囲気下の丸型の二ツ口フラスコ内で、（Ｒ）−リボジオン１１．３ｇ（７３．５mmol）をイソプロパノール１３０mlに懸濁した。例１５の方法Ａにしたがって、〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕７１．２mg（０．１４７mmol）及びギ酸ナトリウム２０．０mg（０．２９４mmol）から調製した触媒を、空気の不存在下にリボジオン懸濁液に添加した。反応は３時間以内に終了し、移動水素化反応中に得られたアセトンを、２５℃で撹拌しながら連続して留去した。転化率は９９．８ＧＣ面積％であった。例１と同様に後処理をして、（Ｒ，Ｒ）−アクチノール／（Ｓ，Ｒ）−アクチノールの９６％／４％混合物１０．９ｇを得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は、９８．１％であった。
【００７０】
例１７〜２９
触媒溶液を例１５に記載した方法によって調製した。移動水素化反応１７〜２９を、表２に示す条件下に例１と同様にして行った。
【００７１】
【表２】
例３０
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１０１mg（０．２１mmol）、ギ酸ナトリウム１．４２ｇ（２１．０mmol）及び（Ｒ）−リボジオン０．６５ｇ（４．２mmol）を、５０ml容シュレンケ管内でジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）２１ml中に酸素不存在下に懸濁し、次いで室温で２時間撹拌した。このときは、弱い流れのアルゴンを懸濁液に通した。続けて、シュレンケ管を閉じ、その懸濁液を更に１４時間撹拌した。その後、水１０ml及び塩化メチレン５０mlを添加し、二つの相を分離した。水相を、それぞれ塩化メチレン５０mlで２回抽出した。合わせた有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ロータリーエバポレーターで蒸発させた。残渣のＧＣ分析によれば、転化率は９９．３％であり、（Ｒ，Ｒ）−アクチノール含量９１．２％（ｅｅ値７６．１％）を含む。
【００７３】
例３１〜３４
水素化反応３１〜３４を、表３に示す条件下に例３０と同様にして行った。
【００７４】
【表３】
例３５
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕から出発する触媒溶液の製造
水１２０ml中のギ酸ナトリウム０．６６２ｇ（９．７３mmol）の溶液、及び塩化メチレン１２０ml中の〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕０．９４２ｇ（１．９５mmol）の溶液を、アルゴンガス雰囲気下でスルホン化フラスコに導入した。その二相混合物を２０〜２３℃で１時間激しく撹拌した。塩化メチレン相は、活性な触媒である〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を含有していた。
【００７６】
移動水素化反応
（Ｒ）−リボジオン３００．０ｇ（１．９６mol）を、スルホン化フラスコ内でイソプロパノール３４４０mlに、２０〜２５℃で撹拌しながら懸濁し、その系をアルゴンで不活性にし、次いで該懸濁液を続けて４０℃まで加熱した。触媒を含有している塩化メチレン相を、酸素の不存在下にリボジオン溶液に添加した。反応溶液を、１５０mbar（１５kPa）の部分真空下に４０℃で、最初に塩化メチレン、その後移動水素化反応中に形成したアセトンを連続して留去しながら撹拌した。留去したアセトン／イソプロパノール混合物を新鮮なイソプロパノールの添加によって置換した。水素化反応は６時間後に終了した。転化率は、９９．６ＧＣ面積％であった。
【００７７】
触媒分離のため、水素化反応溶液を蒸発させ、その残渣をジイソプロピルエーテル中に溶解し、次いでその溶液を活性炭で処理した。ろ過及び蒸発の後、（Ｒ，Ｒ）−／（Ｓ，Ｒ）−アクチノールの９５％／５％混合物３０３．２ｇを油状物として得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は、９８．９％であった。この混合物１００ｇを、ジイソピロピルエーテル／ｎ−ヘキサンから結晶化した。純粋な（Ｒ，Ｒ）−アクチノール７５ｇを、ｅｅ＞９９．５％で得た。
【００７８】
例３６
〔ＲｕＣｌ2（ｐ−Ｃｙｍ）2〕（ルートＣ）から出発する触媒溶液の製造
〔ＲｕＣｌ2（ｐ−Ｃｙｍ）2〕０．１９９ｇ(０．３２４mmol)及びＮ−（ｐ−トシル）−エチレンジアミン０．１３９ｇ（０．６４８mmol）を、アルゴンガス雰囲気下のスルホン化フラスコ内で塩化メチレン２０ml中に溶解し、次いで水２０ml中のギ酸ナトリウム０．２２１ｇ（３．２５mmol）及び水酸化カリウム０．０３６ｇ（０．６４mmol）の溶液を添加した。二相混合物を２０〜２３℃で１時間激しく撹拌した。塩化メチレン相は、活性な触媒である〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を含有していた。
【００７９】
移動水素化反応
（Ｒ）−リボジオン１００ｇ（６４８．５mmol）の水素化を、例３５と同様にして行った。その水素化反応は８時間後に終了した。（Ｒ，Ｒ）−アクチノール／（Ｓ，Ｒ）−アクチノールの９５％／５％混合物を、＞９９％の収率で得た。（Ｒ，Ｒ）−アクチノールのｅｅ値は、９８．９％であった。
【００８０】
例３７
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕の製造
Ｎ−（ｐ−トシル）−エチレンジアミン５０．０ｇ（０．２３３mol）及び〔ＲｕＣｌ2（ｐ−Ｃｙｍ）2〕７１．５ｇ（０．１１７mmol）を、アルゴン雰囲気下に２リットル容スルホン化フラスコ内で塩化メチレン６５０リットル、水３３０リットル及び１M水酸化カリウム水溶液２３０ml中に溶解した。二相混合物を室温で３０分間激しく撹拌した。相分離の後、水相を塩化メチレン３００mlで逆抽出し、合わせた有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。ろ過及び蒸発の後に、橙−赤色の残渣をヘキサン４００mlに蒸解し、次いで高真空下に乾燥した。〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕を、収率９７％（１１４．３ｇ）で橙色の固体として単離した。試料１０ｇをメタノール中で結晶化し、〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕８．５ｇを赤色の結晶として単離した。
【００８１】
【表４】
例３８
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（Ｍｅ6Ｃ6）〕の製造
例３７と同様にして、水／塩化メチレン中のＮ−（ｐ−トシル）−エチレンジアミン９７．２mg（０．４mmol）、〔ＲｕＣｌ2（Ｍｅ6Ｃ6)2〕１５２．４mg（０．２mmol）及び０．１M水酸化カリウム水溶液４．６mlの反応、続けてメタノール中での粗生成物の結晶化の後に、〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（Ｍｅ6Ｃ6）〕１０６．０mg（４６％）を橙色の結晶として単離した。
【００８３】
【表５】
例３９
〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕の製造
〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕１９．０mg（０．０４mmol）及びギ酸ナトリウム２６．７mg（０．４mmol）を、アルゴン雰囲気下に５ml容シュレンケ管内でＤ2Ｏ２ml及びＣＤ2Ｃｌ2２mlに溶解し、次いで二相混合物を室温で３０分間撹拌した。1Ｈ−ＮＭＲ分析によれば、その黄色のＣＤ2Ｃｌ2相は、〔ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕及び未反応〔ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−Ｃｙｍ）〕少量を含有していた。
【００８５】
【表６】
Claims (16)
- 下記式：
前記アミノ−アミド−ルテニウム錯体として、
一般式Ｉ：
ＲｕＨ（Ｌ｛−Ｈ｝）（Ｙ） Ｉ
（式中、
Ｙは、中性リガンドであり、中性リガンドは、ベンゼン、ナフタレン又はテトラリンであり、ベンゼンの場合は、炭素原子１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキル基及び／又は炭素原子１〜５個のアルコキシ基、並びに／あるいは３〜７員の脂環式基であるシクロアルキル基でモノ−又は複−置換されていてもよいものであり；
Ｌは、一般式ＩＩ：
Ｒ１は、炭素原子１〜８個のアルキル、モノ−フッ化された炭素原子１〜８個のアルキル、若しくは複−フッ化された炭素原子１〜８個のアルキル、炭素原子３〜８個のアルケニル、炭素原子３〜８個のアルキニル、３〜７員の脂環式基であるシクロアルキル、アリール、モノ−置換されたアリール若しくは複−置換されたアリール、Ｏ、Ｓ又はＮを含有する５員又は６員の複素環式基を包含する複素環式アリール又はカンファー−１０−イルであり；
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素、炭素原子１〜８個のアルキル、アリール、モノ−置換されたアリール、複−置換されたアリールであるか；あるいは
Ｒ２及びＲ３は、それらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ−と一緒になって、炭素原子４〜８個の炭素環式基を形成し；
Ｒ４は、水素又は炭素原子１〜８個のアルキルであり；そして
ｎは、０又は１である）
で示されるアミノ−アミド−ルテニウム錯体を用いる方法。 - 用いられるアミノ−アミド−ルテニウム錯体の一般式Ｉにおいて、Ｌが、
一般式ＩＩで示されるモノスルホニル化ジアミン、又は、
一般式ＩＩで示される、光学的に活性なモノスルホニル化ジアミンであって、Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して、水素、炭素原子１〜８個のアルキル、アリール、モノ−置換されたアリール又は複−置換されたアリールであるか、Ｒ２及びＲ３がそれらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ−と一緒になって、炭素原子４〜６個の炭素環式基を形成し、ｎが０又は１であり、Ｒ１及びＲ４は請求項１記載のＲ１及びＲ４と同義である、請求項１に記載の方法。 - Ｌが、
一般式ＩＩで示されるモノスルホニル化ジアミン、又は、
一般式ＩＩで示されるモノスルホニル化ジアミンであって、Ｒ２及びＲ３が同一で、水素又はフェニルのいずれかであるか、Ｒ２及びＲ３がそれらを接続する基：−ＣＨ−（ＣＨ２)n−ＣＨ−と一緒になって、炭素原子４〜８個の炭素環式基を形成するものであり、Ｒ４が水素である請求項１に記載の方法。 - −ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ−におけるｎが０である、請求項３に記載の方法。
- 用いられるアミノ−アミド−ルテニウム錯体の一般式Ｉにおいて、Ｌが、一般式ＩＩで示される光学的に活性なモノスルホニル化されたジアミンであり、Ｒ２及びＲ３の両方が水素以外のものである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
- 用いられるアミノ−アミド−ルテニウム錯体の一般式Ｉにおいて、Ｌは、
（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１Ｒ，２Ｒ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１ＲＳ，２ＲＳ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド（ラセミ体）；
（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−４−メトキシ−ベンゼンスルホンアミド；
ナフタレン−１−スルホン酸〔（１Ｓ，２Ｓ）−（２−アミノ−１，２−ジフェニル−エチル）−アミド〕；
（１Ｒ，２Ｒ）−Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
（１ＲＳ，２ＲＳ）−Ｎ−（２−アミノ−シクロヘキシル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド（ラセミ体）；
Ｎ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミド；
そしてＮ−（３−アミノ−プロピル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミドから選択される、請求項１に記載の方法。 - 同時に溶媒としても用いることができる水素ドナーとして、アルコールを用いる請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
- 炭素原子数が１又は２のハロゲン化低級脂肪族炭化水素を付加的な溶媒として用いる請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
- （Ｒ）−リボジオンに対する触媒であるアミノ−アミド−ルテニウム錯体の比率は、１モル：２０モル〜１モル：１０，０００モルである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
- ジアステレオ選択的な移動水素化反応を、温度０〜１００℃で行う請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
- 触媒として用いる式Ｉのアミノ−アミド−ルテニウム錯体が、反応系内でインシチュ（ｉｎ−ｓｉｔｕ）で生成される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
- 一般式：
ＲｕＨ（Ｌ′｛−Ｈ｝）（Ｙ） Ｉ′
〔式中、
Ｙは中性リガンドであり、中性リガンドは、ベンゼン、ナフタレン又はテトラリンであり、ベンゼンの場合は、炭素原子１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキル基及び／又は炭素原子１〜５個のアルコキシ基、並びに／あるいは３〜７員の脂環式基であるシクロアルキル基でモノ−又は複−置換されていてもよいものであり；そして
Ｌ′は、一般式：
Ｒ１ＳＯ２−ＨＮ−ＣＨ２―（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−ＮＨＲ４ ＩＩ′
（式中、
Ｒ１は、炭素原子１〜８個のアルキル、モノ−フッ化された炭素原子１〜８個のアルキル、若しくは複−フッ化された炭素原子１〜８個のアルキル、炭素原子３〜８個のアルケニル、炭素原子３〜８個のアルキニル、３〜７員の脂環式基であるシクロアルキル、アリール、モノ−置換されたアリール若しくは複−置換されたアリール、Ｏ、Ｓ又はＮを含有する５員又は６員の複素環式基を包含する複素環式アリール又はカンファー−１０−イルであり；
Ｒ４は、水素又は炭素原子１〜８個のアルキルであり；そして
ｎは、０又は１である）
で示されるモノスルホニル化ジアミンである〕
で示されるアミノ−アミド−ルテニウム錯体。 - ＲｕＨ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−シメン）であり、Ｔｓ−ｅｎがＮ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミドである、請求項１２に記載のアミノ−アミド−ルテニウム錯体。
- 一般式：
ＲｕＸ（Ｌ′｛−Ｈ｝）（Ｙ） Ｉ″
〔式中、
Ｘは、塩素、臭素又はヨウ素であり；
Ｙは中性リガンドであり、中性リガンドは、ベンゼン、ナフタレン又はテトラリンであり、ベンゼンの場合は、炭素原子１〜８個の直鎖状又は分枝状のアルキル基及び／又は炭素原子１〜５個のアルコキシ基、並びに／あるいはシクロアルキル基でモノ−又は複−置換されていてもよいものであり；そして
Ｌ′は、一般式：
Ｒ１ＳＯ２−ＨＮ−ＣＨ２―（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−ＮＨＲ４ ＩＩ′
（式中、
Ｒ１は、炭素原子１〜８個のアルキル、モノ−フッ化された炭素原子１〜８個のアルキル、若しくは複−フッ化された炭素原子１〜８個のアルキル、炭素原子３〜８個のアルケニル、炭素原子３〜８個のアルキニル、３〜７員の脂環式基であるシクロアルキル、アリール、モノ−置換されたアリール若しくは複−置換されたアリール、Ｏ、Ｓ又はＮを含有する５員又は６員の複素環式基を包含する複素環式アリール又はカンファー−１０−イルであり；
Ｒ４は、水素又は炭素原子１〜８個のアルキルであり；そして
ｎは１である）
で示されるモノスルホニル化ジアミンである〕
で示されるアミノ−アミド−ルテニウム錯体。 - ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ｐ−シメン）であり、Ｔｓ−ｅｎがＮ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミドである請求項１４に記載のアミノ−アミド−ルテニウム錯体。
- ＲｕＣｌ（Ｔｓ−ｅｎ｛−Ｈ｝）（ヘキサメチルベンゼン）であり、Ｔｓ−ｅｎがＮ−（２−アミノ−エチル）−４−メチル−ベンゼンスルホンアミドである請求項１４に記載のアミノ−アミド−ルテニウム錯体。
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