JP5041501B2 - アミド化合物を配位子とする遷移金属錯体を用いたアルコールの製造方法 - Google Patents

Description

技術分野
本発明は、α−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする遷移金属錯体、それらを利用することによるアルコール類の製造方法、および光学活性なα−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする遷移金属錯体を用いる光学活性アルコール類の製造方法に関する。
背景技術
従来より、カルボニル化合物を還元することによるアルコール類の製造方法が数多く検討されているが、その中で遷移金属錯体を触媒とした水素移動型還元反応は、官能基選択性の高い優れた方法である。
特に、光学活性な遷移金属錯体を触媒として用いる不斉還元反応は、不斉合成の分野において有用な方法であることが知られている。例えば、光学活性アミノアルコール化合物、光学活性アミノホスフィン化合物、光学活性モノアミン化合物または光学活性ジアミン化合物を配位子とするルテニウム錯体を用いた反応（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，６２（１９９７），５２２６−５２２８、特開平９−１５７１９６、特開平１１−１８９５５８、特開平８−２２５４６６、ＷＯ９７／２０７８９、特開平１０−２３６９８６、特開平１０−２７３４５６、特開平１１−６０５２７）、光学活性アミノ酸を配位子とするルテニウム錯体を用いた反応（特開平１０−２５１２８４）、光学活性ジアミンを配位子とするロジウム、イリジウムまたはコバルト錯体を用いた反応（特開平１１−３３５３８５）などで立体選択的に光学活性アルコールを製造する方法が報告されている。
また、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，４３１（１９９２），２３３−２４６には、本発明の遷移金属錯体と類似の錯体を用いたオレフィンの不斉還元反応が開示されている。
しかしながら従来知られている遷移金属錯体を触媒とする方法では、基質として用いるカルボニル化合物によっては反応途中に触媒の失活が起こり、化学収率が低い場合があること等の問題点が残されている。
また、光学活性遷移金属錯体を触媒とした不斉還元反応では、不斉源である光学活性化合物が高価であったり、基質によっては十分な立体選択性が得られない場合があること等の問題点が残されている。
発明の開示
上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、α−アミノ酸より容易に調製することが可能なα−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする遷移金属錯体が、水素移動型還元反応で優れた触媒として働くことを見いだした。
さらに、光学活性な錯体を用いることにより光学活性アルコールの製造にも応用できることを見いだした。この方法で、α−アミノ−カルボン酸アミド、遷移金属および配位子について組合わせを選択することにより、これまで水素移動型還元反応が適用されていなかった基質も高い立体選択性で不斉還元できること等の知見を得て本発明を完成した。
即ち、本発明は、
［１］一般式（Ｉａ）：

（式中、Ｒ^１ａおよびＲ^２ａは水素原子または有機残基を示す。また、Ｒ^１ａおよびＲ^２ａが一緒になって置換されていてもよい環式基を形成していてもよい。）
で表される化合物（以下、化合物（Ｉａ）とすることもある）を、α−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする遷移金属錯体、塩基および水素供与性化合物の存在下で還元することを特徴とする一般式（ＩＩａ）：

（式中、Ｒ^１ａ’はＲ^１ａと同一であるか、またはＲ^１ａが還元された基を示し、Ｒ^２ａ’はＲ^２ａと同一であるか、またはＲ^２ａが還元された基を示す）
で表されるアルコール（以下、化合物（ＩＩａ）とすることもある）の製造方法、
［２］一般式（Ｉｂ）：

（式中、Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂは相異なる有機残基を示す。また、Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂが一緒になって置換されていてもよい非対照の環式基を形成していてもよい。）
で表される化合物を、光学活性なα−アミノ−カルボン酸アミド化合物（以下、化合物（Ｉｂ）とすることもある）を配位子とする遷移金属錯体、塩基および水素供与性化合物の存在下で不斉還元することを特徴とする一般式（ＩＩｂ）：

（式中、Ｒ^１ｂ’はＲ^１ｂと同一であるか、またはＲ^１ｂが還元された基を示し、Ｒ^２ｂ’はＲ^２ｂと同一であるか、またはＲ^２ｂが還元された基を示す）
で表される光学活性アルコール（以下、化合物（ＩＩｂ）とすることもある）の製造方法、
［３］Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂで示される有機残基が、それぞれ独立して置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換されていてもよいアルカノイル、置換されていてもよいアロイル、置換されていてもよいアルコキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイルまたは−Ｃ（Ｒ^３）＝Ｎ〜ＯＲ^４［式中、Ｒ^３は有機残基；Ｒ^４はオキシムの保護基；波線（〜）はＥ体、Ｚ体またはこれらの混合物のいずれかの配置を示す。］である［１］または［２］記載の製造方法、
［４］Ｒ^１ａまたはＲ^１ｂで示される有機残基が置換されていてもよいアリールであり、Ｒ^２ａまたはＲ^２ｂで示される有機残基が置換されていてもよいアルコキシカルボニルまたは置換されていてもよいカルバモイルである［１］または［２］記載の製造方法、
［５］α−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする遷移金属錯体が一般式（ＩＩＩ）：

（式中、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキルまたは置換されていてもよいアリール；Ｒ^７は水素原子、置換されていてもよい低級アルキルまたは置換されていてもよいアリール；Ｒ^８は低級アルキル（ｔｅｒｔ−ブチルを除く）、ハロゲン化低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、芳香環上に置換基を有していてもよいアラルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいアリールスルホニルまたは置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル；ＭはＶＩＩＩ族の遷移金属；Ｘはハロゲン原子；Ｌは配位子である芳香族化合物、環状オレフィン化合物または非環状オレフィン化合物を示す。また、Ｒ^６とＲ^７が一緒になって置換されていてもよい環式基を形成していてもよい。）で表される化合物（以下、化合物（ＩＩＩ）とすることもある）である［１］〜［４］までのいずれかに記載の製造方法、
［６］一般式（ＩＶ）：

（式中、各記号は［５］と同意義。）
で表されるα−アミノ−カルボン酸アミド化合物（以下、化合物（ＩＶ）とすることもある）と、一般式（Ｖ）：
［ＭＸ_ｎＬ］_ｍ Ｖ
（式中、ｎは１または２、ｍは１以上の整数を示し、他の記号は［５］と同意義。）
で表される遷移金属化合物（以下、化合物（Ｖ）とすることもある）を塩基の存在下反応させることにより、一般式（ＩＩＩ）：

（式中、各記号は［５］と同意義。）
で表される遷移金属錯体を生成させ、単離することなく用いる［５］記載の製造方法、
［７］Ｍがルテニウム、ロジウムまたはイリジウムである［５］または［６］記載の製造方法、
［８］Ｒ^８が置換されていてもよい低級アルキルスルホニルまたは置換されていてもよいアリールスルホニルである［５］〜［７］までのいずれかに記載の製造方法、
［９］溶媒がジメチルスルホキシドまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである［１］〜［８］までのいずれかに記載の製造方法。
［１０］塩基が、水酸化アルキル金属、水酸化アルキル土類金属、金属アルコキシドまたはアミン化合物である［１］〜［９］までのいずれかに記載の製造方法、
［１１］水素供与性化合物が、アルコール化合物、ギ酸、ギ酸塩、ギ酸エステルまたは亜リン酸である［１］〜［１０］までのいずれかに記載の製造方法、
［１２］反応温度が４０〜１００℃である［１］〜［１１］までのいずれかに記載の製造方法、
［１３］［１］〜［１２］までのいずれかに記載の製造方法で得られた一般式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）で表される化合物をアルキル化することによるアルキルエーテル体の製造方法、
［１４］アルキルエーテル体が、式（ＶＩ）：

（式中、Ｑは置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロ環式基、モノ置換またはジ置換メチレンアミノ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルキニル、置換されていてもよいアシル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニルまたは置換されていてもよいアリールスルホニルであり、
Ａは酸素原子、Ｓ（Ｏ）ｔ（ｔは０〜２の整数）またはＮＲ^９（Ｒ^９は水素原子、低級アルキルまたはアシル）であり、
Ｔは水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、低級アルコキシ、ニトロ、シアノ、アルキルチオまたはフェニルであり、
Ｙは置換されていてもよい低級アルコキシまたは置換されていてもよいアミノであり、
Ｚは酸素原子または硫黄原子であり、
ｓは０〜２の整数であり、
Ｒ^１０は低級アルキルである）
で示される化合物（以下、化合物（ＶＩ）とすることもある）である［１３］記載の製造方法、
［１５］Ｑが置換されていてもよいフェニルであり、Ａが酸素原子であり、Ｔが水素原子であり、Ｙが置換されていてもよいアミノであり、Ｚが酸素原子であり、ｓが１である、［１４］記載の製造方法、
［１６］一般式（ＩＩＩ）：

（式中、各記号は［５］と同意義。）
で表される化合物、およびその溶媒和物、
［１７］Ｍがルテニウム、ロジウムまたはイリジウムである［１６］記載の化合物、およびその溶媒和物、
［１８］Ｒ^８が置換されていてもよい低級アルキルスルホニルまたは置換されていてもよいアリールスルホニルである［１６］または［１７］記載の化合物、およびその溶媒和物、
［１９］一般式（ＩＶ）：

（式中、各記号は［５］と同意義。）
で表されるα−アミノ−カルボン酸アミド化合物と、一般式（Ｖ）：
［ＭＸ_ｎＬ］_ｍ Ｖ
（式中、各記号は［５］および［６］と同意義。）
で表される遷移金属化合物を塩基の存在下反応させることによる、一般式（ＩＩＩ）：

（式中、各記号は［５］と同意義。）
で表される遷移金属錯体の製造方法を提供する。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明のアルコール類の製造方法、および新規な遷移金属錯体について詳細に説明する。
本明細書中、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂで示される「有機残基」としては、例えば、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換されていてもよいアルカノイル、置換されていてもよいアロイル、置換されていてもよいアルコキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイルまたは−Ｃ（Ｒ^３）＝Ｎ〜ＯＲ^４［式中、Ｒ^３は有機残基；Ｒ^４はオキシムの保護基；波線（〜）はＥ体、Ｚ体またはこれらの混合物のいずれかの配置を示す。］などが例示される。
化合物（Ｉａ）および（Ｉｂ）の具体例としては、アセトフェノン、３’−クロロアセトフェノン、３’−トリフルオロメチルアセトフェノン、１−テトラロン、１−インダノン、プロピオフェノン、２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミド、２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−オキソ酢酸メチルおよび２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−オキソ酢酸ブチル等が挙げられる。
Ｒ^３で示される「有機残基」としては、例えば置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換されていてもよいアルカノイル、置換されていてもよいアロイル、置換されていてもよいアルコキシカルボニルおよび置換されていてもよいカルバモイルなどが挙げられる。
「Ｒ^１ａ’はＲ^１ａと同一であるか、またはＲ^１ａが還元された基を示し、Ｒ^２ａ’はＲ^２ａと同一であるか、またはＲ^２ａが還元された基を示す」とは、Ｒ^１ａおよびＲ^２ａが一緒になって置換されていてもよい環式基を形成している場合にはＲ^１ａ’およびＲ^２ａ’が一緒になって、還元された置換されていてもよい環式基を形成している場合を包含する。同様に、「Ｒ^１ｂ’はＲ^１ｂと同一であるか、またはＲ^１ｂが還元された基を示し、Ｒ^２ｂ’はＲ^２ｂと同一であるか、またはＲ^２ｂが還元された基を示す」という場合にもＲ^１ｂ’およびＲ^２ｂ’が一緒になって、還元された置換されていてもよい環式基を形成している場合を包含する。
「Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂが一緒になって置換されていてもよい非対称の環式基を形成していてもよい」とは、Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂが結合している炭素原子を中心として、左右非対称の環式基を形成する場合を包含する。
「光学活性なα−アミノ−カルボン酸アミド化合物」または「光学活性アルコール」という場合の光学活性とは、広義にはラセミ体以外のものを全て包含する。好ましくは鏡像体過剰率が４０％ｅｅ以上、より好ましくは７０％ｅｅ以上、さらに好ましくは８０％ｅｅ以上である。
「α−アミノ−カルボン酸アミド化合物」が光学活性である場合、Ｒ^５およびＲ^６は相異なる基であり、これらが結合している炭素原子がキラル中心となる。
「ハロゲン原子」としては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。Ｘで示されるハロゲン原子としては、好ましくは、塩素原子または臭素原子であり、特に好ましくは塩素原子である。
「アルキル」としては、例えば、炭素数１〜２５個、好ましくは炭素数１〜２０個、さらに好ましくは炭素数１〜８個の直鎖状または分枝状のアルキルを包含する。具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、ヘンイコシル、ドコシル、トリコシル、テトラコシルおよびペンタコシルなどが挙げられる。
「低級アルキル」としては、上記「アルキル」中、炭素数１〜８個、好ましくは１〜６個の直鎖状または分枝状のアルキルのものを包含する。
「トリ低級アルキルシリル」、「低級アルキルジアリールシリル」、「ヒドロキシ低級アルキル」、「アミノ低級アルキル」、「モノ低級アルキルアミノ」、「ジ低級アルキルアミノ」、「アリールオキシ低級アルキル」、「フェニル低級アルキル」、「フリル低級アルキル」、「低級アルキルベンゼンスルホニル」、「低級アルコキシカルボニル」、「低級アルキルチオ」、「低級アルキルスルホニル」および「低級アルキルスルフィニル」の低級アルキル部分も上記「低級アルキル」と同様である。
「置換されていてもよいアルキル」および「置換されていてもよい低級アルキル」の置換基としては、例えば、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シクロアルキル（例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなど）、−ＯＲ^１１［式中、Ｒ^１１は水素原子、低級アルキル（例、メチル、エチル、プロピルなど）、低級アルケニル、低級アルキニル、ハロゲン化低級アルキル（例、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、２−ブロモエチル、２，３−ジクロロプロピルなど）、置換されていてもよいアラルキル（例、ベンジル、４−メトキシベンジルなど）、低級アルコキシ低級アルキル（例、メトキシメチル、１−エトキシエチルなど）、置換されていてもよいアリール（例、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル（これらをまとめて２−，３−，４−クロロフェニルと略記する。以下、本明細書においては同様に略記する）、２−，３−，４−メチルフェニル、２−，３−，４−メトキシフェニル、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）、トリ低級アルキルシリル（例、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、トリイソプロピルシリルなど）、低級アルキルジアリールシリル（例、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルなど）、置換されていてもよいアルカノイル（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、トリフルオロアセチルなど）、置換されていてもよいアロイル（例、ベンゾイル、２−，３−，４−クロロベンゾイルなど）、置換されていてもよいアルコキシカルボニル（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルなど）、置換されていてもよいカルバモイル（例、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイルなど）、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロメチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キノリル、ベンゼンスルホニル、低級アルキルベンゼンスルホニル（例、トルエンスルホニルなど）］、−ＳＲ^１１（式中、Ｒ^１１は前記と同意義）、−ＮＲ^１１Ｒ^１２［式中、Ｒ^１１は前記と同意義。Ｒ^１２は水素原子、低級アルキル（例、メチル、エチル、プロピルなど）、置換されていてもよいアラルキル（例、ベンジル、４−メトキシベンジルなど）、、置換されていてもよいアリール（例、２−，３−，４−クロロフェニル、２−，３−，４−メチルフェニル、２−，３−，４−メトキシフェニル、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）］、置換されていてもよいアリール（例、フェニル、２−，３−，４−クロロフェニル、２−，３−，４−メチルフェニル、２−，３−，４−メトキシフェニル、１−または２−ナフチルなど）および置換されていてもよいヘテロアリール（例、ピリジン−２−イル、ピリジン−３−イル、ピリジン−４−イル、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、ピリミジン−５−イル、イソオキサゾール−３−イル、イソオキサゾール−５−イル、ピロール−２−イル、ピラゾール−３−イル、フラン−２−イル、フラン−３−イル、チオフェン−２−イル、チオフェン−３−イル、イミダゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、チアゾール−２−イルなど）などが挙げられる。これら置換基は置換可能ないずれの位置に置換していてもよい。
特にＵ、ＶおよびＷで示される「置換されていてもよい低級アルキル」としては低級アルキル、ハロゲン化低級アルキルおよび低級アルコキシ低級アルキルが好ましく、メチル、エチルおよびトリフルオロメチルがさらに好ましく、特にメチルが好ましい。
「ハロゲン化低級アルキル」とは、１〜３個の上記「ハロゲン原子」が置換した上記「低級アルキル」を包含し、具体的には、トリフルオロメチル、２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチルおよび３−クロロプロピルなどが挙げられる。
「置換されていてもよい低級アルキルスルホニル」の置換基としてはハロゲン原子、ヒドロキシ、低級アルコキシおよびフェニル等を包含する。置換されたアルキルスルホニルの具体例としてはベンジルスルホニル、トリフルオロメタンスルホニルおよびトリクロロメタンスルホニルなどが挙げられる。
「低級アルコキシ」とは、炭素数１〜８個、好ましくは１〜６個の直鎖状および分枝状のアルコキシを包含する。具体的にはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシおよびオクチルオキシ等を包含する。
「置換されていてもよい低級アルコキシ」の置換基としては、前記「置換されていてもよいアルキル」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。
「低級アルコキシ低級アルキル」とは、上記「低級アルコキシ」が置換した上記「低級アルキル」を包含する。具体的には、メトキシメチル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチルおよび３−メトキシプロピル、２−エトキシブチル、３−プロポキシペンチル、１−メトキシヘキシル、２−イソプロポキシヘプチルおよび４−メトキシオクチルなどが挙げられる。
「ハロゲン化低級アルコキシ」としては、上記「低級アルコキシ」が少なくとも１個の上記「ハロゲン原子」で置換されたものを包含する。具体的には、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシおよびクロロメトキシなどが挙げられる。このうち、ジフルオロメトキシが好ましい。
「低級アルコキシフェニル」および「低級アルコキシカルボニル」の低級アルコキシ部分は上記「低級アルコキシ」と同様である。
「アルコキシカルボニル」のアルキル部分は上記「アルキル」と同様であり、「置換されていてもよいアルコキシカルボニル」の置換基は上記「置換されていてもよいアルキル」の置換基と同様である。
「シクロアルキル」としては、例えば、炭素数３〜８個、好ましくは３〜６のシクロアルキルが挙げられる。具体的には、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロオクチルなどが挙げられる。
「置換されていてもよいシクロアルキル」の置換基としては、前記「置換されていてもよいアルキル」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。
「アルケニル」としては、炭素数２〜２５個、好ましくは炭素数２〜２０個、さらに好ましくは炭素数２〜８個のアルケニルを包含する。例えば、ビニル、アリル、１−，２−プロペニル、１−，２−，３−ブテニル、１−，２−，３−，４−ペンテニル、１−，２−，３−，４−，５−ヘキセニルおよび１−，２−，３−，４−，５−，６−ヘプテニルなどが挙げられる。
「低級アルケニル」とは、上記「アルケニル」のうち、炭素数２〜８個、好ましくは炭素数２〜６個の直鎖状または分枝状のアルケニルを包含する。
「低級アルケニルオキシ」の低級アルケニル部分も上記「低級アルケニル」と同様であり、具体的には、ビニルオキシ、アリルオキシおよびクロチルオキシなどが挙げられる。このうち、アリルオキシが好ましい。
「フェニル低級アルケニル」、「フリル低級アルケニル」、「ハロゲン化低級アルケニルオキシ」の低級アルケニル部分も上記「低級アルケニル」と同様である。
「置換されていてもよいアルケニル」、「置換されていてもよい低級アルケニル」、「置換されていてもよい低級アルケニルオキシ」の置換基としては、前記「置換されていてもよいアルキル」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。
「シクロアルケニル」とは、炭素数３〜７個のシクロアルケニル、例えば、シクロプロペニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルおよびシクロヘプテニルなどが挙げられる。また、環内に２以上の二重結合を有していてもよく、例えばシクロブテニル、シクロヘキサジエニルおよびシクロヘプタジエニル等も包含する。
「置換されていてもよいシクロアルケニル」の置換基としては、前記「置換されていてもよいアルキル」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。
「アルキニル」としては、炭素数２〜２５個、好ましくは炭素数２〜２０個、さらに好ましくは炭素数２〜８個アルキニルを包含する。例えば、エチニル、１−，２−プロピニル、１−，２−，３−ブチニル、１−，２−，３−，４−ペンチニル、１−，２−，３−，４−，５−ヘキシニルおよび１−，２−，３−，４−，５−，６−ヘプチニルなどが挙げられる。
「低級アルキニル」は上記「アルキニル」のうち、炭素数２〜８個、好ましくは炭素数２〜６個のアルキニルを包含する。
「低級アルキニルオキシ」の低級アルキニル部分は上記「低級アルキニル」と同様であり、エチニルオキシ、プロパルギルオキシ、ブチニルオキシなどが挙げられる。このうち、プロパルギルオキシが好ましい。
「ハロゲン化低級アルキニルオキシ」の低級アルキニル部分も上記「低級アルキニル」と同様である。
「置換されていてもよいアルキニル」、「置換されていてもよい低級アルキニル」、「置換されていてもよい低級アルキニルオキシ」の置換基としては、前記「置換されていてもよいアルキル」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。
「アリール」としては、炭素数６〜１４個のアリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリルおよび２−フェナントリルなどが挙げられる。フェニルが好ましい。
「アリールオキシ」、「アリールオキシ低級アルキル」、「低級アルキルジアリールシリル」、「アリールスルホニル」および「アリールスルホニルオキシ」のアリール部分も上記と同様である。
Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂで示される「置換されていてもよいアリール」の置換基としては、例えば、低級アルキル（例、メチル、エチル、プロピル、ブチルなど）、低級アルケニル（例、ビニル、アリル、クロチルなど）、低級アルキニル（例、エチニル、プロパルギル、ブチニルなど）、シクロアルキル（例、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなど）、シクロアルケニル（例、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなど）、ハロゲン化低級アルキル（例、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、クロロメチル、２−ブロモエチル、１，２−ジクロロプロピルなど）、ヒドロキシ低級アルキル（例、ヒドロキシメチル、１−，２−ヒドロキシエチルなど）、低級アルコキシ低級アルキル（例、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチルなど）、置換されていてもよいアミノ低級アルキル（例、アミノメチル、１−，２−アミノエチル、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチルなど）、置換されていてもよいアリールオキシ低級アルキル（例、フェノキシメチル、２−，３−，４−メチルフェノキシメチル、２−，３−，４−クロロフェノキシメチル、２−，３−，４−メトキシフェノキシメチル、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−ジメチルフェノキシメチルなど）、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ニトロ、シアノ、置換されていてもよいアラルキル（例、ベンジル、フェネチル、４−メトキシベンジルなど）、置換されていてもよいアリール（例、２−，３−，４−クロロフェニル、２−，３−，４−メチルフェニル、２−，３−，４−メトキシフェニル、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）、−（ＣＨ_２）ｓ−Ａ−Ｑ（式中、各記号は前記と同意義）などが挙げられる。これら置換基は、該アリールの置換可能ないずれの位置に置換されていてもよく、その数は１〜４個である。
Ｑで示される「置換されていてもよいアリール」の置換基としては、トリ低級アルキルシリル、低級アルキル、ハロゲン化低級アルキル（例、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、２−ブロモエチル、２，３−ジクロロプロピルなど）、フェニル低級アルキル（例、ベンジル、フェネチルなど）、フリル低級アルキル（例、３−フリルメチル、２−フリルエチルなど）、アミノ、モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、フェニル、フェニル低級アルケニル（例、スチリル、シンナミルなど）、フリル低級アルケニル（例、３−フリルビニル、２−フリルアリルなど）、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、低級アルキルチオ、低級アルコキシカルボニル、−ＯＲ^１１（式中、は前記と同意義）および−ＣＨ_２−Ｇ−Ｒ’［式中、Ｇは、−Ｏ−、−Ｓ−、または−ＮＲ”−（ここでＲ”は水素原子または低級アルキル）であり、Ｒ’は、フェニル、ハロフェニル（例、２−クロロフェニル、４−フルオロフェニルなど）、低級アルコキシフェニル（例、２−メトキシフェニル、４−エトキシフェニルなど）、ピリジルまたはピリミジニルである］などが挙げられる。これら置換基は、該アリールの置換可能ないずれの位置に置換されていてもよく、その数は１〜４個である。
上記以外の「置換されていてもよいアリール」の置換基および「置換されていてもよいアリールオキシ低級アルキル」の置換基としては例えばハロゲン原子、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、低級アルキル、ハロゲン化低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、アミノ、モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、フェニル等が挙げられる。具体的には、２−，３−，４−クロロフェニル、２−，３−，４−ニトロフェニル、２−，３−，４−シアノフェニル、２−，３−，４−メチルフェニル、２−，３−，４−トリフルオロメチルフェニル、２−，３−，４−トリクロロメチルフェニル、２−，３−，４−メトキシフェニルおよび２，４−，２，３−，３，４−ジメトキシフェニルなどが挙げられる。
これら置換基は、該アリールの置換可能ないずれの位置に置換していてもよく、その数は１〜４個である。
Ｑで示される「置換されていてもよいアリール」は、好ましくは、一般式（ＶＩＩ）：

［式中、Ｕ、ＶおよびＷは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオまたは置換されていてもよいアミノを示す。］
で表される。
「置換されていてもよいアリールスルホニル」の置換基としては、低級アルキル（例、メチル、エチルおよびプロピルなど）、ハロゲン原子、低級アルコキシ（例、メトキシ、エトキシおよびプロポキシなど）、アミノ、モノ低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、アシルアミノ、およびフェニルなどが挙げられる。置換されたアリールスルホニルの例としては、２−，３−，４−トルエンスルホニル、２−，３−，４−クロロベンゼンスルホニル、２−，３−，４−メトキシベンゼンスルホニル、２，４−，２，３−，３，４−ジメトキシベンゼンスルホニル、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル、２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホニル、４−アミノベンゼンスルホニル、４−メチルアミノベンゼンスルホニル、４−エチルアミノベンゼンスルホニル、４−ジメチルアミノベンゼンスルホニルおよび４−アセトアミドベンゼンスルホニルなどが挙げられる。
「アラルキル」とは、上記「アリール」が置換している上記「低級アルキル」を包含する。具体的には、ベンジル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、２−（１−ナフチル）エチルおよび２−（２−ナフチル）エチルなどが挙げられる。
「置換されていてもよいアラルキル」、「芳香環上に置換基を有していてもよいアラルキル」の置換基としては、低級アルキル（例、メチル、エチル、プロピルなど）、ハロゲン原子およびアルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシなど）などが挙げられる。これら置換基は、該芳香環上の置換可能ないずれの位置に置換されていてもよく、その数は１〜４個である。
「ヘテロアリール」としては、例えば、窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環内に含有する５〜７員の芳香族ヘテロ環式基、具体的には、ピリジル（例、ピリジン−２−イル、ピリジン−３−イル、ピリジン−４−イル）、ピリミジニル（例、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、ピリミジン−５−イル）、イソオキサゾリル（例、イソオキサゾール−３−イル、イソオキサゾール−４−イル、イソオキサゾール−５−イルなど）、チアジアゾリル（例、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イルなど）、ピリダジニル（例、ピリダジン−３−イル、ピリダジン−４−イルなど）、ピロリル（例、ピロール−１−イル、ピロール−２−イルなど）、ピラゾリル（例、ピラゾール−１−イル、ピラゾール−３−イルなど）、フリル（例、フラン−２−イル、フラン−３−イル）、チエニル（例、チオフェン−２−イル、チオフェン−３−イル）、イミダゾリル（例、イミダゾール−１−イル、イミダゾール−２−イルなど）、オキサゾリル（例、オキサゾール−２−イル、オキサゾール−４−イル、オキサゾール−５−イルなど）、チアゾリル（例、チアゾール−２−イル、チアゾール−４−イル、チアゾール−５−イルなど）、オキサジアゾリル（例、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イルなど）、ピラジニル（例、ピラジン−２−イルなど）、キノリル（例、キノリン−２−イルなど）、ベンゾチアゾリル（例、ベンゾチアゾール−２−イル）またはインドリル（例、インドリン−１−イル、インドリン−２−イルなど）などが挙げられる。これらヘテロアリールは、結合手を可能ないずれの位置に有していてもよい。
「ヘテロアリールスルホニル」のヘテロアリール部分は上記「ヘテロアリール」と同様であり、具体的には、２−ピリジンスルホニル、４−ピリジンスルホニル、２−フランスルホニル、３−フランスルホニル、２−チオフェンスルホニルおよび３−チオフェンスルホニルなどが挙げられる。
「置換されていてもよいヘテロアリール」および「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル」の置換基としては、前記Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂで示される「置換されていてもよいアリール」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。これら置換基は、該ヘテロ環式基の置換可能ないずれの位置に置換されていてもよく、その数は１〜３個である。
「非芳香族複素環式基」としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環内に１個以上含む非芳香族の５〜７員複素環式基、具体的には、ピロリジニル（例えば、３−ピロリジニル）、ピラゾリジニル（例えば、３−ピラゾリジニル）、ピペリジル（例えば、２−，４−ピペリジル）、ピペラジニル（例えば、２−ピペラジニル）およびモルホリニル（例えば、２−，３−モルホリニル）等が挙げられる。
「置換されていてもよい非芳香族複素環式基」の置換基としては、前記Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂで示される「置換されていてもよいアリール」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。これら置換基は、該非芳香族複素環式基の置換可能ないずれの位置に置換されていてもよく、その数は１〜３個である。
「ヘテロ環式基」とは、上記「ヘテロアリール」および上記「非芳香族複素環式基」を包含する。
「置換されていてもよいヘテロ環式基」の置換基としては、上記「置換されていてもよいアリール」の置換基として例示した基が挙げられる。このうち、ハロゲン原子、ハロゲン化低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アルコキシカルボニルが好ましく、塩素原子またはトリフルオロメチルがさらに好ましい。これら置換基は、該環の置換可能ないずれの位置にあってもよい。該置換基は１〜５個、好ましくは１〜４個、さらに好ましくは１〜３個であり、これらは同一であっても異なっていてもよい。
「アルカノイル」としては、例えば炭素数１〜２５個、好ましくは炭素数１〜２０個、さらに好ましくは炭素数１〜８個の直鎖状または分枝状のアルカノイルを包含する。例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、プロピオニルおよびパルミトイルなどが挙げられる。また、１以上の不飽和結合を有していてもよく、例えばアクリロイル、メタクリロイルおよびクロトノイル等を包含する。
「低級アルカノイル」としては、例えば、炭素数１〜８個、好ましくは１〜６個の直鎖状または分枝状の上記「アルカノイル」を包含する。
「置換されていてもよいアルカノイル」および「置換されていてもよい低級アルカノイル」の置換基としては、前記「置換されていてもよいアルキル」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。
「アロイル」としては、例えば、炭素数７〜１５個、好ましくは７〜１１個を有するアロイルが挙げられる。具体的には、ベンゾイルおよびナフトイルなどが挙げられる。
「置換されていてもよいアロイル」の置換基としては、前記Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂで示される「置換されていてもよいアリール」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。これら置換基は、該アロイル基の置換可能ないずれの位置に置換されていてもよく、その数は１〜４個である。
「アシル」とは、ホルミル、上記「低級アルカノイル」および上記「アロイル」を包含する。
「置換されていてもよいアシル」とは、ホルミル、上記「置換されていてもよいアルカノイル」および「置換されていてもよいアロイル」を包含する。
「置換されていてもよいカルバモイル」の置換基としては、前記「置換されていてもよいアルキル」や、「置換されていてもよいアリール」が挙げられる。
「オキシムの保護基」としては、例えばメチル、ベンジル、トリチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、トリイソプロピルシリルおよびｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル等が挙げられる。
またＲ^１ａおよびＲ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂが一緒になって「置換されていてもよい環式基」を形成している場合、これらが結合する炭素原子と共に形成される環式基としては、シクロアルカン、シクロアルケンおよび非芳香族複素環等を包含する。ここで、シクロアルカンおよびシクロアルケンとは、例えばそれぞれ炭素数３〜８個、好ましくは３〜６個のシクロアルカンおよびシクロアルケンが挙げられる。シクロアルケンは任意の位置に１以上の二重結合を有していればよい。例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプテン、シクロヘプタジエンおよびシクロオクテン等を包含する。非芳香族複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選択される１〜３個のヘテロ原子を環内に含む非芳香族の５〜７員複素環を包含する。例えばテトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、ジヒドロピリジン、ジヒドロピリダジン、オキサチオラン、アゼチジン、チアン、ピロリジン、イミダゾリジン、イミダゾリンおよびピペリジン等が例示される。
Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂが一緒になって形成する「置換されていてもよい環式基」の置換基としては、低級アルキル（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなど）、低級アルケニル（例、ビニル、１−，２−プロペニル、１−，２−，３−ブテニルなど）、ハロゲン化低級アルキル（例、クロロメチル、２−クロロエチル、ブロモメチル、２−ブロモエチル、フルオロメチル、２−フルオロエチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、ジフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、トリフルオロメチルなど）、置換されていてもよいアラルキル（例、ベンジル、ｏ−，ｍ−，ｐ−メチルベンジル、ｏ−，ｍ−，ｐ−クロロベンジル、ｏ−，ｍ−，ｐ−メトキシベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチルなど）、低級アルコキシ低級アルキル（例、メトキシメチル、１−，２−メトキシエチル、エトキシメチルなど）、アリールオキシ低級アルキル（例、フェノキシメチルなど）および置換されていてもよいアリール（例、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、ｏ−，ｍ−，ｐ−メチルフェニル、ｏ−，ｍ−，ｐ−メトキシフェニルおよびｏ−，ｍ−，ｐ−クロロフェニルなど）などが挙げられる。これら置換基は該環式基の置換可能ないずれの位置に結合していてもよく、好ましくは１〜３個である。また、隣接する２つの置換基が一緒になってシクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環またはベンゼン環等を形成していてもよい。
Ｒ^６とＲ^７が一緒になって「置換されていてもよい環式基」を形成している場合、形成しうる環としては、Ｒ^６が結合しているＮ原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を環内に含んでいてもよい非芳香族環が挙げられる。具体的にはアジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、オキサゾリジン、イミダゾリジン、チアゾリジン、モルホリンおよびピペラジンなどが挙げられ、好ましくはピロリジンまたはピペリジンである。
Ｒ^６とＲ^７が一緒になって形成する「置換されていてもよい環式基」の置換基としては、前記「置換されていてもよい低級アルキル」の置換基として例示した基と同様のものが挙げられる。
「置換されていてもよいアミノ」および「置換されていてもよいアミノ低級アルキル」の置換基としては前記「置換されていてもよい低級アルキル」や、「置換されていてもよいアリール」等が挙げられる。特に低級アルキルが好ましい。 「モノ置換またはジ置換メチレンアミノ」は、例えば式（ＶＩＩＩ）：

［式中、Ｒ^１３およびＲ^１４は同一または異なって水素原子、置換されていてもよい低級アルキル、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、シクロアルキル、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロ環式基を示すか、あるいはＲ^１３とＲ^１４が結合してヘテロ原子が含まれていてもよい単環または多環を形成していることを示す（ただし、Ｒ^１３およびＲ^１４が同時に水素原子である場合を除く）］で表される。Ｒ^１３またはＲ^１４はメチル、エチルおよびフェニルが好ましい。
Ｒ^１３およびＲ^１４が結合して形成される「ヘテロ原子が含まれていてもよい単環または多環」は、Ｒ^１３およびＲ^１４とこれらが結合する炭素原子と共に形成される、酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を環内に含んでいてもよい４〜８員環であり、該環はさらに他の環と縮合環を形成していてもよい。該環の具体例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、インダン、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、５，６，７，８−テトラヒドロキノリン、４，５，６，７−テトラヒドロベンゾ［ｂ］フランなどが挙げられる。これらの環は、その可能ないずれの位置に２価の結合手を有していてもよい。
「ＶＩＩＩ族の遷移金属」としては、具体的には、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、コバルト、ニッケルおよびパラジウムなどが挙げられる。好ましくは、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウムである。特に好ましくはルテニウムである。
「配位子である芳香族化合物、環状オレフィン化合物または非環状オレフィン化合物」としては、例えば、低級アルキル（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなど）および／または低級アルコキシ（例、メトキシおよびエトキシなど）が１〜６個、任意な場所に置換していてもよい芳香族化合物、環状オレフィン化合物および非環状オレフィン化合物などが挙げられる。具体的には、η^６−ベンゼン、η^６−トルエン、η^６−ｏ−キシレン、η^６−ｍ−キシレン、η^６−ｐ−キシレン、η^６−ｐ−シメン、η^６−メシチレン、η^６−１，２，３−トリメチルベンゼン、η^６−１，２，４−トリメチルベンゼン、η^６−１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、η^６−１，２，３，５−テトラメチルベンゼン、η^６−１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、η^６−ペンタメチルベンゼン、η^６−ヘキサメチルベンゼン、η^６−アニソール等の芳香族化合物、η^５−シクロペンタジエニル、η^５−ペンタメチルシクロペンタジエニル、η^５−インデニル、η^４−１，５−シクロオクタジエン、η^４−ノルボルナジエン等の環状オレフィン化合物、η^４−１，５−ヘキサジエン、等の非環状オレフィン化合物などが挙げられる。好ましくは、η^６−ベンゼン、η^６−ｐ−シメン、η^６−メシチレンまたはη^５−ペンタメチルシクロペンタジエニルであり、特に好ましくはη^６−メシチレンである。
化合物（ＩＩＩ）中、特に、Ｒ^８が置換されていてもよい低級アルキルスルホニルまたは置換されていてもよいアリールスルホニルである化合物は加熱等に対して安定であるという特性を有する。これら化合物を本発明のアルコール類の製造に用いることにより、加温を行って短時間で反応を完結させることが可能であり、また、より少量の錯体使用量で反応を行うことが可能である。従って、化合物（Ｉａ）または（Ｉｂ）からそれぞれ（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）を得る本発明反応は、４０℃〜１００℃、より好ましくは４５℃〜８５℃の範囲で行うことが好ましい。これよりも温度が低ければ反応を短時間で完結させることができず、これよりも温度が高ければ化合物（ＩＩＩ）が熱により分解してしまうため、好適に反応を進めることができない。
化合物（ＩＩＩ）は、例えば、以下に示す合成法によって製造することができる。

（式中、各記号は前記と同意義。）
即ち、化合物（ＩＩＩ）は、化合物（ＩＶ）で示されるα−アミノ−カルボン酸アミド化合物に、化合物（Ｖ）を塩基の存在下、適当な溶媒（単一あるいは混合）中、反応させ製造することができる。本反応において、化合物（Ｖ）は単量体（ＭＸｎＬ）として、化合物（ＩＶ）に対して０．５〜３当量、好ましくは１〜２当量使用することができる。
使用することができる塩基としては、例えば、水酸化アルカリ金属（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、水酸化アルカリ土類金属（例、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなど）、金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、金属アルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなど）、アミン化合物（アルキルアミン（例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン）、ピリジンなど）などが挙げられる。その使用量は化合物（ＩＶ）に対して１〜５０当量、好ましくは１〜２０当量である。
使用できる溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類（例、トルエン、ベンゼン、キシレンなど）、飽和炭化水素類（例、シクロヘキサン、ヘキサンなど）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、クロロホルムなど）、アルコール類（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど）、エーテル類（例、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、１−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、水およびそれらの混合溶媒などが挙げられる。
反応温度は０℃〜溶媒の還流温度で、好ましくは１０℃〜溶媒の還流温度である。反応時間は化合物により異なるが０．５〜９０時間反応させればよい。反応終了後、水あるいは塩酸等の鉱酸を加えた後、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン等の有機溶媒を単独かあるいは混合して抽出することにより単離することができる。さらに所望によりカラムクロマトグラフィー、再結晶等の通常の方法により目的物を精製してもよい。
なお、本反応において原料として用いた化合物（ＩＶ）は公知であるか、あるいは、後記参考例１〜４に記載の方法およびそれに準ずる方法で、公知のα−アミノ酸およびその誘導体より製造することができる。もう一つの原料である化合物（Ｖ）は公知であるか、あるいは丸善株式会社の「第４版実験化学講座１８、有機金属錯体」（日本化学会編）に記載されている方法、およびそれに準ずる方法により製造することができる。
上記方法により光学活性な化合物（ＩＶ）を原料として化合物（ＩＩＩ）を合成した場合、α−アミノ−カルボン酸アミド部分のキラリティーと遷移金属部分のキラリティーに由来するジアステレオマー混合物として得られる場合があるが、ジアステレオマー混合物のまま本発明の水素移動型不斉還元反応に用いても良いし、再結晶などの方法により単一のジアステレオマーとして同反応に用いることもできる。
また、化合物（ＩＩＩ）は溶媒和物として得られる場合がある。溶媒和物とは、例えば有機溶媒との溶媒和物、水和物等を包含する。溶媒和物を形成する時は、任意の種類および数の溶媒と配位していてもよい。
本発明のカルボニル化合物（Ｉａ）または（Ｉｂ）の還元によるアルコール（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）の製造を実施する際、上記方法により生成する化合物（ＩＩＩ）は単離操作を行うことなく、粗製物あるいは反応液のまま用いることも可能である。
以下、上記方法により合成することができる化合物（ＩＩＩ）の具体例として、化合物群Ａ〜Ｗを以下に示し、化合物群Ａ〜Ｗの置換基Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７およびＲ^８の組合せを表１〜１９に示す。なお、化合物群Ａ〜Ｗのうち好ましいものはＡ、Ｆ、ＧおよびＴである。置換基Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７およびＲ^８の好ましい組合せは、表１〜１９中のＮｏ．５、１３、３７、４４である。従って、本発明における好ましい組合せ（化合物群、置換基）は以下のものである。
（化合物群、置換基）＝（Ａ、５）、（Ａ、１３）、（Ａ、３７）、（Ａ、４４）、（Ｆ、５）、（Ｆ、１３）、（Ｆ、３７）、（Ｆ、４４）、（Ｇ、５）、（Ｇ、１３）、（Ｇ、３７）、（Ｇ、４４）、（Ｔ、５）、（Ｔ、１３）、（Ｔ、３７）、（Ｔ、４４）。

本発明のアルコール（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）の製造法は、通常、上記の方法で得られた遷移金属錯体（ＩＩＩ）、塩基、水素供与性化合物、原料のカルボニル化合物（Ｉａ）または化合物（Ｉｂ）および溶媒を適当な順で加え混合した後、適当な温度で撹拌することにより行われる。
本反応において、遷移金属錯体（ＩＩＩ）の使用量は、化合物（Ｉａ）および（Ｉｂ）に対して０．０００００１〜０．０５当量、好ましくは０．０００００２〜０．０２当量である。
使用することができる塩基としては、例えば、金属水酸化物（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、金属アルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなど）、アルキルアミン類（例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン）およびピリジンなどが挙げられる。その使用量は、化合物（Ｉａ）および（Ｉｂ）に対して０．００１〜５０当量、好ましくは０．００２〜２０当量である。
水素供与性化合物としては、熱的作用あるいは触媒作用によって水素を供与することのできる化合物、具体的には、アルコール化合物（エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノールなど）、ギ酸、ギ酸塩（ギ酸ナトリウム塩、ギ酸カリウム塩ギ酸とアミン類（例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン）との塩など）、ギ酸エステル（ギ酸メチルエステル、ギ酸エチルエステルなど）、亜リン酸などが挙げられる。この内、イソプロパノール、ギ酸およびギ酸とアミン類との塩が好ましい。その使用量は化合物（Ｉａ）および（Ｉｂ）に対して、アルコール化合物の場合５〜２００当量、好ましくは１０〜１００当量、その他の化合物の場合１〜２０当量、好ましくは１〜１０当量である。
使用できる溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類（例、トルエン、ベンゼン、キシレンなど）、飽和炭化水素類（例、シクロヘキサン、ヘキサンなど）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、クロロホルムなど）、アルコール類（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど）、エーテル類（例、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、１−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、水およびそれらの混合溶媒などが挙げられる。好ましくは、ジメチルスルホキシドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。なお、ギ酸およびギ酸とアミン類との塩を水素供与性化合物として用いる場合、溶媒を用いなくてもよい。また、ギ酸とアミン類との塩を用いる場合、他の塩基を加えなくてもよい。
反応温度は用いる原料、反応溶媒や遷移金属錯体により異なるが、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは０℃〜溶媒の還流温度の範囲である。反応時間も原料、反応溶媒や不斉源により異なるが、０．５〜２００時間反応させればよい。
また、遷移金属錯体（ＩＩＩ）を単離せずに不斉還元反応を行う場合には、通常、化合物（ＩＶ）のα−アミノ−カルボン酸アミドの溶液に、化合物（Ｖ）の遷移金属錯体と塩基を加え、０．１〜２４時間、好ましくは０．１〜５時間、室温〜溶媒還流温度で撹拌した後、原料の化合物（Ｉａ）または（Ｉｂ）と水素供与性化合物をそのままか、あるいは溶液にして加え、適当な温度で撹拌することにより行われる。また、反応の途中で塩基を追加してもよい。
上記反応により得られた目的の一般式（ＩＩａ）および（ＩＩｂ）：

（式中、Ｒ^１ａ’、Ｒ^１ｂ’、Ｒ^２ａ’およびＲ^２ｂ’は、それぞれＲ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂと同一の有機残基であるか、もしくはＲ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂが還元された基を示す。また、Ｒ^１ａ’とＲ^２ａ’、およびＲ^１ｂ’とＲ^２ｂ’の間で環式基を形成していてもよい。）
で表わされるアルコール化合物は、反応終了後、水あるいは塩酸等の鉱酸を加えた後、化合物（ＩＩａ）および（ＩＩｂ）が塩基性である場合は必要に応じて水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ水酸化物、あるいは、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ炭酸塩を加えアルカリ性としたのち、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン等の有機溶媒を単独かあるいは混合して抽出することにより単離することができる。さらに所望によりカラムクロマトグラフィー、再結晶、蒸留等の通常の方法により目的物を精製してもよい。これら精製工程により、化合物（ＩＩｂ）の光学純度を向上させることができる場合がある。
化合物（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）のＲ^１ａ’、Ｒ^１ｂ’、Ｒ^２ａ’およびＲ^２ｂ’は、それぞれ化合物（Ｉａ）または（Ｉｂ）のＲ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂと同一のものであるか、もしくはＲ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂが本発明方法により還元され得る基である場合は、それらが還元した基を含むものである。例えば、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂで示される有機残基の前記具体例に対応するＲ^１ａ’、Ｒ^１ｂ’、Ｒ^２ａ’およびＲ^２ｂ’としては、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換されていてもよいアルカノイル、置換されていてもよいα−ヒドロキシアルキル（置換されていてもよいアルカノイルの還元物）、置換されていてもよいアロイル、置換されていてもよいα−ヒドロキシアラルキル（置換されていてもよいアロイルの還元物）、置換されていてもよいアルコキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイルまたは−Ｃ（Ｒ^３）＝Ｎ〜ＯＲ^４（式中、各記号は前記と同意義）が挙げられる。
以上のようにして得られる化合物（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）は、医薬品、農薬および液晶表示材料等として、あるいはそれらの合成中間体として利用することができる。
例えば、上記の方法により得た化合物（ＩＩｂ）においてＲ^１ｂ’が

（式中、各記号は前記と同意義。）
であり、Ｒ^２ｂ’がＣ（＝Ｚ）Ｙである化合物を、塩基存在下、適当な溶媒中、ジアルキル硫酸、塩化アルキル、臭化アルキル、ヨウ化アルキル等のアルキル化剤と反応させると化合物（ＩＩｂ）の光学活性アルコールがエーテル化された、化合物（ＶＩ）：

（式中、各記号は前記と同意義。）
を得ることができる。
ここで塩基としては金属水素化物（例、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど）、金属水酸化物（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなど）、金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウムなど）、金属アルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなど）、炭酸水素ナトリウム、金属ナトリウムなどを用いればよい。また、溶媒としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、芳香族炭化水素類（例、トルエン、ベンゼン、キシレンなど）、飽和炭化水素類（例、シクロヘキサン、ヘキサンなど）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなど）、エーテル類（例、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、ケトン類（例、アセトン、メチルエチルケトンなど）、ニトリル類（例、アセトニトリルなど）、水およびそれらの混合溶媒などを用いることができる。また、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライドまたはベンジルトリエチルアンモニウムクロライドなどの相間移動触媒を混在させてもよい。
こうして得られた化合物（ＶＩ）は、ＷＯ９５／２７６９３に記載の化合物であり、殺菌剤として有用であることが知られている。特にＲ^１ｂ’が２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニルであり、Ｒ^２ｂ’がメチルカルバモイルである化合物が好ましい。
実施例
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。実施例中に記載した^１Ｈ−ＮＭＲ値は、重クロロホルム（ＣＤＣｌ_３）溶媒中テトラメチルシランを内部標準として、あるいは、重ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ_６）を溶媒および標準物質として測定した。δ値はｐｐｍで、結合定数（Ｊ）はＨｚで標記した。データ中、ｓは一重線、ｄは二重線、ｔは三重線、ｑは四重線、ｑｕｉｎｔは五重線、ｓｅｘｔは六重線、ｍは多重線、ｂｒは幅広線を意味する。なお、化合物（ＩＩＩ）の化合物番号は、前記化合物群Ａ〜Ｗと表１〜１９の置換基の組み合わせを示し、たとえば、Ａ−１７６は化合物群Ａのうち置換基の組合せ例のＮｏ１７６のものであることを示す。また、光学活性な化合物（ＩＩＩ）のキラリティーについては、α−アミノ−カルボン酸アミドのアミノ基の付け根部分の絶対配置のみを示し、化合物番号の前に（Ｓ）または（Ｒ）を付与する。
不斉還元反応で得られた生成物の鏡像体過剰率は、光学活性カラムを用いるＨＰＬＣ分析により求め、％ｅｅ［（｜Ｒ−Ｓ｜／Ｒ＋Ｓ）×１００］で表記した。
参考例１
（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−２−メチル−２−ピロリジンカルボキサミドの合成
（１）公知（ＳｅｅｂａｃｋらＯｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，７２，６２（１９９３）．および、ＧｅｎｉｎらＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３５，４９６７（１９９４）．）の方法に従って調製した（Ｓ）−α−メチルプロリン１．１８ｇ（９．１４ｍｍｏｌ）を水１０ｍｌに溶解し、１，４−ジオキサン１０ｍｌと１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液９．１４ｍｌを加えた。これに、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート２．１９ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、室温で１５時間撹拌した。エバポレーターで減圧濃縮した後、クエン酸２．０ｇを加えて酸性とし、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去して粗製の（Ｓ）−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−α−メチルプロリン１．２２ｇ（５８％）を淡黄色固体として得た。
（２）（Ｓ）−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−α−メチルプロリン３００ｍｇ（１．３１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶解し、ベンジルアミン１５４ｍｇ（１．４４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン２０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）および１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２７６ｍｇ（１．４４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、５％クエン酸水溶液、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−メチル−２−ピロリジンカルボキサミド１９０ｍｇ（４６％）を無色油状物として得た。
（３）（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−メチル−２−ピロリジンカルボキサミド１９０ｍｇ（０．６０ｍｍｏｌ）を１０％塩酸−メタノール１０ｍｌに溶解し、室温で３時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣にトルエンを加え減圧留去した。これを２回繰り返した後、残渣にジクロロメタンを加えて氷浴で冷却し、アンモニアガスをバブリングした。析出した結晶をセライトを用いて除去した後、ろ液を減圧濃縮し、（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−２−メチル−２−ピロリジンカルボキサミド１３０ｍｇ（１００％）を淡黄色油状物として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．４４（ｓ，３Ｈ），１．４５（ｂｒ，１Ｈ），１．５８−１．７９（ｍ，３Ｈ），２．２６−２．３４（ｍ，１Ｈ），２．７６−２．８５（ｍ，１Ｈ），３．０２−３．１１（ｍ，１Ｈ），４．４０（ｄｄ，Ｊ＝５．９，１５．２Ｈｚ，１Ｈ），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝５．９，１５．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２４−７．３６（ｍ，５Ｈ），８．２７（ｂｒ，１Ｈ）．
参考例２
（Ｓ）−Ｎ−フェニル−２−ピロリジンカルボキサミドの合成
（１）（Ｓ）−Ｎ−（ベンジルオキシカルボニル）プロリン（和光純薬製）３．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、アニリン１．２３ｇ（１３．２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン１００ｍｇ（０．８２ｍｍｏｌ）および１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２．５４ｇ（１．３２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に１Ｎ塩酸を加えジエチルエーテルで抽出した。有機層を、１Ｎ塩酸、水、飽和重曹水、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去した。得られた残渣をジエチルエーテル／ｎ−ヘキサンより再結晶し、（Ｓ）−１−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｎ−フェニル−２−ピロリジンカルボキサミド２．１６ｇ（５５％）を白色結晶として得た。
（２）（Ｓ）−１−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｎ−フェニル−２−ピロリジンカルボキサミド２．１５ｇ（６．６２ｍｍｏｌ）をメタノール２０ｍｌに溶解し、１０％パラジウム−炭素０．２０ｇを加えた。反応系内を水素ガスで置換した後、室温で２時間撹拌した。セライトを用いて反応液ろ過して触媒を除去した。メタノールで洗浄した後、ろ液、洗液を合わせて減圧濃縮した。得られた残渣をジエチルエーテル／ｎ−ヘキサンより再結晶し、（Ｓ）−Ｎ−フェニル−２−ピロリジンカルボキサミド１．１７ｇ（９３％）を白色結晶として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．６８−１．８５（ｍ，２Ｈ），１．９９−２．２９（ｍ，３Ｈ），２．９４−３．１３（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｄｄ，Ｊ＝５．３，９．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝７．６，８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｄｄ，Ｊ＝１．０，８．６Ｈｚ，２Ｈ），９．７３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例３
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの合成
（１）（Ｓ）−Ｎ−（ベンジルオキシカルボニル）プロリン（和光純薬製）１．５０ｇ（６．０２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホンアミド１．０８ｇ（６．３１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン１００ｍｇ（０．８２ｍｍｏｌ）および１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１．２７ｇ（６．６２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に１Ｎ塩酸を加えジエチルエーテルで抽出した。有機層を、１Ｎ塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去した。得られた粗製の（Ｓ）−１−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド２．２２ｇ（９２％）は、精製することなく次工程に用いた。
（２）粗製の（Ｓ）−１−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド２．２２ｇ（５．５２ｍｍｏｌ）をメタノール２０ｍｌに溶解し、１０％パラジウム−炭素０．２０ｇを加えた。反応系内を水素ガスで置換した後、室温で２時間撹拌した。セライトを用いて反応液ろ過して触媒を除去した。温メタノールで洗浄した後、ろ液、洗液を合わせて減圧濃縮した。得られた残渣をメタノールより再結晶し、（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１．１０ｇ（７４％）を淡灰色結晶として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δｐｐｍ：１．６６−１．８６（ｍ，３Ｈ），２．０６−２．１７（ｍ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），２．９７−３．２０（ｍ，２Ｈ），３．８０（ｍ，１Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ），８．１６（ｂｒ，１Ｈ），８．８４（ｂｒ，１Ｈ）．
参考例４
（Ｓ）−３−メチル−２−メチルアミノ−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）バレルアミドの合成
（１）公知（ＢｅｎｏｉｔｏｎらＣａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，５１，１９１５（１９７３）．）の方法に従って調製した（Ｓ）−Ｎ−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｎ−メチルバリン１．０ｇ（３．７７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホンアミド０．６５ｇ（３．８０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン５０ｍｇ（０．４１ｍｍｏｌ）および１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩０．７９ｇ（４．１２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に水、１Ｎ塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を、１Ｎ塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、（Ｓ）−３−メチル−２−（Ｎ−メチルベンジルオキシカルボニルアミノ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）バレルアミド１．００ｇ（６３％）を無色油状物として得た。
（２）（Ｓ）−３−メチル−２−（Ｎ−メチルベンジルオキシカルボニルアミノ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）バレルアミド１．００ｇ（２．３９ｍｍｏｌ）をメタノール２０ｍｌに溶解し、１０％パラジウム−炭素５０ｍｇを加えた。反応系内を水素ガスで置換した後、室温で３時間撹拌した。セライトを用いて反応液ろ過して触媒を除去した。メタノールで洗浄した後、ろ液、洗液を合わせて減圧濃縮した。得られた残渣を酢酸エチルに懸濁して固体をろ取し、（Ｓ）−３−メチル−２−メチルアミノ−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）バレルアミド０．６１ｇ（９０％）を白色結晶として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．００（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．０５（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），２．２９（ｍ，１Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｓ，３Ｈ），３．２５（ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｂｒ，１Ｈ）．
参考例１〜４に記載した合成法と同様の方法で得られる化合物の物性を以下に示す。
参考例５
（Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ １９１〜１９３℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δｐｐｍ：１．９４−２．０６（ｍ，２Ｈ），２．０８−２．１９（ｍ，１Ｈ），２．２８−２．４１（ｍ，１Ｈ），３．００（ｓ，３Ｈ），３．２３−３．４５（ｍ，２Ｈ），４．０４（ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例６
（Ｓ）−Ｎ−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ １９７〜１９９℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δｐｐｍ：１．６７−１．９２（ｍ，３Ｈ），２．０６−２．１９（ｍ，１Ｈ），３．００−３．１３（ｍ，１Ｈ），３．１５−３．２３（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
参考例７
（Ｓ）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ １８８〜１９０℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δｐｐｍ：１．７６−２．０７（ｍ，３Ｈ），２．１７−２．３１（ｍ，１Ｈ），３．１３−３．３４（ｍ，２Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝６．３，８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），６．５２（ｓ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例８
（Ｓ）−Ｎ−（２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ ２１９〜２２２℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δｐｐｍ：１．８７−２．０９（ｍ，３Ｈ），２．３８−２．４９（ｍ，１Ｈ），３．２４−３．３５（ｍ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．９０（ｓ，６Ｈ），４．２６−４．３２（ｍ，１Ｈ），６．２９（ｓ，２Ｈ）．
参考例９
（Ｓ）−Ｎ−（４−クロロベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ ２０５〜２０７℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δｐｐｍ：１．８２−２．０７（ｍ，３Ｈ），２．２２−２．３５（ｍ，１Ｈ），３．１６−３．３７（ｍ，２Ｈ），３．９６（ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
参考例１０
（Ｓ）−Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ １４５〜１４８℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δｐｐｍ：１．４４−１．６４（ｍ，１Ｈ），１．６６−１．８０（ｍ，２Ｈ），１．９８−２．１４（ｍ，１Ｈ），２．９１−３．１１（ｍ，２Ｈ），３．８０（ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４９−７．５８（ｍ，３Ｈ），７．９３（ｄｄ，Ｊ＝２．７，６．６Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄｄ，Ｊ＝１．３，７．３Ｈｚ，１Ｈ），８．７６（ｄｄ，Ｊ＝２．３，６．９Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例１１
（Ｓ）−Ｎ−（４−アセトアミノベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ ２０４〜２０７℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δｐｐｍ：１．６１−１．８５（ｍ，３Ｈ），１．９７−２．１２（ｍ，１Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），３．０３−３．１６（ｍ，２Ｈ），３．７９（ｍ，１Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．１０（ｂｒ，１Ｈ），８．８７（ｂｒ，１Ｈ），１０．０７（ｓ，１Ｈ）．
参考例１２
（Ｓ）−Ｎ−（４−アミノベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ １８５〜１８７℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δｐｐｍ：１．６６−１．８９（ｍ，３Ｈ），２．０４−２．１４（ｍ，１Ｈ），２．９７−３．１１（ｍ，１Ｈ），３．１３−３．２５（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｄｄ，Ｊ＝６．３，８．６Ｈｚ，１Ｈ），５．４４（ｂｒｓ，２Ｈ），６．４５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．４５（ｂｒ，１Ｈ）．
参考例１３
（Ｓ）−Ｎ−（４−ジメチルアミノベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ ２１６〜２１８℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δｐｐｍ：１．６６−１．８７（ｍ，３Ｈ），２．０１−２．１５（ｍ，１Ｈ），２．９２（ｓ，６Ｈ），２．９６−３．０６（ｍ，１Ｈ），３．１０−３．２０（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｄｄ，Ｊ＝６．３，８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．６１（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
参考例１４
（Ｓ）−２−メチル−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ ２８８〜２９０℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３＋ＤＮＳＯ−ｄ_６）δｐｐｍ：１．５４（ｓ，３Ｈ），１．７２−２．０３（ｍ，３Ｈ），２．３７（ｓ，３Ｈ），２．４２−２．５１（ｍ，１Ｈ），３．０９−３．１９（ｍ，１Ｈ），３．２９−３．３８（ｍ，１Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），８．５５（ｂｒ，１Ｈ）．
参考例１５
（２Ｓ，４Ｒ）−４−メトキシ−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δｐｐｍ：１．８６−２．０１（ｍ，１Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），２．５４−２．６５（ｍ，１Ｈ），３．２７−３．４３（ｍ，２Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），４．０５−４．２２（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ）．
参考例１６
（２Ｓ，４Ｓ）−４−メトキシ−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド
ｍｐ １１４〜１２１℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δｐｐｍ：２．２３−２．４６（ｍ，２Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），３．０９（ｍ，３Ｈ），３．２１（ｄｄ，Ｊ＝４．３，１２．２Ｈｚ，１Ｈ），３．４５（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，１Ｈ），３．９９−４．０８（ｍ，２Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例１
（（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−２−ピロリジンカルボキサミド）クロロ（η^６−ｐ−シメン）ルテニウム（化合物番号（Ｓ）−Ｆ−５）の合成
窒素雰囲気下、（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−２−ピロリジンカルボキサミド１０２ｍｇ（０．５０ｍｍｏｌ）にエタノール１ｍｌと水酸化カリウム２８ｍｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を加え溶解した。これに、ジクロロメタン１ｍｌ、テトラクロロビス（η^６−ｐ−シメン）二ルテニウム１５３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応液に水を加えジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣にｎ−ヘキサンを加えて結晶化し、結晶をろ取、乾燥した。（（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−２−ピロリジンカルボキサミド）クロロ（η^６−ｐ−シメン）ルテニウム１９５ｍｇ（８２％）を茶褐色固体として得た。
ｍｐ９４〜９９℃（ｄｅｃｏｍｐｏｓｅ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．１３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．１６（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．５３−１．８９（ｍ，２Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），１．９９−２．０６（ｍ，１Ｈ），２．２１−２．３９（ｍ，１Ｈ），２．６３−２．７６（ｍ，１Ｈ），２．８９−３．０４（ｍ，１Ｈ），３．６４−３．７１（ｍ，１Ｈ），３．７２−３．８６（ｍ，１Ｈ），４．１８−４．３４（ｍ，１Ｈ），４．８４（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），４．９８（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），５．０４（ｓ，２Ｈ），５．０９（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），５．１９（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１９−７．３６（ｍ，３Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例２
クロロ（η^６−メシチレン）［（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド］ルテニウム（化合物番号（Ｓ）−Ｇ−３７）の合成
窒素雰囲気下、（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド６７ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）に、テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウム７３ｍｇ（０．１２５ｍｍｏｌ）、イソプロパノール３ｍｌ、トリエチルアミン０．１７ｍｌ（１．２５ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で４時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣にｎ−ヘキサンを加えて結晶化した。結晶をろ取してジクロロメタンに溶解し、０．１Ｎ塩酸、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣にエタノール２ｍｌを加えろ過して不溶物を除いた後、ろ液を減圧濃縮して残渣をエタノール／酢酸エチルより再結晶した。クロロ（η^６−メシチレン）［（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド］ルテニウム５９ｍｇ（４５％）を橙色固体として得た。
ｍｐ２４６〜２４９℃（ｄｅｃｏｍｐｏｓｅ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．６６−２．１４（ｍ，４Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），２．３４ ａｎｄ ２．３８（ｓ，９Ｈ），３．０２−３．０９（ｍ，１Ｈ），３．５９−３．６８（ｍ，１Ｈ），３．７２−３．９１（ｍ，２Ｈ），５．３９ ａｎｄ ５．６２（ｓ，３Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ），７．９０ ａｎｄ ８．０２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例３〜１５
実施例１または２と同様の反応により、表２０〜２２に示す化合物を合成した。表中に実施例３〜１５で得られた化合物の物性値を記載する。

実施例１６
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元−１
３頸フラスコの系内を窒素ガスで置換し、２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミド１．４９ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、クロロ（η^６−メシチレン）［（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド］ルテニウム（化合物番号（Ｓ）−Ｇ−３７）２６ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ２．５ｍｌを入れた。これに、公知（ＮａｒｉｔａらＣｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，２５，１３５，（１９７７）．）の方法により調製したギ酸−トリエチルアミン（５：２）混液２．５ｍｌを加え、室温で２時間、５０℃で２２時間撹拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を淡黄色固体として得た。
ｍｐ８６〜８７℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：２．１６（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，３Ｈ），４．３５（ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，１Ｈ），４．９４（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，１Ｈ），５．３４（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，１Ｈ），５．３５（ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，１Ｈ），６．４９（ｂｒｓ，１Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３２−７．４８（ｍ，４Ｈ）．
生成物を光学活性カラム（ダイセル化学工業（株）製；ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ）を用い、ｎ−ヘキサン／イソプロパノール（８：２）を溶媒として分析した結果、その鏡像体過剰率は８６％ｅｅであった。
実施例１７〜２３
実施例１６と同様の方法で、用いる遷移金属錯体（原料に対するモル比は同じ）、溶媒などを変えて２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元を行った。結果を表２３に示す。

比較例１
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元−ｔｅｒｔ−ブチルアミド錯体を用いる方法
クロロ（η^６−メシチレン）［（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド］ルテニウムの代りにクロロ（η^６−ｐ−シメン）［（Ｓ）−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−ピロリジンカルボキサミド］ルテニウム２２ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応条件を室温で３日間、５０℃で２日間とする以外は実施例１６と同様に行った。（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド０．６９ｇ（４６％）を淡黄色固体として得た。鏡像体過剰率は０．３％ｅｅであった。
比較例２
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元−アミノ酸錯体を用いる方法
クロロ（η^６−メシチレン）［（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド］ルテニウムの代りにクロロ（η^６−ｐ−シメン）（（Ｓ）−２−ピロリジンカルボキシラート）ルテニウム１９ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応条件を室温で２０時間、５０℃で３０時間とする以外は実施例１６と同様に行った。（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド０．１７ｇ（１１％）を淡黄色固体として得た。鏡像体過剰率は２１％ｅｅであった。
実施例２４
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−１）
３頸フラスコの系内を窒素ガスで置換し、テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウム１４．６ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）と（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１３．４ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＳＯ１ｍｌに溶解した。これにトリエチルアミン０．０２ｍｌ（０．１４ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。室温まで放冷した後、２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミド１．４９ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ１．５ｍｌ、ギ酸−トリエチルアミン（５：２）混液２．５ｍｌを加え、５０℃で２２時間撹拌した。実施例１６と同様の方法で後処理し、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８９％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例２５
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−２）
テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウムの使用量を７．３ｍｇ（０．０１３ｍｍｏｌ）、（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの使用量を６．７ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）とし、還元反応の反応時間を３０時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８８％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例２６
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−３）
還元反応の反応条件を８０℃、２時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８５％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例２７
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−４）
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１４．２ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を６時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８７％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例２８
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−５）
テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウムの使用量を１．５ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミンの使用量を０．０１ｍｌ（０．０７ｍｍｏｌ）とし、（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに（Ｓ）−Ｎ−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１．４ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応条件を８０℃、２４時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．４８ｇ（９９％）を７８％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例２９
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−６）
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−（４−クロロベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１４．４ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を３６時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８９％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例３０
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−７）
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−２−ピロリジンカルボキサミド９．６ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応条件を室温２０時間、５０℃２４時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８６％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例３１
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−８）
テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウムの代りに、テトラクロロビス（η^５−ペンタメチルシクロペンタジエニル）二イリジウム１９．９ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を５０時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８６％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例３２
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−９）
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（２Ｓ，４Ｒ）−４−メトキシ−Ｎ−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１４．９ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を１８時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を９０％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
比較例３
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元（反応系内で錯体を形成する方法−９）
テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウムの代りにテトラクロロビス（η^６−ｐ−シメン）二ルテニウム７．７ｍｇ（０．０１３ｍｍｏｌ）、（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに（１Ｓ，２Ｒ）−１−アミノ−２−インダノール７．４ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応条件を室温２４時間とする以外は実施例２４と同様に行なった。粗生物の^１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、原料と還元体の比率は９：１であった。
実施例３３
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−オキソ酢酸メチルの還元
３頸フラスコの系内を窒素ガスで置換し、２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−オキソ酢酸メチル１．４９ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、［（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−２−メチル−２−ピロリジンカルボキサミド］クロロ（η^６−ｐ−シメン）ルテニウム（化合物番号（Ｓ）−Ｆ−５２）２４ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ２．５ｍｌを入れた。これに、ギ酸−トリエチルアミン（５：２）混液２．５ｍｌを加え、室温で４時間撹拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。（Ｓ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ酢酸メチル１．５０ｇ（１００％）を淡黄色油状物として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：２．２２（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），３．４６（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），５．５０（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｍ，３Ｈ），７．５３（ｔ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ）．
生成物を光学活性カラム（ダイセル化学工業（株）製；ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ）を用い、ｎ−ヘキサン／イソプロパノール（８：２）を溶媒として分析した結果、その鏡像体過剰率は５８％ｅｅであった。
実施例３４
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−オキソ酢酸ブチルの還元
３頸フラスコの系内を窒素ガスで置換し、２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−オキソ酢酸ブチル１．７０ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、クロロ（η^６−メシチレン）［（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド］ルテニウム（化合物番号（Ｓ）−Ｇ−３７）２６ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ２．５ｍｌを入れた。これに、ギ酸−トリエチルアミン（５：２）混液２．５ｍｌを加え、室温で１０分、５０℃で２４時間撹拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ酢酸ブチル１．７１ｇ（１００％）を淡黄色油状物として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：０．８２（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．２３（ｓｅｘｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），１．５３（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），３．５２（ｂｒｓ，１Ｈ），４．０８−４．２３（ｍ，２Ｈ），５．１９（ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，１Ｈ），５．２１（ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，１Ｈ），５．４９（ｓ，１Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｓ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３３−７．４２（ｍ，３Ｈ），７．５２−７．５５（ｍ，１Ｈ）．
生成物を光学活性カラム（ダイセル化学工業（株）製；ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ−Ｒ）を用い、アセトニトリル／水（７：３）を溶媒として分析した結果、その鏡像体過剰率は５５％ｅｅであった。
実施例３５
（１）２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミドの再結晶
鏡像体過剰率８８％ｅｅの（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１５．１ｇ（５０．４ｍｍｏｌ）を酢酸エチル８ｍｌに加温溶解した。ｎ−ヘキサン３２ｍｌを加えた後、放冷して析出した結晶をろ取した。ｎ−ヘキサンで洗浄した後、乾燥し１３．７ｇの白色結晶を得た（回収率９１％）。得られた（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミドの鏡像体過剰率は９５％ｅｅであった。
（２）（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−メトキシ−Ｎ−メチルアセトアミドの合成
鏡像体過剰率９５％ｅｅの（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１１．９７ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）をトルエン３０ｍｌに懸濁した。４８％水酸化ナトリウム水溶液１０．０ｇ（１２０ｍｍｏｌ）を加えた後、ジメチル硫酸６．０６ｇ（４８ｍｍｏｌ）の１０ｍｌトルエン溶液を滴下し、室温で６時間撹拌した。水を加えトルエンで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去した。得られた残渣をｎ−ヘキサン／酢酸エチル混液（５：１，６０ｍｌ）より再結晶し、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−メトキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１１．０８ｇ（８８％）を白色結晶として得た。
ｍｐ１０７〜１０８℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：２．１９（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），２．８３（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，３Ｈ），３．３６（ｓ，３Ｈ），５．０３（ｓ，３Ｈ），５．０６（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），５．４７（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｓ，１Ｈ），６．８０（ｂｒ，１Ｈ），７．０３（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３１−７．４３（ｍ，３Ｈ），７．５０−７．５４（ｍ，１Ｈ）．
生成物を光学活性カラム（ダイセル化学工業（株）製；ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ）を用い、ｎ−ヘキサン／イソプロパノール（８：２）を溶媒として分析した結果、その鏡像体過剰率は９８％ｅｅであった。
実施例３６
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（２Ｓ，４Ｒ）−４−メトキシ−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１４．９ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を１８時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を９０％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例３７
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（２Ｓ，４Ｓ）−４−メトキシ−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１４．９ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を１７時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８８％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例３８
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１５．２ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を２０時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８８％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例３９
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−（４−アセトアミノベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１５．６ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を２０時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８８％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例４０
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−（４−アミノベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１４．６ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を２０時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８５％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例４１
２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミドの還元
（Ｓ）−Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−（４−ジメチルアミノベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１４．９ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の反応時間を２０時間とする以外は実施例２４と同様に行い、（Ｒ）−２−（２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアセトアミド１．５０ｇ（１００％）を８６％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例４２
３’−クロロアセトフェノンの還元
３頸フラスコの系内を窒素ガスで置換し、テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウム１４．６ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）と（Ｓ）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１５．７ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＳＯ１ｍｌに溶解した。これにトリエチルアミン０．０２ｍｌ（０．１４ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。室温まで放冷した後、３’−クロロアセトフェノン０．７７ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ１．５ｍｌ、ギ酸−トリエチルアミン（５：２）混液２．５ｍｌを加え、５０℃で２０時間撹拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を、水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、（Ｒ）−１−（４−クロロフェニル）エタノール０．７８ｇ（１００％）を無色油状物として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．４８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．９１（ｓ，１Ｈ），４．８７（ｍ，１Ｈ），７．２１−７．３１（ｍ，３Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）．
生成物を光学活性カラム（ダイセル化学工業（株）製；ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＪ）を用い、ｎ−ヘキサン／イソプロパノール（９５：５）を溶媒として分析した結果、その鏡像体過剰率は８８％ｅｅであった。
実施例４３
３’−クロロアセトフェノンの還元
還元反応の条件を室温で４日間とする以外は実施例４２と同様に行い、（Ｒ）−１−（４−クロロフェニル）エタノール０．７８ｇ（１００％）を９０％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例４４
３’−クロロアセトフェノンの還元
（Ｓ）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミドの代りに、（Ｓ）−Ｎ−（２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１７．２ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、還元反応の条件を室温で８時間、５０℃で４０時間とする以外は実施例４２と同様に行い、（Ｒ）−１−（４−クロロフェニル）エタノール０．７８ｇ（１００％）を９０％ｅｅの鏡像体過剰率で得た。
実施例４５
アセトフェノンの還元
３頸フラスコの系内を窒素ガスで置換し、テトラクロロビス（η^６−メシチレン）二ルテニウム１４．６ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）と（Ｓ）−Ｎ−（２，４−ジメトキシベンゼンスルホニル）−２−ピロリジンカルボキサミド１５．７ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＳＯ１ｍｌに溶解した。これにトリエチルアミン０．０２ｍｌ（０．１４ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。室温まで放冷した後、アセトフェノン０．６０ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ１．５ｍｌ、ギ酸−トリエチルアミン（５：２）混液２．５ｍｌを加え、５０℃で５日間撹拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を、水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、（Ｒ）−１−フェニルエタノール０．５９ｇ（１００％）を無色油状物として得た。生成物を光学活性カラム（ダイセル化学工業（株）製；ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＪ）を用い、ｎ−ヘキサン／イソプロパノール（９：１）を溶媒として分析した結果、その鏡像体過剰率は９０％ｅｅであった。
産業上の利用可能性
本発明のアルコールの製造方法によると、α−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする遷移金属錯体を触媒とする還元反応により、高収率でアルコールを製造することができる。また、光学活性な錯体を触媒とする反応により、高い立体選択性で光学活性アルコールを製造することができる。

Claims (12)

1. 一般式（Ｉａ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１ａおよびＲ^２ａは水素原子または有機残基を示す。また、Ｒ^１ａおよびＲ^２ａが一緒になって置換されていてもよい環式基を形成していてもよい。）で表される化合物を、
   α−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする、以下の化合物から選択される遷移金属錯体：
   

   

   

   塩基および水素供与性化合物の存在下で還元することを特徴とする一般式（ＩＩａ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１ａ’はＲ^１ａと同一であるか、またはＲ^１ａが還元された基を示し、Ｒ^２ａ’はＲ^２ａと同一であるか、またはＲ^２ａが還元された基を示す）
   で表されるアルコールの製造方法。
2. 一般式（Ｉｂ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂは相異なる有機残基を示す。また、Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂが一緒になって置換されていてもよい非対称の環式基を形成していてもよい。）
   で表される化合物を、
   光学活性なα−アミノ−カルボン酸アミド化合物を配位子とする、以下の化合物から選択される遷移金属錯体：
   

   

   

   塩基および水素供与性化合物の存在下で不斉還元することを特徴とする一般式（ＩＩｂ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１ｂ’はＲ^１ｂと同一であるか、またはＲ^１ｂが還元された基を示し、Ｒ^２ｂ’はＲ^２ｂと同一であるか、またはＲ^２ｂが還元された基を示す）
   で表される光学活性アルコールの製造方法。
3. Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｒ^１ｂおよびＲ^２ｂで示される有機残基が、それぞれ独立して置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環式基、置換されていてもよいアルカノイル、置換されていてもよいアロイル、置換されていてもよいアルコキシカルボニル、置換されていてもよいカルバモイルまたは−Ｃ(Ｒ^３)＝Ｎ〜ＯＲ^４［式中、Ｒ^３は有機残基；Ｒ^４はオキシムの保護基；波線（〜）はＥ体、Ｚ体またはこれらの混合物のいずれかの配置を示す。］である請求の範囲第１項または第２項記載の製造方法。
4. Ｒ^１ａまたはＲ^１ｂで示される有機残基が置換されていてもよいアリールであり、Ｒ^２ａまたはＲ^２ｂで示される有機残基が置換されていてもよいアルコキシカルボニルまたは置換されていてもよいカルバモイルである請求の範囲第１項または第２項記載の製造方法。
5. 溶媒がジメチルスルホキシドまたはＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドである請求の範囲第１項〜第４項までのいずれか１項に記載の製造方法。
6. 塩基が、水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、金属アルコキシドまたはアミン化合物である請求の範囲第１項〜第５項までのいずれか１項に記載の製造方法。
7. 水素供与性化合物が、アルコール化合物、ギ酸、ギ酸塩、ギ酸エステルまたは亜リン酸である請求の範囲第１項〜第６項までのいずれか１項に記載の製造方法。
8. 反応温度が４０〜１００℃である請求の範囲第１項〜第７項までのいずれか１項に記載の製造方法。
9. 請求の範囲第１項〜第８項までのいずれか１項に記載の製造方法で得られた一般式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）で表される化合物をアルキル化することによるアルキルエーテル体の製造方法。
10. アルキルエーテル体が、式（ＶＩ）：
    

    

    （式中、Ｑは置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロ環式基、モノ置換またはジ置換メチレンアミノ、置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルキル、置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルケニル、置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルキニル、置換されていてもよいアシル、置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルキルスルホニルまたは置換されていてもよいアリールスルホニルであり、
    Ａは酸素原子、Ｓ（Ｏ）ｔ（ｔは０〜２の整数）またはＮＲ^９（Ｒ^９は水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキルまたはアシル）であり、
    Ｔは水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ、ニトロ、シアノ、Ｃ１−Ｃ８アルキルチオまたはフェニルであり、
    Ｙは置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルコキシまたは置換されていてもよいアミノであり、
    Ｚは酸素原子または硫黄原子であり、
    ｓは０〜２の整数であり、
    Ｒ^１０はＣ１−Ｃ８アルキルである）
    である請求の範囲第９項記載の製造方法。
11. Ｑが置換されていてもよいフェニルであり、Ａが酸素原子であり、Ｔが水素原子であり、Ｙが置換されていてもよいアミノであり、Ｚが酸素原子であり、ｓが１である、請求の範囲第１０項記載の製造方法。
12. 以下の式：
    

    

    

    

    で表される化合物、又はその溶媒和物。