JP4384109B2 - 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム - Google Patents
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Description
B…成膜領域
10…真空チャンバ
20…蒸着源
30…基板
40…マスク
50…チャック
100…蒸着源用追突防止装置
102…蒸着源
110…駆動部
112…支持体
112a、112b…棚
114…駆動軸
122…センサー
124…連結部
124a…貫通口
126…結合部、126a…結合部の穴
130…制御部
142…連結体
144…滑車
150…カウンターウェイト
152…固定部材
154…定盤
160a…第1の支持フレーム、160b…第2の支持フレーム
162a…第1のガイドプレート、162b…第2のガイドプレート
210…ビーム
222…支持板
226…結合部
230…遮断板
230a…第1の管体
230b…第2の管体
Claims (13)
- 蒸着システムの真空チャンバに設置された駆動軸に結合する結合部と、連結部を介して前記結合部に連結されて前記真空チャンバで有機気相物質を噴射する蒸着源を支持する支持板を有して前記連結部には貫通口が形成されている支持体と、
前記駆動軸を取り囲んで前記支持体が前記駆動軸にしたがって移動可能になるように一側面が開放されているビームと、
前記ビームの開放されている一側面に配置され、前記貫通口を貫通する遮断板と、
でなることを特徴とする蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置。 - 前記支持体の連結部の両側のエッジには凹溝が形成されて、前記ビームの開放端部には前記連結部の凹溝に対応する羽部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置。
- 前記連結部の凹溝と前記結合部の間には外向きに延びる突起が形成されていて、前記ビームの内側面には前記突起に対応する溝が形成されていることを特徴とする請求項2に記載の蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置。
- 前記貫通口は前記突起が形成されている部分に形成されていることを特徴とする請求項3に記載の蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置 。
- 蒸着システムの真空チャンバに設置された駆動軸と、
前記駆動軸に結合する結合部と、前記結合部に連結されて前記真空チャンバで有機気相物質を噴射する蒸着源を支持する支持板を有する支持体と、
前記結合部の上部に位置する駆動軸を取り囲む第1の管体と、
前記結合部の下部に位置する駆動軸を取り囲む第2の管体と、
を備え、
前記第1の管体の上部が前記真空チャンバの上部面に固定され、前記第1の管体の下部が前記結合部の上部面に固定され、
前記第2の管体の上部が前記結合部の下部面に固定され、前記第2の管体の下部が前記真空チャンバの下部面に固定されることを特徴とする蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置。 - 前記第1の管体と第2の管体は長さの伸縮が可能であることを特徴とする請求項5に記載の蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置。
- 前記第1の管体と第2の管体はベローズ管の外形を持つことを特徴とする請求項6に記載の蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置。
- 真空チャンバと、
前記真空チャンバの一側に設置される基板とマスクを整列された状態で支持するチャックを持つステージと、
前記真空チャンバの他側に設置される駆動軸と、
前記駆動軸に結合する結合部及び連結部を介して前記結合部に連結された支持板を有して前記連結部には貫通口が形成されている支持体と、
前記支持体の支持板上に搭載されて前記基板を向けて有機気相物質を噴射する蒸着源と、
前記駆動軸を取り囲んで前記支持体が前記駆動軸にしたがって移動可能になるように一側面が開放されているビームと、
前記ビームの開放されている一側面に配置され、前記支持体の貫通口を貫通する遮断板と、でなることを特徴とする蒸着システム。 - 前記支持体の連結部の両側のエッジには凹溝が形成されて、前記ビームの開放端部には前記連結部の凹溝に対応する羽部が形成されていることを特徴とする請求項8に記載の蒸着システム。
- 前記連結部の凹溝と前記結合部の間には外向きに延びる突起が形成されていて、前記ビームの内側面には前記突起に対応する溝が形成されていることを特徴とする請求項9に記載の蒸着システム。
- 真空チャンバと、
前記真空チャンバの一側に設置される基板とマスクを整列された状態で支持するチャック持つステージと、
前記真空チャンバの他側に設置される駆動軸と、
前記駆動軸に結合する結合部及び前記結合部に連結された支持板を持つ支持体と、
前記支持体の支持板上に搭載されて前記基板を向けて有機気相物質を噴射する蒸着源と、
前記結合部の上部に位置する駆動軸を取り囲む第1の管体と、
前記結合部の下部に位置する駆動軸を取り囲む第2の管体と、
を備え、
前記第1の管体の上部が前記真空チャンバの上部面に固定され、前記第1の管体の下部が前記結合部の上部面に固定され、
前記第2の管体の上部が前記結合部の下部面に固定され、前記第2の管体の下部が前記真空チャンバの下部面に固定されることを特徴とする蒸着システム。 - 前記第1の管体と前記第2の管体は長さの伸縮が可能であることを特徴とする請求項11に記載の蒸着システム。
- 前記第1の管体と第2の管体はベローズ管の外形を持つことを特徴とする請求項12に記載の蒸着システム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050000957A KR100600357B1 (ko) | 2005-01-05 | 2005-01-05 | 증착시스템용 증착원의 구동축 밀폐장치 및 이를 구비한증착시스템 |
KR1020050000949A KR100600349B1 (ko) | 2005-01-05 | 2005-01-05 | 증착기용 추돌방지장치 |
KR1020050000946A KR100600323B1 (ko) | 2005-01-05 | 2005-01-05 | 증착기용 이동장치 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009042739A Division JP5120959B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-02-25 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
JP2009042740A Division JP5120960B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-02-25 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006188754A JP2006188754A (ja) | 2006-07-20 |
JP4384109B2 true JP4384109B2 (ja) | 2009-12-16 |
Family
ID=36638921
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005347029A Active JP4384109B2 (ja) | 2005-01-05 | 2005-11-30 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
JP2009042740A Active JP5120960B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-02-25 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
JP2009042739A Active JP5120959B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-02-25 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009042740A Active JP5120960B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-02-25 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
JP2009042739A Active JP5120959B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-02-25 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8366832B2 (ja) |
JP (3) | JP4384109B2 (ja) |
TW (1) | TWI315352B (ja) |
Families Citing this family (77)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4384109B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-12-16 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
JP5052152B2 (ja) * | 2007-02-13 | 2012-10-17 | 株式会社アルバック | 真空チャンバ、ロードロックチャンバ、及び処理装置 |
TWI475124B (zh) * | 2009-05-22 | 2015-03-01 | Samsung Display Co Ltd | 薄膜沉積設備 |
JP5620146B2 (ja) | 2009-05-22 | 2014-11-05 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置 |
US8882920B2 (en) * | 2009-06-05 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
US8882921B2 (en) * | 2009-06-08 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
US9174250B2 (en) | 2009-06-09 | 2015-11-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Method and apparatus for cleaning organic deposition materials |
US8802200B2 (en) | 2009-06-09 | 2014-08-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Method and apparatus for cleaning organic deposition materials |
KR101074792B1 (ko) * | 2009-06-12 | 2011-10-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101097311B1 (ko) * | 2009-06-24 | 2011-12-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치 및 이를 제조하기 위한 유기막 증착 장치 |
KR101117719B1 (ko) * | 2009-06-24 | 2012-03-08 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101117720B1 (ko) * | 2009-06-25 | 2012-03-08 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자 제조 방법 |
KR20110014442A (ko) * | 2009-08-05 | 2011-02-11 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101127575B1 (ko) * | 2009-08-10 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증착 가림막을 가지는 박막 증착 장치 |
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KR101127578B1 (ko) * | 2009-08-24 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
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JP5328726B2 (ja) | 2009-08-25 | 2013-10-30 | 三星ディスプレイ株式會社 | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 |
JP5677785B2 (ja) * | 2009-08-27 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
JP5611718B2 (ja) * | 2009-08-27 | 2014-10-22 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
US8696815B2 (en) | 2009-09-01 | 2014-04-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
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US8876975B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-11-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
KR101146982B1 (ko) | 2009-11-20 | 2012-05-22 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 유기 발광 디스플레이 장치 제조 방법 |
KR101084184B1 (ko) * | 2010-01-11 | 2011-11-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101174875B1 (ko) * | 2010-01-14 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101193186B1 (ko) * | 2010-02-01 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101156441B1 (ko) | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101202348B1 (ko) | 2010-04-06 | 2012-11-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
US8894458B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-11-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
KR101223723B1 (ko) | 2010-07-07 | 2013-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101673017B1 (ko) | 2010-07-30 | 2016-11-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법 |
KR101678056B1 (ko) | 2010-09-16 | 2016-11-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20120029166A (ko) | 2010-09-16 | 2012-03-26 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101738531B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101723506B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-04-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR20120045865A (ko) | 2010-11-01 | 2012-05-09 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20120065789A (ko) | 2010-12-13 | 2012-06-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
JP2012140671A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Canon Tokki Corp | 成膜装置 |
KR101760897B1 (ko) | 2011-01-12 | 2017-07-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 |
JP5659809B2 (ja) * | 2011-01-17 | 2015-01-28 | 株式会社Ihi | 補助治具及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 |
KR101923174B1 (ko) | 2011-05-11 | 2018-11-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 정전 척, 상기 정전 척을 포함하는 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR101857992B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-05-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101852517B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101840654B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-03-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101857249B1 (ko) | 2011-05-27 | 2018-05-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시장치제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101826068B1 (ko) | 2011-07-04 | 2018-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20130004830A (ko) | 2011-07-04 | 2013-01-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR20130010730A (ko) | 2011-07-19 | 2013-01-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 소스 및 이를 구비한 증착 장치 |
KR20130015144A (ko) | 2011-08-02 | 2013-02-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원어셈블리, 유기층증착장치 및 이를 이용한 유기발광표시장치의 제조 방법 |
KR101899784B1 (ko) | 2011-09-01 | 2018-09-21 | 세메스 주식회사 | 공정 챔버 모니터링 장치 및 방법 |
KR20130069037A (ko) | 2011-12-16 | 2013-06-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101930849B1 (ko) * | 2011-12-28 | 2018-12-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 그것을 이용한 박막 증착 방법 |
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KR101959974B1 (ko) | 2012-07-10 | 2019-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
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KR102075525B1 (ko) | 2013-03-20 | 2020-02-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20140118551A (ko) | 2013-03-29 | 2014-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR102037376B1 (ko) | 2013-04-18 | 2019-10-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트, 이를 구비하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
KR102081284B1 (ko) | 2013-04-18 | 2020-02-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
KR102107104B1 (ko) | 2013-06-17 | 2020-05-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR102108361B1 (ko) | 2013-06-24 | 2020-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착률 모니터링 장치, 이를 구비하는 유기층 증착 장치, 증착률 모니터링 방법, 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR102162797B1 (ko) | 2013-12-23 | 2020-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
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JP2004269907A (ja) | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Jeol Ltd | 真空蒸着装置 |
JP4493926B2 (ja) | 2003-04-25 | 2010-06-30 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 製造装置 |
JP4447256B2 (ja) | 2003-06-27 | 2010-04-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置の作製方法 |
JP4516499B2 (ja) | 2004-08-25 | 2010-08-04 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 有機物蒸着装置 |
KR100600323B1 (ko) | 2005-01-05 | 2006-07-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증착기용 이동장치 |
JP4384109B2 (ja) | 2005-01-05 | 2009-12-16 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
-
2005
- 2005-11-30 JP JP2005347029A patent/JP4384109B2/ja active Active
-
2006
- 2006-01-04 US US11/324,346 patent/US8366832B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-01-04 TW TW095100275A patent/TWI315352B/zh active
-
2009
- 2009-02-25 JP JP2009042740A patent/JP5120960B2/ja active Active
- 2009-02-25 JP JP2009042739A patent/JP5120959B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5120960B2 (ja) | 2013-01-16 |
US20060144325A1 (en) | 2006-07-06 |
JP2006188754A (ja) | 2006-07-20 |
JP2009114549A (ja) | 2009-05-28 |
JP2009114550A (ja) | 2009-05-28 |
US8366832B2 (en) | 2013-02-05 |
JP5120959B2 (ja) | 2013-01-16 |
TW200628620A (en) | 2006-08-16 |
TWI315352B (en) | 2009-10-01 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090825 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090924 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4384109 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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