JP4380283B2 - ルツボ、及び、ルツボを用いたフッ化カルシウム単結晶の育成方法 - Google Patents
ルツボ、及び、ルツボを用いたフッ化カルシウム単結晶の育成方法 Download PDFInfo
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Description
ルツボとして、高純度カーボン製で外径φ175mm×高さ325mm(うち単結晶収容部の内径φ10mm×高さ100mm)で、単結晶収容部の底端から50mm上方、単結晶収容部の底端から95mm上方、及び、原料収容部付近の3箇所にそれぞれ径φ3.5mm×長さ80mmの熱電対(JIS- B型)を取り付けたものを用意した。
主ヒータ及び副ヒータの加熱を停止したときの、種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を、種結晶収容部の底端から80mm上方の位置とする以外は実施例1と同様にして、実施例2のフッ化カルシウムの結晶を得た。また、主ヒータ及び副ヒータの加熱を停止したときの、種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を、種結晶収容部の底端から70mm上方の位置とする以外は実施例1と同様にして、実施例3のフッ化カルシウムの結晶を得た。また、主ヒータ及び副ヒータの加熱を停止したときの、種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を、種結晶収容部の底端から60mm上方の位置とする以外は実施例1と同様にして、実施例4のフッ化カルシウムの結晶を得た。また、主ヒータ及び副ヒータの加熱を停止したときの、種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を、種結晶収容部の底端から40mm上方の位置とする以外は実施例1と同様にして、実施例5のフッ化カルシウムの結晶を得た。また、主ヒータ及び副ヒータの加熱を停止したときの、種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を、種結晶収容部の底端から25mm上方の位置とする以外は実施例1と同様にして、実施例6のフッ化カルシウムの結晶を得た。
主ヒータ及び副ヒータの加熱を停止したときの、種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を、種結晶収容部の底端から85mm上方の位置とする以外は実施例1と同様にして、比較例1のフッ化カルシウムの結晶を得た。また、主ヒータ及び副ヒータの加熱を停止したときの、種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を、種結晶収容部の底端から20mm上方の位置とする以外は実施例1と同様にして、比較例2のフッ化カルシウムの結晶を得た。
Claims (4)
- 単結晶を育成するためのルツボにおいて、
種結晶を収容する垂直方向に延びる有底の種結晶収容部と、
単結晶の原料を収容する原料収容部であって、前記種結晶収容部の上方に配置され、前記種結晶収容部と連通する前記原料収容部と、
前記種結晶収容部の内部温度を検出するための温度検出手段と
を備え、
前記温度検出手段が熱電対であり、前記熱電対が前記種結晶収容部の壁面の近傍位置に配置されており、
前記熱電対が複数個あり、
前記種結晶収容部の温度勾配を導き出して、前記種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置を割り出すべく、複数個の前記熱電対が垂直方向に互いに隔離して配置されていることを特徴とする、ルツボ。 - 2個の前記熱電対のうち一方が、前記種結晶収容部の深さの25〜50%に相当する高さだけ前記種結晶収容部の底端の高さ位置から上方の位置に配置され、他方が、前記種結晶収容部の深さの60〜80%に相当する高さだけ前記種結晶収容部の底端の高さ位置から上方の位置に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のルツボ。
- 請求項1又は2に記載のルツボを用意するステップと、
前記種結晶収容部にフッ化カルシウムの種結晶を収容するステップと、
前記原料収容部に前記フッ化カルシウムの単結晶の原料を収容するステップと、
前記ルツボを、内部が垂直方向に所定の温度勾配をもって加熱される結晶成長装置の炉内に配置し、該ルツボを加熱して前記原料収容部に収容された原料及び前記種結晶収容部に収容された種結晶を、上方から下方へと漸次溶融するステップと、
前記ルツボの加熱中に、複数個の前記熱電対により前記種結晶収容部の内部温度を検出するステップと、
前記熱電対により検出された前記種結晶収容部の内部温度に基づき、前記種結晶収容部の温度勾配を導き出して、前記種結晶収容部に収容された種結晶の溶融部分と未溶融部分との境界位置が前記種結晶収容部の底端から所定の高さだけ上方の第1位置と、前記第1位置から所定の高さだけ上方の第2位置との間にあると判断された場合に、加熱を終了し、冷却を開始して単結晶を育成するステップと
を含むことを特徴とするフッ化カルシウム単結晶の育成方法。 - 前記第1位置が、前記種結晶収容部の深さの25%に相当する高さだけ前記種結晶収容部の底端から上方の位置であり、前記第2位置が、前記種結晶収容部の深さの80%に相当する高さだけ前記種結晶収容部の底端から上方の位置であることを特徴とする請求項3に記載のフッ化カルシウム単結晶の育成方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003336015A JP4380283B2 (ja) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | ルツボ、及び、ルツボを用いたフッ化カルシウム単結晶の育成方法 |
US10/563,087 US7399360B2 (en) | 2003-07-03 | 2004-06-18 | Crucible and method of growing single crystal by using crucible |
EP04746126A EP1643017A4 (en) | 2003-07-03 | 2004-06-18 | MIRROR AND METHOD FOR INCREASING CRYSTAL WITH THE HELP OF THE MIRROR |
PCT/JP2004/008624 WO2005003413A1 (ja) | 2003-07-03 | 2004-06-18 | ルツボ及びルツボを用いた単結晶の育成方法 |
US11/968,916 US7785416B2 (en) | 2003-07-03 | 2008-01-03 | Crucible and single crystal growth method using crucible |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003336015A JP4380283B2 (ja) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | ルツボ、及び、ルツボを用いたフッ化カルシウム単結晶の育成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005104741A JP2005104741A (ja) | 2005-04-21 |
JP4380283B2 true JP4380283B2 (ja) | 2009-12-09 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2003336015A Expired - Lifetime JP4380283B2 (ja) | 2003-07-03 | 2003-09-26 | ルツボ、及び、ルツボを用いたフッ化カルシウム単結晶の育成方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4380283B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4930166B2 (ja) * | 2007-04-10 | 2012-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化アルミニウム単結晶の製造方法 |
WO2011050170A2 (en) * | 2009-10-22 | 2011-04-28 | Advanced Renewable Energy Company Llc | Crystal growth methods and systems |
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2003
- 2003-09-26 JP JP2003336015A patent/JP4380283B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
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JP2005104741A (ja) | 2005-04-21 |
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