JP4358982B2 - 分光エリプソメータ - Google Patents
分光エリプソメータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4358982B2 JP4358982B2 JP2000325362A JP2000325362A JP4358982B2 JP 4358982 B2 JP4358982 B2 JP 4358982B2 JP 2000325362 A JP2000325362 A JP 2000325362A JP 2000325362 A JP2000325362 A JP 2000325362A JP 4358982 B2 JP4358982 B2 JP 4358982B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- incident
- prism
- light
- spectroscopic ellipsometer
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/04—Prisms
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
- G01N21/211—Ellipsometry
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/28—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
- G02B27/283—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、物質の表面で光が反射する際の偏光状態の変化を観測して、その物質の光学定数（屈折率、消衰係数）を、また、物質の表面に薄膜層が存在する場合は、その膜厚、光学定数を測定する分光エリプソメータに関する。
【０００２】
【従来の技術】
図４に示すように、表面に薄膜を有する試料８の表面８ａに、直線偏光６を斜め上方から入射させれば、試料表面８ａ上の測定対象物である薄膜の厚さや屈折率、消衰係数によって反射光の偏光状態が変化する。
【０００３】
これは、Ｐ偏光とＳ偏光で反射の位相のずれ方と反射率によって反射光に差があるためで、この反射光の偏光変化量を測定し、解析計算を行うことによって、試料表面８ａの薄膜の厚さや屈折率を求めることができる。
【０００４】
ところで、昨今の半導体業界においては、より薄いゲート酸化膜や低吸収膜などが新世代デバイスに採用されていることもあり、超薄膜の膜質評価が求められている。また、フラッシュメモリに採用されている、シリコンの酸化膜と窒化膜を交互に積み重ねた多層膜構造や、ＳＯＩウエハ上の多層膜などをより正確に評価することが求められている。
【０００５】
そこで、エリプソメータにおいても、紫外から可視、赤外に至る広い波長領域を高精度に測定できて、薄膜物性の波長依存性測定が可能な分光エリプソメータが注目されている。
【０００６】
分光エリプソメータにおいては、多波長の光を直線偏光６にするために偏光子が備えられているが、この分光エリプソメータでは、可視光から紫外領域まで波長領域が広く使用され、その消光比や透過率等から、一般に偏光子としてプリズム５が使用されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このプリズム５は、１０ｍｍ程度から数十ｍｍ程度の厚みがあるため、ビーム径を縮小する場合、光の波長に対する屈折率等の違いによって、広い波長領域の全光軸を一点に集中させることができず、たとえば図５に示すように、短波長の光軸の集光位置Ｑ１に比較して、長波長の光軸の集光位置Ｑ２が遠くなるといった、色収差が発生する問題があった。
【０００８】
ここで、色収差とは、波長による屈折率の相違、すなわち分散によって起こる収差（結像学系がガウス結像の条件を満たさないために生ずる欠陥）のことをいう。
【０００９】
本発明は、かゝる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、極めて簡単かつ合理的な改良技術によって、多波長の全光軸を一点に集中させることを容易に可能とした分光エリプソメータを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために、本発明は、試料表面に多波長の偏光光をスポット入射する入射光学系と、試料表面で反射した楕円偏光の偏光変化量に基づいて試料表面に関する情報を出力する検出光学系とからなる分光エリプソメータにおいて、上記の入射光学系に用いる偏光子として、入射と出射表面の形状が各入射・出射光の直進方向に対して直角な曲面を有するプリズム（以下、球面プリズムという。）を用いた点に特徴がある。
【００１１】
この改良技術によれば、マクロ的には、球面プリズムの入射面と出射面が入射光の全光軸に対して直角になることから、入射光の屈折現象が全く起こらなくなり、広い波長領域を使用する場合においても、全波長領域において、光軸を一点に集中させることが可能となり、色収差の発生が効果的に防止される。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１にこの発明の分光エリプソメータの一実施例を示す。図１において、１は入射光学系で、たとえば１９０〜８３０ｎｍの広い波長領域の光を入射するキセノンランプ等よりなる白色光源２と、スリット３と、ビーム縮小光学系（たとえば２枚の凹面鏡からなる。）４と、偏光方位を一定に保つための偏光子としてのプリズム５とからなる。
【００１３】
この入射光学系１は、光源２からの多波長の光を縮小し、かつ、所定の偏光方位の直線偏光６にして、これをステージ７上の試料８の表面８ａに、所定角度斜め上方からスポット入射するもので、上記のステージ７は、水平のＸ−Ｙ方向と鉛直のＺ方向の三次元方向に駆動可能に構成されており、試料８は、バキュームによってステージ３上に吸着保持されるようになっている。
【００１４】
９は検出光学系で、ステージ７上の試料表面８ａで反射した楕円偏光１０の偏光変化量の情報をたとえば分光器１１に出力するもので、光弾性変調器１２と、検光子１３と、分光器１１への信号取り出し用の光ファイバー１４とからなる。
【００１５】
白色光源２より出た複数の波長を有する入射光は、ビーム縮小光学系４によりビーム径を絞られ、偏光子としてのプリズム５により一定方向に偏光される。
【００１６】
このプリズム５は、入射と出射表面の形状が各入射・出射光の直進方向に対して直角な曲面を有する球面プリズム５であって、この実施の形態では、試料表面８ａに対する直線偏光６のスポット入射点を中心Ｐとする球面プリズム５に構成している。
【００１７】
このようにプリズム５を球面に構成すると、図２に示すように、球面プリズム５の入射面と出射面が入射光の全光軸に対して直角になることから、入射光の屈折現象が全く生じず、入射光の全波長領域において、光軸を一点Ｑに集中させることが容易に可能となり、この結果、色収差の発生が効果的に防止されることになる。
【００１８】
かくして直線偏光６となった入射光は、試料表面８ａ（反射面）での反射により、試料８や試料表面８ａの物性特性の結果である振幅及び位相を有する楕円偏光１０となる。そして、この楕円偏光１０は、光弾性変調器１２に入って位相変調され、検光子１３に入る。その後、光ファイバー１４を経て、分光器１１へ送られる。
【００１９】
光弾性変調器１２は、典型的には、圧電素子によってつくられた周期的なストレスを受けたガラスのバーからなるが、この他、回転偏光子を用いて、楕円偏光１０を直線偏光とすることも可能である。また、この光弾性変調器１２や回転偏光子を入射光学系に設けることが可能である。
【００２０】
尚、上記の実施の形態では、球面プリズム５を一体成形品としているが、図３（Ａ）に示すように、球面プリズム５を、直方体のプリズム体５ａと、それぞれ中心Ｐまわりの凹曲と凸曲の球面Ａ１，Ａ２を備えたプリズム体５ｂ，５ｃとの結合体や、図３（Ｂ）に示すように、球面プリズム５を、それぞれ中心Ｐまわりの凹曲と凸曲の球面Ａ１，Ａ２を備えたプリズム体５ｂ，５ｃの結合体などに構成変更が可能である。
【００２１】
以上、半導体試料についての実施例を基に説明を行ってきたが、半導体以外の試料たとえば液晶の表面測定に使用できることは言うまでもない。
【００２２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、偏光子としてのプリズムの入射・出射表面を曲面にすることにより、多波長の全光軸を一点に集中させることが容易に可能な、色収差の発生が効果的に防止される分光エリプソメータを提供でき、よって、より正確、高精度な測定を、多波長を用いた分光エリプソメータで行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】分光エリプソメータの構成図である。
【図２】球面プリズムによる光軸の一点集中の状況を示す説明図である。
【図３】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ別の実施の形態による球面プリズムの構成図である。
【図４】従来例の分光エリプソメータの構成図である。
【図５】従来のプリズムによる光軸の屈折状況を示す説明図である。
【符号の説明】
１…入射光学系、５…プリズム、６…直線偏光、８…試料、８ａ…試料表面、９…入射光学系、１０…楕円偏光、Ｐ…中心。
【発明の属する技術分野】
本発明は、物質の表面で光が反射する際の偏光状態の変化を観測して、その物質の光学定数（屈折率、消衰係数）を、また、物質の表面に薄膜層が存在する場合は、その膜厚、光学定数を測定する分光エリプソメータに関する。
【０００２】
【従来の技術】
図４に示すように、表面に薄膜を有する試料８の表面８ａに、直線偏光６を斜め上方から入射させれば、試料表面８ａ上の測定対象物である薄膜の厚さや屈折率、消衰係数によって反射光の偏光状態が変化する。
【０００３】
これは、Ｐ偏光とＳ偏光で反射の位相のずれ方と反射率によって反射光に差があるためで、この反射光の偏光変化量を測定し、解析計算を行うことによって、試料表面８ａの薄膜の厚さや屈折率を求めることができる。
【０００４】
ところで、昨今の半導体業界においては、より薄いゲート酸化膜や低吸収膜などが新世代デバイスに採用されていることもあり、超薄膜の膜質評価が求められている。また、フラッシュメモリに採用されている、シリコンの酸化膜と窒化膜を交互に積み重ねた多層膜構造や、ＳＯＩウエハ上の多層膜などをより正確に評価することが求められている。
【０００５】
そこで、エリプソメータにおいても、紫外から可視、赤外に至る広い波長領域を高精度に測定できて、薄膜物性の波長依存性測定が可能な分光エリプソメータが注目されている。
【０００６】
分光エリプソメータにおいては、多波長の光を直線偏光６にするために偏光子が備えられているが、この分光エリプソメータでは、可視光から紫外領域まで波長領域が広く使用され、その消光比や透過率等から、一般に偏光子としてプリズム５が使用されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このプリズム５は、１０ｍｍ程度から数十ｍｍ程度の厚みがあるため、ビーム径を縮小する場合、光の波長に対する屈折率等の違いによって、広い波長領域の全光軸を一点に集中させることができず、たとえば図５に示すように、短波長の光軸の集光位置Ｑ１に比較して、長波長の光軸の集光位置Ｑ２が遠くなるといった、色収差が発生する問題があった。
【０００８】
ここで、色収差とは、波長による屈折率の相違、すなわち分散によって起こる収差（結像学系がガウス結像の条件を満たさないために生ずる欠陥）のことをいう。
【０００９】
本発明は、かゝる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、極めて簡単かつ合理的な改良技術によって、多波長の全光軸を一点に集中させることを容易に可能とした分光エリプソメータを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために、本発明は、試料表面に多波長の偏光光をスポット入射する入射光学系と、試料表面で反射した楕円偏光の偏光変化量に基づいて試料表面に関する情報を出力する検出光学系とからなる分光エリプソメータにおいて、上記の入射光学系に用いる偏光子として、入射と出射表面の形状が各入射・出射光の直進方向に対して直角な曲面を有するプリズム（以下、球面プリズムという。）を用いた点に特徴がある。
【００１１】
この改良技術によれば、マクロ的には、球面プリズムの入射面と出射面が入射光の全光軸に対して直角になることから、入射光の屈折現象が全く起こらなくなり、広い波長領域を使用する場合においても、全波長領域において、光軸を一点に集中させることが可能となり、色収差の発生が効果的に防止される。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１にこの発明の分光エリプソメータの一実施例を示す。図１において、１は入射光学系で、たとえば１９０〜８３０ｎｍの広い波長領域の光を入射するキセノンランプ等よりなる白色光源２と、スリット３と、ビーム縮小光学系（たとえば２枚の凹面鏡からなる。）４と、偏光方位を一定に保つための偏光子としてのプリズム５とからなる。
【００１３】
この入射光学系１は、光源２からの多波長の光を縮小し、かつ、所定の偏光方位の直線偏光６にして、これをステージ７上の試料８の表面８ａに、所定角度斜め上方からスポット入射するもので、上記のステージ７は、水平のＸ−Ｙ方向と鉛直のＺ方向の三次元方向に駆動可能に構成されており、試料８は、バキュームによってステージ３上に吸着保持されるようになっている。
【００１４】
９は検出光学系で、ステージ７上の試料表面８ａで反射した楕円偏光１０の偏光変化量の情報をたとえば分光器１１に出力するもので、光弾性変調器１２と、検光子１３と、分光器１１への信号取り出し用の光ファイバー１４とからなる。
【００１５】
白色光源２より出た複数の波長を有する入射光は、ビーム縮小光学系４によりビーム径を絞られ、偏光子としてのプリズム５により一定方向に偏光される。
【００１６】
このプリズム５は、入射と出射表面の形状が各入射・出射光の直進方向に対して直角な曲面を有する球面プリズム５であって、この実施の形態では、試料表面８ａに対する直線偏光６のスポット入射点を中心Ｐとする球面プリズム５に構成している。
【００１７】
このようにプリズム５を球面に構成すると、図２に示すように、球面プリズム５の入射面と出射面が入射光の全光軸に対して直角になることから、入射光の屈折現象が全く生じず、入射光の全波長領域において、光軸を一点Ｑに集中させることが容易に可能となり、この結果、色収差の発生が効果的に防止されることになる。
【００１８】
かくして直線偏光６となった入射光は、試料表面８ａ（反射面）での反射により、試料８や試料表面８ａの物性特性の結果である振幅及び位相を有する楕円偏光１０となる。そして、この楕円偏光１０は、光弾性変調器１２に入って位相変調され、検光子１３に入る。その後、光ファイバー１４を経て、分光器１１へ送られる。
【００１９】
光弾性変調器１２は、典型的には、圧電素子によってつくられた周期的なストレスを受けたガラスのバーからなるが、この他、回転偏光子を用いて、楕円偏光１０を直線偏光とすることも可能である。また、この光弾性変調器１２や回転偏光子を入射光学系に設けることが可能である。
【００２０】
尚、上記の実施の形態では、球面プリズム５を一体成形品としているが、図３（Ａ）に示すように、球面プリズム５を、直方体のプリズム体５ａと、それぞれ中心Ｐまわりの凹曲と凸曲の球面Ａ１，Ａ２を備えたプリズム体５ｂ，５ｃとの結合体や、図３（Ｂ）に示すように、球面プリズム５を、それぞれ中心Ｐまわりの凹曲と凸曲の球面Ａ１，Ａ２を備えたプリズム体５ｂ，５ｃの結合体などに構成変更が可能である。
【００２１】
以上、半導体試料についての実施例を基に説明を行ってきたが、半導体以外の試料たとえば液晶の表面測定に使用できることは言うまでもない。
【００２２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、偏光子としてのプリズムの入射・出射表面を曲面にすることにより、多波長の全光軸を一点に集中させることが容易に可能な、色収差の発生が効果的に防止される分光エリプソメータを提供でき、よって、より正確、高精度な測定を、多波長を用いた分光エリプソメータで行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】分光エリプソメータの構成図である。
【図２】球面プリズムによる光軸の一点集中の状況を示す説明図である。
【図３】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ別の実施の形態による球面プリズムの構成図である。
【図４】従来例の分光エリプソメータの構成図である。
【図５】従来のプリズムによる光軸の屈折状況を示す説明図である。
【符号の説明】
１…入射光学系、５…プリズム、６…直線偏光、８…試料、８ａ…試料表面、９…入射光学系、１０…楕円偏光、Ｐ…中心。
Claims (1)
- 試料表面に多波長の偏光光をスポット入射する入射光学系と、試料表面で反射した楕円偏光の偏光変化量に基づいて試料表面に関する情報を出力する検出光学系とからなる分光エリプソメータであって、入射光学系に用いる偏光子として、入射と出射表面の形状が各入射・出射光の直進方向に対して直角な曲面を有するプリズムを用いることを特徴とする分光エリプソメータ。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000325362A JP4358982B2 (ja) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 分光エリプソメータ |
| DE60125131T DE60125131T8 (de) | 2000-10-25 | 2001-10-23 | Spektralellipsometer |
| EP01125139A EP1202033B1 (en) | 2000-10-25 | 2001-10-23 | Spectral ellipsometer |
| US10/004,250 US6714301B2 (en) | 2000-10-25 | 2001-10-23 | Spectral ellipsometer without chromatic aberrations |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000325362A JP4358982B2 (ja) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 分光エリプソメータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002131136A JP2002131136A (ja) | 2002-05-09 |
| JP4358982B2 true JP4358982B2 (ja) | 2009-11-04 |
Family
ID=18802741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000325362A Expired - Fee Related JP4358982B2 (ja) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 分光エリプソメータ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6714301B2 (ja) |
| EP (1) | EP1202033B1 (ja) |
| JP (1) | JP4358982B2 (ja) |
| DE (1) | DE60125131T8 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7301631B1 (en) | 2004-09-17 | 2007-11-27 | J.A. Woollam Co., Inc. | Control of uncertain angle of incidence of beam from Arc lamp |
| EP1376100B1 (en) * | 2002-06-17 | 2006-04-05 | Horiba Jobin Yvon S.A.S. | Achromatic spectroscopic ellipsometer with high spatial resolution |
| US7369234B2 (en) * | 2003-02-03 | 2008-05-06 | Rudolph Technologies, Inc. | Method of performing optical measurement on a sample |
| JP2005003666A (ja) * | 2003-05-20 | 2005-01-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 分光エリプソメータ |
| KR100574776B1 (ko) * | 2004-01-15 | 2006-04-28 | 한국표준과학연구원 | 분광결상을 이용한 타원계측 장치 및 타원계측 방법 |
| US8189193B1 (en) | 2004-04-23 | 2012-05-29 | J.A. Woollam Co., Inc. | System and method of applying horizontally oriented arc-lamps in ellipsometer or the like systems |
| US7738105B1 (en) | 2004-04-23 | 2010-06-15 | Liphardt Martin M | System and method of applying horizontally oriented arc-lamps in ellipsometer or the like systems |
| JP4363368B2 (ja) * | 2005-06-13 | 2009-11-11 | 住友電気工業株式会社 | 化合物半導体部材のダメージ評価方法、及び化合物半導体部材の製造方法 |
| US7285767B2 (en) * | 2005-10-24 | 2007-10-23 | General Electric Company | Methods and apparatus for inspecting an object |
| FR2925685B1 (fr) * | 2007-12-21 | 2010-02-05 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de mesure monocoup de la birefringence transitoire induite par une perturbation appartenant au domaine des frequences terahertz |
| KR102208089B1 (ko) * | 2015-05-27 | 2021-01-28 | 엘지전자 주식회사 | 편광필름 부착 시스템 및 편광필름 부착 방법 |
| CN115248191A (zh) * | 2021-04-26 | 2022-10-28 | 上海济物光电技术有限公司 | 中红外波段宽光谱测量系统 |
| CN114894311B (zh) * | 2022-03-24 | 2025-02-07 | 中北大学 | 一种宽光谱双变入射角系统广义椭偏仪 |
| CN116045828B (zh) * | 2023-03-29 | 2023-10-20 | 睿励科学仪器（上海）有限公司 | 一种光谱椭偏测量系统和一种光谱椭偏测量方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4053232A (en) * | 1973-06-25 | 1977-10-11 | International Business Machines Corporation | Rotating-compensator ellipsometer |
| US3904293A (en) * | 1973-12-06 | 1975-09-09 | Sherman Gee | Optical method for surface texture measurement |
| US5166752A (en) * | 1990-01-11 | 1992-11-24 | Rudolph Research Corporation | Simultaneous multiple angle/multiple wavelength ellipsometer and method |
| US5581350A (en) * | 1995-06-06 | 1996-12-03 | Tencor Instruments | Method and system for calibrating an ellipsometer |
| US6134011A (en) * | 1997-09-22 | 2000-10-17 | Hdi Instrumentation | Optical measurement system using polarized light |
| JP3447654B2 (ja) * | 2000-03-24 | 2003-09-16 | Ｎｅｃエレクトロニクス株式会社 | 異方性薄膜評価法及び評価装置 |
-
2000
- 2000-10-25 JP JP2000325362A patent/JP4358982B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-10-23 US US10/004,250 patent/US6714301B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-23 DE DE60125131T patent/DE60125131T8/de not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-23 EP EP01125139A patent/EP1202033B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1202033B1 (en) | 2006-12-13 |
| DE60125131T2 (de) | 2007-09-20 |
| US6714301B2 (en) | 2004-03-30 |
| EP1202033A3 (en) | 2004-03-03 |
| EP1202033A2 (en) | 2002-05-02 |
| JP2002131136A (ja) | 2002-05-09 |
| DE60125131D1 (de) | 2007-01-25 |
| US20020126284A1 (en) | 2002-09-12 |
| DE60125131T8 (de) | 2008-01-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4358982B2 (ja) | 分光エリプソメータ | |
| KR100600126B1 (ko) | 프리즘 역행반사기가 장착된 공동 링다운 분광용 광학공진기 | |
| CN102269623B (zh) | 垂直入射宽带偏振光谱仪和光学测量系统 | |
| US11255658B2 (en) | Ellipsometer and method for estimating thickness of film | |
| JP2002510797A (ja) | 軸外球面鏡と屈折素子を用いる分光計測システム | |
| JP2003520955A (ja) | ブルースター角プリズム逆反射体に基づく共振空洞リングダウン分光のための改善されたモードマッチング | |
| JP4399126B2 (ja) | 分光エリプソメータ | |
| KR101922973B1 (ko) | 4-반사경을 적용한 마이크로 스폿 분광 타원계 | |
| US7184145B2 (en) | Achromatic spectroscopic ellipsometer with high spatial resolution | |
| US20100085637A1 (en) | Differential interference contrast microscope | |
| Eckhardt et al. | 3M PBS for high-performance LCOS optical engine | |
| TWI861868B (zh) | 橢偏測量裝置和用於獲取待測對象的表面訊息的方法 | |
| JPH08152307A (ja) | 光学定数測定方法およびその装置 | |
| KR102545519B1 (ko) | 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계 및 이를 구비한 분광 타원계 | |
| JP6448528B2 (ja) | エリプソメータ | |
| JP7221433B1 (ja) | 光学素子及び光学素子の製造方法 | |
| JPH10176952A (ja) | フーリエ分光器 | |
| JPS60211304A (ja) | 平行度測定装置 | |
| JPH04208901A (ja) | 偏光プリズム | |
| JPS6041732B2 (ja) | 偏光解析装置 | |
| JP2022135684A5 (ja) | ||
| WO2017038219A1 (ja) | 観察装置 | |
| JPH01212304A (ja) | 縞走査・シアリング方法 | |
| JP2006308722A (ja) | 低反射パターン膜及び高さ測定装置 | |
| JPS6244603B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070828 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090707 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090721 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090807 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |