KR102545519B1 - 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계 및 이를 구비한 분광 타원계 - Google Patents
편광 변조가 최소화된 반사형 광학계 및 이를 구비한 분광 타원계 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 2는 도 1에 도시된 타원 분광계를 위에서 바라본 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 반사형 광학계에서의 제1 편광면과 제2 편광면을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계를 입체적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 도 4에 도시된 반사형 광학계를 구비한 타원 분광계를 위에서 바라본 도면이다.
도 6은 도 4에 도시된 반사형 광학계에서의 제1 편광면과 제2 편광면을 나타낸 도면이다.
PP,1: 제1 편광면
PP,2: 제2 편광면
PI: 입사면
P1: 제1 평면
P2: 제2 평면
A1: 제1 기준축
A2: 제2 기준축
20: 반사형 광학계
21: 편광자
23: 제1 반사형 광학계
25: 제2 반사형 광학계
27: 검광자
30: 광원
40: 분광계
Claims (7)
- 광원과 시료 표면 사이에 위치하며, 상기 광원에서 발생된 광을 편광시키기 위한 편광자(polarizer)와, 상기 시료 표면에서 반사된 광의 편광상태 감지를 위한 검광자(analyzer)를 포함하며, 상기 편광자를 통과하는 광 및 상기 시료 표면의 법선을 포함하는 제1 평면과, 상기 검광자를 통과하는 광 및 상기 시료 표면의 법선을 포함하는 제2 평면을 규정하는 반사형 광학계로서,
상기 편광자와 상기 시료 표면 사이에 배치되며, 상기 편광자를 통과한 광이 상기 시료 표면의 측정 스팟을 향하도록 광의 진행경로를 변경시키도록 구성된 적어도 한 쌍의 제1 반사면들을 포함하는 제1 반사형 광학계와,
상기 시료 표면과 상기 검광자 사이에 배치되며, 상기 시료 표면의 측정 스팟에서 반사된 광이 상기 검광자를 향하도록 광의 진행경로를 변경시키도록 구성된 적어도 한 쌍의 제2 반사면들을 포함하는 제2 반사형 광학계를 포함하며,
상기 제1 반사형 광학계에서의 반사에 의한 편광 변조(polarization modulation)를 감소시키기 위해서, 상기 제1 반사형 광학계를 통과한 광의 p 파 편광면인 제1 편광면이 상기 제1 평면을 제1 기준축을 기준으로 제1 방향으로 회전시킨 면과 나란하게 형성되도록 상기 제1 반사면들이 배치되며,
상기 제1 편광면 기준으로 상기 제1 반사형 광학계를 통과한 광의 일부는 p파로 진행하고, 일부는 s 파로 진행하며,
상기 제2 반사형 광학계에서의 반사에 의한 편광 변조를 감소시키기 위해서, 상기 제2 반사형 광학계를 통과한 광의 p 파 편광면인 제2 편광면이 상기 제2 평면을 상기 제1 기준축과 다른 제2 기준축을 기준으로 제2 방향으로 회전시킨 면과 나란하게 형성되도록 상기 제2 반사면들이 배치되며,
상기 제2 편광면 기준으로 상기 제2 반사형 광학계를 통과한 광의 일부는 p 파로 진행하고, 일부는 s 파로 진행하는 것을 특징으로 하는 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계. - 제1항에 있어서,
상기 제1 기준축은 상기 편광자를 통과하는 광의 광축이며, 상기 제2 기준축은 상기 검광자를 통과하는 광의 광축인 것을 특징으로 하는 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계. - 제1항에 있어서,
상기 제1 기준축은 상기 제1 반사형 광학계를 통과하여 상기 시료 표면에 입사하는 광의 광축이며, 상기 제2 기준축은 상기 시료 표면에서 반사되어 상기 제2 반사형 광학계에 입사하는 광의 광축인 것을 특징으로 하는 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계. - 제1항에 있어서,
상기 제1 방향과 제2 방향으로의 회전 각도는 상기 제1 반사면들과 상기 제2 반사면들의 재질 및 상기 제1 반사형 광학계에 입사하는 광의 입사각과 상기 제2 반사형 광학계에 입사하는 광의 입사각에 기초하여 정해지는 것을 특징으로 하는 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계. - 제1항에 있어서,
상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 서로 반대방향인 것을 특징으로 하는 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계. - 제5항에 있어서,
상기 제1 방향으로의 회전 각도와 제2 방향으로의 회전 각도의 크기가 동일한 것을 특징으로 하는 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 편광 변조가 최소화된 반사형 광학계를 구비한 타원 분광계.
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180087691A (ko) * | 2017-01-25 | 2018-08-02 | (주)엘립소테크놀러지 | 4-반사경을 적용한 마이크로 스폿 분광 타원계 |
KR20200047558A (ko) * | 2017-09-22 | 2020-05-07 | 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드 | 위상-시프팅 리플렉터를 갖는 음향-광학 시스템 |
KR102137053B1 (ko) | 2018-12-17 | 2020-07-23 | 한양대학교 에리카산학협력단 | 타원해석기 및 편광 반사 모듈 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100480630B1 (ko) * | 2002-11-13 | 2005-03-31 | 삼성전자주식회사 | 노이즈를 줄일 수 있도록 된 광픽업 및 편광변환기 |
KR101868218B1 (ko) * | 2005-07-08 | 2018-06-15 | 가부시키가이샤 니콘 | 면 위치 검출 장치, 노광 장치 및 노광 방법 |
JP5622068B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2014-11-12 | 株式会社ニコン | 面位置検出装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 |
KR100981988B1 (ko) * | 2008-06-03 | 2010-09-13 | 나노-뷰(주) | 타원해석기 및 타원해석방법 |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180087691A (ko) * | 2017-01-25 | 2018-08-02 | (주)엘립소테크놀러지 | 4-반사경을 적용한 마이크로 스폿 분광 타원계 |
KR20200047558A (ko) * | 2017-09-22 | 2020-05-07 | 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드 | 위상-시프팅 리플렉터를 갖는 음향-광학 시스템 |
KR102137053B1 (ko) | 2018-12-17 | 2020-07-23 | 한양대학교 에리카산학협력단 | 타원해석기 및 편광 반사 모듈 |
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