JP4183247B2 - 塗布方法および塗布膜 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ダイを用いて、連続搬送される支持体上に塗布液を連続的に塗布することにより、表面の平滑性に優れ、スジ状等の欠陥がない塗布膜を形成できる塗布方法に関するものである。さらには、この塗布方法を用いた塗布膜あるいはこの塗布膜を光学層とした光学フィルムおよび、その光学フィルムを用いた画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光学フィルムや各種樹脂シート等を製造する際の、塗布液の支持体への塗布方法としては、グラビアロールコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法、ワイヤーブロックコート法、リブロックスコート法、リブロックスロールコート法、エクストルージョンコート法、ロッドコート法、ワイヤーバーコート法、スライドコート法およびカーテンコート法等が知られているが、なかでも、塗布液の変質および異物混入や塗布膜表面の厚みムラを嫌う光学フィルム等の製造に関しては、密閉系で、支持体表面に均一に塗布できるエクストルージョンコート法（エクストルージョン法）を用いた塗布方法が好ましく用いられる。
【０００３】
このエクストルージョン法による塗布方法は、従来、ポンプやピストン等の供給装置や毛細管現象を利用してダイ内に塗布液を供給し、ダイの先端部に有する幅広のスリット（吐出口）から、連続搬送される支持体表面に向けて連続的に押し出された塗布液を、支持体表面に均一な厚さで塗布する（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
しかしながら、塗布液の供給方法として、前記供給装置を用いると少なからず塗布液中に脈動が生じ、塗布ムラの原因となってしまうことがわかっている。このような問題点に対しては、除振装置（脈動除去装置）を設けることによって、塗布ムラを解消する塗布装置が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００５】
ところが、除振装置のような装置を用いる方法でも塗布ムラを除去しきることはできておらず、特に近年、塗布膜の薄型化や大型化が求められていることに加え、より精密な面内均一性が求められる光学フィルム等に対しては不十分であった。
【０００６】
＜従来公報＞
【特許文献１】
特開２００２−８６０４１号公報
【０００７】
【特許文献２】
特開平５−３１４３４号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明では、支持体上にダイを用いて塗布液を塗布する方法において、塗布ムラがなく、光学フィルム等に要求される精密な面内均一性を実現することのできる塗布膜の得られる塗布方法および、その塗布方法により得られた塗布膜、さらには、その塗布膜を積層した光学フィルムおよびこの光学フィルムを適用した画像表示装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を検討すべく、鋭意検討したところ、以下に示す塗布装置を用いることにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
本発明は、塗布液タンクからダイに塗布液を供給し、このダイを用いて支持体上に塗布液を塗布する方法において、塗布液タンクからダイまでの区間に供給装置を用いることなく、塗布液タンク中の塗布液の液面を制御しながらダイに塗布液を供給することを特徴とする塗布方法に関するものである。
【００１１】
前記の塗布液タンク中の塗布液液面を制御する方法としては、塗布液タンクに、このタンクを満たす十分量の塗布液を供給することによって、塗布液タンクから塗布液をオーバーフローさせ、さらに塗布液タンクの液面高さを一定に保つ方法が挙げられる。
【００１２】
また、本発明の塗布方法では、塗布液タンクからダイまでの区間に少なくとも一つの除振装置を設け、上記区間を除振することが好ましい。
【００１３】
さらに本発明は、上記塗布方法により形成された塗布膜に関するものであり、この塗布膜を光学層としてフィルム上に積層した光学フィルムおよび、この光学フィルムを有する画像表示装置に関する。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の塗布方法に用いられる塗布装置の一例を示す。この塗布装置としては、例えば図１に示すように、貯蔵タンク２内にある塗布液を、給液ポンプ４を備えた供給パイプ（１）５を介して、内槽３１と外槽３２からなる塗布液タンク３の内槽３１に供給する。この塗布液タンク３は、内槽３１の上部から塗布液があふれるように内槽３１に貯蔵タンク２から塗布液を供給することにより、バッファタンクとしての機能を有する。これによって、塗布液の液面高さが常に一定となり、供給パイプ（２）６の途中で供給装置を用いないため、塗布液の自重によりダイ1に同じ液圧で供給される。このとき、塗布液タンクの内槽３１からあふれた塗布液は外槽３２で受けた後、貯蔵タンク２に戻され再利用される。また、塗布液タンク３からダイ１までの区間には、その設置台座や供給パイプ等に対して、防振ゴム等からなる除振装置を設置することが好ましい。このように、ダイの供給口１２から供給された塗布液は吐出口１１より連続搬送される支持体８上に順次吐出塗布されて乾燥前の塗布膜が形成される。こうして形成された乾燥前の塗布膜は、必要に応じて乾燥工程や硬化処理工程等の必要な工程を経て、目的とする塗布膜とされる。また、この塗布膜は上記工程の後、支持体上より剥離回収して用いることもできる。
【００１５】
本発明による塗布方法は、ダイから支持体上に塗布液が順次吐出塗布される塗布方法に用いられるが、特にエクストルージョン法によるエクストルージョン型のダイを用いた塗布方法に好ましく用いられる。このエクストルージョン法は、膜厚均一性や塗膜面の平滑性の良さから、精度の高い塗布方法として広く用いられている塗布方法であり、ダイの先端部にある吐出口より塗布液を押し出し、連続搬送される支持体に対して塗布する。エクストルージョン型のダイは、塗布液を供給する供給口と、供給された塗布液を幅手方向に留め、均一に供給するための分配部（マニホールド）および、この分配部より塗布液を幅手方向に均一に吐出するためのスリット状の吐出口を有している。また、このダイの構成を工夫することにより、同時多層塗布も可能である。
【００１６】
前記ダイは、例えば金属やプラスチック、セラミックス等、適宜な材料からなり、その塗布幅を決定する吐出口の幅長さも必要とする塗布膜に応じて適宜決定することができる。しかし、装置の寸法精度、組み立て精度には細心の注意を払って構成する必要があり、特に、塗布液を吐出するためのダイの吐出口先端部と被塗布物である支持体間の距離については高精度の設定が要求される。その吐出口先端部と支持体間の距離が大きすぎると塗布が不可能になったり、塗布面にスジ状欠陥や塗布ムラが現れたりし、また小さすぎるとダイから供給される塗布液の全量が塗布されずに、ダイの支持体流れ方向上流側に液だまりが生じるため、規定の塗布膜厚さが得られなかったり、スジ状欠陥や塗布ムラがあらわれたりするという問題が生ずる。したがって、この吐出口先端部と支持体間の距離には適正な範囲があるが、塗布液の物性や塗布条件、塗布装置の構造（例えば、ダイの支持体流れ方向上流側で余分な塗布液を吸引する装置を設け、塗布液形状の安定化を図ったもの等）により、適正な範囲は変わる。例えば、ダイ吐出口と支持体間に塗布膜厚さの１００倍以上の距離を設けたとしても、塗布液の物性や塗布条件によっては塗布することが可能である。
【００１７】
前記分配部（マニホールド）の形状としては、これに限定されることなく、塗布液の物性、塗布条件等により、流動解析等の解析手法を用いて、最適な形状設計したものを用いることができるが、通常、コートハンガータイプ、フィッシュテールタイプ、ストレートマニホールド（Ｔマニホールド）タイプ等の形状が用いられている。なかでも、幅方向の流速分布を一定にし、分配部に滞留部分ができにくい点から、コートハンガータイプの分配部を用いることが好ましい。
【００１８】
前記吐出口周辺部は、塗布液を吐出する最終部分であり、ダイの幅方向、すなわち塗布液を吐出して形成する塗布膜の幅方向に連続して設けられる。この部位の形状としては、先細り型、槍型等、限定されることなく適宜な形状を用いることができるとともに、その表面には、液切れ性の向上等を目的とした撥水コートを施しても良い。撥水コートの形成剤としては、例えば、フッ素系やシリコーン系等の適宜な撥水剤を用いることができ、ポリマー系の撥水剤がコート膜の長寿命性等の点より好ましく用いられる。また、この撥水コートは、汚れ防止等を目的として、ダイ全体に設けても良い。さらに、本発明では、この吐出口から流出する液圧を一定にすることが目的であるため、液圧や流速を測定するセンサーをこの吐出口付近に設けても良い。
【００１９】
本発明に用いられる塗布液タンクとしては、液面制御により排出口から流出する塗布液の液圧を一定にする機能を有し、またはその機能を妨げないものであれば限定されることなく用いることができる。例えば、前記のようにバッファタンクとなる内槽を持ち、その内槽に許容量以上の塗布液を供給して、余分な塗布液を上縁部からあふれさせる機能を有する塗布液タンクや、内槽を持たなくとも、ダイへの供給用とは別に設けた排出部を設けることによって、液面高さを一定にし、排出口から流出する液圧を一定にするもの（オーバーフロー式）や、排出口や供給パイプに設けた液圧または流速のセンサーと塗布液の液面状態を連動させて液圧を調整するもの（センサー式）および、ダイ吐出口における塗布液の吐出圧が一定となるように、塗布液タンクの塗布液液面上部に圧力を加えるもの、例えば、調圧した圧縮空気を利用して塗布液の液面上部に圧力を加えるもの（Ａｉｒ式）や、塗布液の液面上部に密着させた押圧部材により圧力を加えるもの（プランジャー式）等の方法を用いて、塗布液タンクの排出口から流出する液圧を一定にする各種方法を用いることができる。なかでも、塗布液を連続的に供給することができ、簡便であることから、オーバーフロー式が好ましく用いられる。また、この塗布液タンクの設置位置としては、液面上部に圧力を加えず、塗布液の自重によりダイに塗布液を供給する場合には、塗布液タンク内の塗布液液面上部がダイの吐出口より高い位置にある必要があるが、その他の場合に関しては、ダイへの供給過程の条件を考慮した設計により適宜な位置を設定すればよい。
【００２０】
また、本発明による塗布方法では、ダイに塗布液を供給する際に、塗布液タンクからダイまでの区間においては供給装置を用いることなく行う。この供給装置としては、何らかの動力をもって塗布液に力を加えるものであり、例えば、各種ポンプやピストン等の装置があげられる。本発明は、この供給装置を用いることなくダイに塗布液を供給する方法を用いたことにより、ダイへの塗布液の供給ムラを低減する効果が得られる。
【００２１】
本発明の塗布方法に用いられる除振装置としては、塗布液タンクからダイまでの区間にある塗布液の振動を低減するものであれば、限定されることなく従来公知のものを適宜用いることができるが、例えば、バネ式、空気バネ式、コイルバネ式、防振ゴム式および、特開平５−３１４３４号公報に示されている脈動除去装置、いわゆる金属焼結フィルター、セラミクスフィルター、繊維フィルター、発泡体フィルターや、有機溶剤用アキュームレーター等のような一般的に用いられる除振装置を適用することができる。また、この除振装置の設置方法としては、塗布液タンクからダイまでの区間に、各種除振装置の得られる効果に応じて、適宜好ましい方法で設置すればよく、塗布液タンクからダイまでの区間において、塗布液の振動を低減する設置方法であれば特に限定されるものではない。また、その設置位置に関しても限定されるものではなく、塗布液タンクからダイまでの区間に設置していれば良く、塗布液タンクの排出口からダイの供給口までの区間に設置していることがより好ましい。さらには、この塗布液タンクからダイまでの区間全体に設置していることが最も好ましい。しかしながら、装置の種類によっては、効果のある場所に１つ以上設置していればよく、種類の同じまたは異なる除振装置を複数個設置してもよい。この塗布液タンクからダイまでの区間としては、塗布液タンクや供給パイプおよびダイ等を支える支柱や台部分も含むため、この部分に設置して外部からの振動を防いでもよい。例えば、除振装置として防振ゴムを用いる場合、塗布液タンクおよび供給パイプの台座部分全てに設置することが好ましい。
【００２２】
本発明の塗布方法に用いることのできる塗布液は、塗布膜の形成が可能なものであれば必要とされる用途に応じて選択でき、特に限定されるものではないが、例えば、磁気記録媒体用磁性塗布液、一般用及び産業用ハロゲン化銀感光材料用塗布液、感熱材料用塗布液、熱現像感光材料用塗布液、液晶物質を含む液晶材料用塗布液、あるいはその他機能性材料を有機溶媒や水等に溶解した液、顔料分散液、コロイド状分散液等を挙げることができる。また、これらの塗布液は、適宜レベリング剤等の添加剤を混合したものであってもよい。
【００２３】
前記塗布液の粘度としては、特に限定されるものではないが、エクストルージョン法による塗布方法においては、通常０．５ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓであり、０．５ｍＰａ・ｓ〜８００ｍＰａ・ｓが好ましく、０．５ｍＰａ・ｓ〜５００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。一般的に、粘度が０．５ｍＰａ・ｓ未満のものや、１０００ｍＰａ・ｓを超えるものは、本発明の課題である塗布ムラが生じにくく、本発明による効果は少ないものと考えられるため、本発明による塗布方法を適用することなく、従来公知の塗布方法を用いればよい。
【００２４】
塗布液の粘度の測定方法として本願で用いている粘度は、粘度測定装置（HAAKE社製：レオメーターRS−１）を用いて、温度２５℃、せん断速度が１０〜１００［１／s］の範囲で測定した平均値である。また、粘度の測定は、ダイの吐出口から吐出された塗布液で行うことが好ましいが、粘度が塗布装置中で変化するような粘度変化の大きい塗布液を用いない限り、塗布液タンク中の塗布液で粘度測定しても良い。
【００２５】
本発明による塗布方法を用いて形成した塗布膜としては、光学層、帯電防止層、表面保護層、導電機能層、接着性層等が挙げられる。このような塗布膜は少なくとも１層あればよいが、必要に応じ、２層以上からなる塗布膜を同時または順次塗布する方法に適用しても良く、塗布膜の層数に限定されるものではない。
【００２６】
前記塗布膜の厚み制御方法としては、塗布液の物性に応じて、その供給量や支持体の搬送速度を適宜調整することにより所望の厚みを得ることができるが、塗布膜塗布直後（乾燥前）の厚みとしては、一般的に１μｍ〜５００μｍであり、１μｍ〜１００μｍであることが好ましい。このとき、１μｍ未満のものは、塗布液の物性と塗布装置の調整が困難であるため、塗布することが難しく、５００μｍを超えると、乾燥ムラ等によって生じる外観ムラが生じやすくなる。さらに乾燥後の厚みとしては、必要とする性能を有する厚みであれば特に限定されるものではないが、０．０１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以上１０μｍ以下であることが特に好ましい。この塗布膜が、０．０１μｍ未満であれば、塗布膜の均一性の制御が難しく、５０μｍを超えると、一般的に乾燥が不十分となるため、残存溶剤が残りやすくなる。
【００２７】
塗布膜厚さの測定方法としては、その塗布膜の性状に合わせて、光学的な方法を用いたものや、物理的、直接的な方法で測定するもの等、適宜な測定装置を限定されることなく用いることができる。例えば塗布膜が光学層である場合、光干渉を利用した光学的な方法が好ましく用いられる。
【００２８】
本発明で用いられる支持体としては、種類によって限定されるものではなく、紙、ポリマーフィルム、金属シート等を適宜用いることができる。紙としては、例えばレジンコート紙、合成紙等が挙げられ、金属シートとしては、アルミニウム板が代表的である。
【００２９】
ポリマーフィルムとしては、必要とするフィルムの表面状態や耐久性に不具合を生じないものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーフィルムからなるフィルムが挙げられる。また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや、さらにこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げられる。さらに、熱や紫外線照射等により硬化するものを用いても良く、そのような硬化型のフィルムを形成する場合、例えば支持体から容易に剥離できる層を先に形成して、その上に硬化フィルムを形成する方式等により、得られたフィルムを支持体から剥離回収することができる。したがって、複層構造のフィルムを形成することも可能である。
【００３０】
前記支持体の搬送時の形状としては、特に限定されるものではなく、ドラム状、エンドレスベルトのようなベルト状、板状等、塗布液を順次連続的に吐出塗布でき、その塗布膜を支持してシート状に維持できる適宜な形状を用いることができる。また、表面形状としては、例えば、鏡面、プリズム状凹凸やエンボス加工されたもの等、適宜な表面形状を有するものを使用できる。さらに、前記支持体表面にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、下塗り処理、熱処理、金属蒸着処理、アルカリ処理等の前処理が施されていてもよい。
【００３１】
本発明の塗布方法により形成された塗布膜は、前記支持体上で、あるいは支持体から剥離した後、光学層として他のフィルムと積層することによって、光学フィルムとして用いることができる。剥離した塗布膜を積層するフィルムとしては、適宜接着性層を形成した前記支持体と同様なものが使用できる。前記光学フィルムとしては、画像表示装置の形成に用いられるものが挙げられ、その種類は特に限定されるものではないが、例えば、偏光板、位相差板、楕円偏光板、視角補償フィルム、輝度向上フィルム等が挙げられる。
【００３２】
本発明の塗布方法は、塗布膜の形成、主に前記光学フィルムを形成する光学層の形成に用いることができるが、例えば、偏光板の製造における偏光子の染色、透明保護層の形成またはハードコート処理やアンチグレア処理といった表面処理層の形成等に用いることができる。さらに、支持体上に液晶ポリマーおよび／または液晶モノマー等の液晶性物質を塗布し、適宜配向、固定化した光学層によって、位相差板や視角補償フィルム、輝度向上フィルム等の光学フィルムとすることができる。上記液晶性物質を配向、固定化させるためには、塗布前にあらかじめポリマーフィルム上をラビングすることや、塗布後に加熱や光照射を施す方法等が液晶性物質の特性に合わせて適宜用いられる。上記のように本発明の方法により形成した光学層または光学フィルムは、屈折率や透過率等の光学特性における面内バラツキの少ないものが得られる。そのバラツキは２０％以下であることが好ましく、１５％以下であることがより好ましい。また、本発明による方法は、塗布液を前記ポリマーフィルムの原料となる溶液とするとともに、溶融押出法や流延法といった公知の方法と組み合わせる等の方法により、ポリマーフィルム等のフィルム状物質の製造に用いることもできる。
【００３３】
前記偏光板は、偏光子の片面または両面に透明保護層を有するものが一般的である。この偏光子としては、限定されることなく各種のものを使用できる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質で染色して一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８０μm程度である。
【００３４】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素の水溶液に浸漬または、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を塗布することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作成することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいてもよく、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行ってもよいし、染色しながら延伸してもよいし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００３５】
前記偏光子の片面または両面に設けられる透明保護層を形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや方向族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーのブレンド物なども前記透明保護層を形成するポリマーの例としてあげられる。透明保護層は、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。これらの中でもイソシアネート架橋剤との反応性を有する水酸基を有するものが好ましく、特にセルロース系ポリマーが好ましい。透明保護層の厚さは特に制限されないが、一般には５００μｍ以下であり、１〜３００μｍが好ましい。特に５〜２００μｍとするのが好ましい。
【００３６】
また、透明保護層としては、特開２００１−３４３５２９号公報（WO０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、（Ａ）側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換および／または非置換フェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が挙げられ、具体例としてはイソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムが挙げられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出し品などからなるフィルムを用いることができる。
【００３７】
透明保護層の厚さは特に限定されるものではないが、一般には５００μｍ以下であり、１〜３００μｍが好ましい。特に５〜２００μｍとするのがより好ましい。また、偏光特性や耐久性などの点より、保護フィルム表面をアルカリなどでケン化処理することが好ましい。
【００３８】
これら透明保護層は、前記の透明保護層形成材料を溶液とし、前記偏光子に塗布することによって形成しても良い。
【００３９】
また、透明保護層はできるだけ色付きがないことが好ましい。したがって、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］・ｄ（ただし、ｎｘ、ｎｙはフィルム平面内の主屈折率、ｎｚはフィルム厚方向の屈折率、ｄはフィルム厚である）で表されるフィルム厚み方向の位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍである透明保護層が好ましく用いられる。かかる厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍのものを使用することにより、透明保護層に起因する偏光板の着色（光学的な着色）をほぼ解消することができる。厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）は、さらに好ましくは−８０〜＋６０ｎｍ、特に−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。
【００４０】
前記透明保護層の偏光子を接着させない面や、各種光学フィルムには、ハードコートや反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした表面処理を施すことができる。
【００４１】
ハードコート処理は、これに限定されるものではないが、例えば、ハードコート層を形成する透明樹脂を偏光板表面の傷つき防止などを目的に施す。このハードコート処理により形成されたハードコート層は、ハードコート性に優れ（ＪＩＳ Ｋ ５４００の鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すもの）、十分な強度を持ち、光透過率の優れたものであればよく、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護層の表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。
【００４２】
また、アンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して、偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えば、サンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて透明保護層の表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋または未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜５０重量部程度であり、５〜２５重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）をかねるものであってもよい。
【００４３】
なお、前記処理により形成されるハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、偏光板に設ける場合、透明保護層そのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護層とは別体のものとして設けることもできる。さらに前記各層には、導電性等の各種微粒子や、無機または有機の球形もしくは不定形のフィラー、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤等を適宜含有させてもよい。
【００４４】
前記偏光子と透明保護層との接着処理は特に限定されるものではないが、例えば、ビニルポリマーからなる接着剤、あるいは、ホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸などのビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤などを介して行うことができる。この接着層は、水溶液の塗布乾燥層などとして形成しうるが、その水溶液の調製に際しては、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。
【００４５】
前記の位相差板や輝度向上フィルム等を形成する液晶モノマーとしては、リオトロピック性、サーモトロピック性のいずれのものも用いることができるが、作業性の点からサーモトロピック性のものが好適であり、例えば、アクリロイル基、ビニル基やエポキシ基等の官能基を導入したビフェニル誘導体、フェニルベンゾエート誘導体、スチルベン誘導体などを基本骨格としたもの等が挙げられる。このような液晶モノマーは、例えば、熱や光による方法、基板上をラビングする方法、配向補助剤を添加する方法等、適宜公知の方法を用いて配向させ、その後、この配向を維持した状態で、光、熱、電子線等により架橋および重合させることにより配向を固定化する方法が好ましく用いられる。
【００４６】
さらに、前記液晶ポリマーとしては、例えば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどがあげられる。主鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサ部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレートまたはポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサ部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これら液晶ポリマーは、例えば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化ケイ素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。
【００４７】
本発明による光学フィルムには、実用に際して各種光学層を積層して用いることができる。その光学層については、要求される光学特性を満たすものであれば特に限定されるものではなく、本発明による塗布膜からなる光学層も含む。例えば、偏光子の片面または両面に、偏光子の保護を目的とした透明保護層、前記透明保護層の偏光子と接着する面と反対の面、あるいは偏光子自体の片面または両面に対して、ハードコート処理や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした表面処理を施したり、視角補償等を目的とした配向液晶層や、他のフィルムを積層するための粘着層を積層する方法があげられる。さらに、光学層として、偏光変換素子、反射板や半透過板、位相差板（１／２や１／４等の波長板（λ板）を含む）、視角補償フィルム、輝度向上フィルムなどの画像表示装置等の形成に用いられる光学フィルムを１層または２層以上積層したものもあげられる。特に上記偏光子と透明保護層を積層した偏光板に、反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、視角補償層または視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。また、前記光学層あるいは前記光学フィルムを透明保護層と積層するタイミングは、偏光子と貼りあわせた後でも良いし、偏光子と貼りあわせる前でも良い。
【００４８】
反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内臓を省略できて、液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【００４９】
反射型偏光板の具体例としては、必要に応じ、マット処理した透明保護層の片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。また、前記透明保護層に微粒子を含有させて表面微細凹凸構造とし、その上に微細凹凸構造の反射層を有するものなどもあげられる。前記した微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させて指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点などを有する。また微粒子含有の透明保護層は、入射光およびその反射光がそれを透過する際に拡散されて、明暗ムラをより抑制しうる利点なども有している。透明保護層の表面微細凹凸構造を反映させた微細凹凸構造の反射層の形成は、例えば真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式などの適宜な方式で、金属を透明保護層の表面に直接付設する方法などにより行うことができる。
【００５０】
反射板は、前記偏光板の透明保護層に直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお、反射層は通常、金属からなるので、その反射面が透明保護層や偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設回避の点などにより好ましい。
【００５１】
なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内臓光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的明るい雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。
【００５２】
偏光板にさらに位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変えたりする位相差板としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板ともいう）が用いられる。１／２波長板（λ／２板ともいう）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。
【００５３】
楕円偏光板はスーパーツイストネマチック（STN）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色（青または黄）を補償（防止）して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。さらに、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）することができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。
【００５４】
位相差板としては、ポリマーフィルムを一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶モノマーを配向させた後、架橋、重合させた配向フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。延伸処理は、例えばロール延伸法、長間隙沿延伸法、テンター延伸法、チューブラー延伸法などにより行うことができる。延伸倍率は、一軸延伸の場合には１．１〜３倍程度が一般的である。位相差板の厚さも特に制限されないが、一般的には１０〜２００μm、好ましくは２０〜１００μmである。
【００５５】
位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。
【００５６】
また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板は、偏光板または反射型偏光板と位相差板を適宜な組み合わせで積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射型）偏光板と位相差板の組み合わせとなるようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっても形成しうるが、前記のごとくあらかじめ楕円偏光板等の光学フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に優れて、液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点がある。
【００５７】
視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明に見えるように視野角を広げるためのフィルムである。このような視角補償位相差板としては、例えば位相差板、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され、厚さ方向にも延伸された、厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理または／および収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いうる。
【００５８】
また、良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリアセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いうる。
【００５９】
偏光板と輝度向上フィルムを貼りあわせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得るとともに、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光をさらにその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部または全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図るとともに、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して、液晶画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに、輝度向上フィルムでいったん反射させ、さらにその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光市を通過しうるような偏光方向になった偏光のみを透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。
【００６０】
輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態とする。すなわち元の自然光状態にもどす。この非偏光状態すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射して、拡散板を再び通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。元の自然光状態に戻す拡散板を設けることにより、表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのムラを少なくし、均一の明るい画面を提供することができる。元の自然光状態に戻す拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能とあいまって均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。
【００６１】
前記の輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの如き、左回りまたは右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。
【００６２】
したがって、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸をそろえて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ、効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を透過するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。
【００６３】
可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの単色光に対して１／４波長板として機能する位相差板と他の位相差特性を示す位相差板、例えば１／２波長板として機能する位相差板とを重畳する方式などにより得ることができる。したがって、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層または２層以上の位相差板からなるものであってよい。
【００６４】
なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層または３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。
【００６５】
また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と２層または３層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。したがって、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。
【００６６】
偏光板に前記光学層を積層した光学フィルムは、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、あらかじめ積層して光学フィルムとしたものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着剤層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板と他の光学層の接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。
【００６７】
本発明による光学フィルムは液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤ）および電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）等の画像表示装置の形成に好ましく用いることができる。
【００６８】
本発明による光学フィルムは、液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができ、例えば、偏光子あるいは偏光板を液晶セルの片側あるいは両側に配置してなる反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。液晶セル基板は、プラスチック基板、ガラス基板のいずれでも良い。液晶表示装置を形成する液晶セルは任意であり、例えば薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のものなど適宜なタイプの液晶セルを用いたものであって良い。
【００６９】
また、液晶セルの両側に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えばプリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適宜な部品を適宜な位置に１層または２層以上配置することができる。
【００７０】
次いで、有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせを持った構成が知られている。
【００７１】
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性に伴う強い非線形性を示す。
【００７２】
有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【００７３】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度と極めて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
【００７４】
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差フィルムを設けることができる。
【００７５】
位相差フィルムおよび偏光子は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差フィルムを１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相差フィルムとの偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００７６】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差フィルムにより一般に楕円偏光となるが、特に位相差フィルムが１／４波長板でしかも偏光板と位相差フィルムとの偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【００７７】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差フィルムで再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００７８】
ＰＤは、パネル内に封入された希ガス、とくにネオンを主体としたガス中で放電を発生させ、その際に発生する真空紫外線により、パネルのセルに塗られたＲ、Ｇ、Ｂの蛍光体を発生させることにより、画像表示が可能となる。
【００７９】
【実施例】
以下に実施例および比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例および比較例によって限定されるものではない。
【００８０】
実施例１
図１に示す塗布装置を用いて、全幅１５００ｍｍ、塗布幅１１００ｍｍ、吐出口のスリット幅（ダイ内部における分配部以降の並行平板間の距離）０．１５ｍｍのエクストルージョン型ダイを用いて、幅１３３０ｍｍ、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムからなる支持体上に、固形分４０％のアクリルウレタンからなる塗布液（溶媒：トルエン、粘度：３ｍＰａ・ｓ）を厚み（乾燥前）１２μｍになるように塗布速度１０ｍ／ｍｉｎで塗布した。その後、１００℃で４分乾燥し、塗布膜を形成した。
【００８１】
形成した塗布膜と支持体からなる塗布フィルムの評価方法としては、塗布フィルムを３００ｍｍ四方の大きさでサンプルとして切り出し、その塗布膜と反対の面に黒色テープを貼り、塗布膜面にスタンド型三波長蛍光灯をあてることにより、その反射光による干渉縞を目視により観察した。その結果、わずかに不規則な横縞状のムラが部分的に発生していたが、実用上問題のないレベルあり外観良好であった。
【００８２】
実施例２
実施例１において、図１の供給パイプ（２）および塗布液タンクの台座部分に防振ゴム（倉敷化工（株）製：防振パッド ＫＨ−１０）からなる除振装置を設置した以外は、実施例１と同様にして塗布フィルムを作製し、実施例１と同様の評価をした。その結果、塗布膜表面の均一性がよく、外観が良好であった。
【００８３】
比較例１
図２に示す塗布装置において、固形分４０％のアクリルウレタンからなる塗布液（溶媒：トルエン、粘度：３ｍＰａ・ｓ）を流量２．９２ｃｃ／回転のギアポンプ型給液ポンプ（高千穂機械（株）製）を用いて、全幅１５００ｍｍ、塗布幅１１００ｍｍ、吐出口のスリット幅０．１５ｍｍのエクストルージョン型ダイを用いて、幅１３３０ｍｍ、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムからなる支持体上に、厚み（乾燥前）１２μｍになるように塗布速度１０ｍ／ｍｉｎで塗布した。その後、１００℃で４分乾燥し、塗布膜を形成した。この塗布膜および支持体からなる塗布フィルムに実施例１と同様の評価を行った。その結果、外観不良であり、周期的な横縞状のムラが発生していた。
【００８４】
比較例２
比較例１において、図２の供給パイプ（３）および塗布液タンクの台座部分に実施例２と同様の除振装置を設置した以外は、比較例１と同様にして塗布フィルムを作製し、同様の評価をした。その結果、外観不良であり、強弱のある横縞状のムラが発生していた。
【００８５】
前記実施例および比較例の結果から明らかなように、ダイへの塗布液供給に供給装置を用いることなく、塗布液タンク中の塗布液の液面を一定にしながら塗布液を供給することによって、塗布膜に生じる塗布ムラを大幅に減らすことができる。さらに、除振装置を併用して用いることによって、塗布ムラがなく、外観均一性の良好な塗布膜を得ることができる。
【００８６】
【発明の効果】
以上のように本発明は、支持体上にダイを用いて塗布液を塗布する方法において、塗布液タンクからダイまでの区間に供給装置を用いることなく、塗布液タンク中の液面を制御して、ダイに塗布液を供給することにより、光学フィルム等に好適な、外観均一性の良好な塗布膜が得られる方法を見出したものであり、この塗布膜を用いることにより表示ムラのない画像表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による塗布装置の構成例である。
【図２】従来の塗布装置の構成例である。
【符号の説明】
１：ダイ
１１：吐出口
１２：供給口
２：貯蔵タンク
３：塗布液タンク
３１：内槽
３２：外槽
３３：排出口
４：給液ポンプ
５：供給パイプ（１）
６：供給パイプ（２）
７：供給パイプ（３）
８：支持体

Claims (3)

1. 塗布液タンクからダイに塗布液を供給し、このダイによって支持体上に塗布液を塗布する方法において、
   貯蔵タンク内にある塗布液を、給液ポンプを備えた供給パイプを介して、内槽と外槽からなる塗布液タンクの内槽に供給し、
   前記塗布液の供給は、内槽の上部から塗布液が外槽にオーバーフローする様にして、前記内槽における塗布液の液面高さが一定に制御されるものであり、
   前記塗布液タンクの内槽における塗布液液面上部をダイの吐出口より高い位置にして、
   前記塗布液タンクからダイまでの区間に供給装置を用いることなく、内槽の底部からダイに塗布液を供給し、
   更に、内槽からオーバーフローした外槽の塗布液を貯蔵タンクに供給し再利用することを特徴とする塗布方法。
2. 塗布液タンクからダイまでの区間に少なくとも一つの除振装置を設け、上記区間を除振することを特徴とする請求項１記載の塗布方法。
3. 請求項１又は２に記載の塗布方法により形成された塗布膜。

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