JP4140523B2 - 有機金属反応方法 - Google Patents
有機金属反応方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4140523B2 JP4140523B2 JP2003508685A JP2003508685A JP4140523B2 JP 4140523 B2 JP4140523 B2 JP 4140523B2 JP 2003508685 A JP2003508685 A JP 2003508685A JP 2003508685 A JP2003508685 A JP 2003508685A JP 4140523 B2 JP4140523 B2 JP 4140523B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- solvent
- group
- present
- thf
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 17
- 238000010653 organometallic reaction Methods 0.000 title description 9
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 47
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- -1 alicyclic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 14
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 13
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 8
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- KNMWUHBKZHDEOQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethyl-2-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=C(C)C=C(C)C=C1C KNMWUHBKZHDEOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JFDXATFYWOLYQQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6-trimethylphenyl)propan-2-ol Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(C)(C)O)C(C)=C1 JFDXATFYWOLYQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 6
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 6
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- ITHZGJVAQFFNCZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylcyclopentan-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1(O)CCCC1 ITHZGJVAQFFNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDCFWIDZNLCTMF-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C1=CC=CC=C1 BDCFWIDZNLCTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- CXMYOMKBXNPDIW-UHFFFAOYSA-N cyclopenten-1-ylbenzene Chemical compound C1CCC=C1C1=CC=CC=C1 CXMYOMKBXNPDIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N Propyl gallate Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007344 nucleophilic reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 2
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HLBOAQSKBNNHMW-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxyphenyl)pyridine Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=NC=CC=2)=C1 HLBOAQSKBNNHMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000003682 3-furyl group Chemical group O1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004938 5-pyridyl group Chemical group N1=CC=CC(=C1)* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNNVSEQPYQGFHG-UHFFFAOYSA-M Cc1cc(C)c([Mg]I)c(C)c1 Chemical compound Cc1cc(C)c([Mg]I)c(C)c1 NNNVSEQPYQGFHG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 1
- CDKFWIMBZAUBRS-UHFFFAOYSA-M [I-].CC[Mg+] Chemical compound [I-].CC[Mg+] CDKFWIMBZAUBRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SNIYGPDAYLBEMK-UHFFFAOYSA-M [I-].[Mg+]C1=CC=CC=C1 Chemical compound [I-].[Mg+]C1=CC=CC=C1 SNIYGPDAYLBEMK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005882 aldol condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005575 aldol reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005443 coulometric titration Methods 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOWQNXIISCPKBK-UHFFFAOYSA-M magnesium;1,3,5-trimethylbenzene-6-ide;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CC1=CC(C)=[C-]C(C)=C1 JOWQNXIISCPKBK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;iodide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[I-] VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GFTXWCQFWLOXAT-UHFFFAOYSA-M magnesium;cyclohexane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].C1CC[CH-]CC1 GFTXWCQFWLOXAT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LVKCSZQWLOVUGB-UHFFFAOYSA-M magnesium;propane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].C[CH-]C LVKCSZQWLOVUGB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000001979 organolithium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 235000010388 propyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/05—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds
- C07C41/06—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds by addition of organic compounds only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B49/00—Grignard reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B63/00—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/36—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by reactions with formation of hydroxy groups, which may occur via intermediates being derivatives of hydroxy, e.g. O-metal
- C07C29/38—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by reactions with formation of hydroxy groups, which may occur via intermediates being derivatives of hydroxy, e.g. O-metal by reaction with aldehydes or ketones
- C07C29/40—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by reactions with formation of hydroxy groups, which may occur via intermediates being derivatives of hydroxy, e.g. O-metal by reaction with aldehydes or ketones with compounds containing carbon-to-metal bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/18—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
- C07C43/184—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring to a carbon atom of a non-condensed ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5022—Organic solvents containing oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
- C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/263—Ethers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B20/00—Signal processing not specific to the method of recording or reproducing; Circuits therefor
- G11B20/00086—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B20/00—Signal processing not specific to the method of recording or reproducing; Circuits therefor
- G11B20/00086—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy
- G11B20/0021—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy involving encryption or decryption of contents recorded on or reproduced from a record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B20/00—Signal processing not specific to the method of recording or reproducing; Circuits therefor
- G11B20/00086—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy
- G11B20/0021—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy involving encryption or decryption of contents recorded on or reproduced from a record carrier
- G11B20/00485—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy involving encryption or decryption of contents recorded on or reproduced from a record carrier characterised by a specific kind of data which is encrypted and recorded on and/or reproduced from the record carrier
- G11B20/00492—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy involving encryption or decryption of contents recorded on or reproduced from a record carrier characterised by a specific kind of data which is encrypted and recorded on and/or reproduced from the record carrier wherein content or user data is encrypted
- G11B20/00507—Circuits for prevention of unauthorised reproduction or copying, e.g. piracy involving encryption or decryption of contents recorded on or reproduced from a record carrier characterised by a specific kind of data which is encrypted and recorded on and/or reproduced from the record carrier wherein content or user data is encrypted wherein consecutive physical data units of the record carrier are encrypted with separate encryption keys, e.g. the key changes on a cluster or sector basis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【0001】
本発明は、シクロペンチルメチルエーテルを含有する溶剤を用いることを特徴とするグリニャール反応方法などの有機金属反応方法に関する。
【従来の技術】
【0002】
従来、グリニャール反応等の種々の有機合成化学反応の反応溶剤として、非プロトン性極性溶剤であるエーテル系溶剤が広く使用されている。エーテル系溶剤としてはテトラヒドロフラン(THF)が代表的なものであるが、このものは適度な沸点を有する非プロトン性極性溶剤であり、特にグリニャール反応や有機リチウム等を用いる反応等の反応溶剤として汎用されている。
【0003】
しかし、THFを反応溶剤として用いる場合には、反応液に水を加えた場合に、THFが水と相溶性を有し、また、共沸混合物を形成するために、反応混合物からTHFを分離することが困難となる。工業的に共沸混合物を分離するには、エントレーナー及び帯同剤を添加した特殊な蒸留方法が必要であり、少なくとも2本以上のカラム及びデカンター等の周辺設備が要求されるため、操作が煩雑であり、かつ高コストとなる問題がある。
【0004】
また、例えば、フェニルマグネシウムブロミド(PhMgBr)等のグリニャール試薬とアセトン等のエノール化し易いケトンとの反応のようなグリニャール反応に、反応溶剤としてTHFを使用した場合、目的とする求核反応よりも副反応である自己アルドール縮合反応が優先し、目的とする求核反応生成物(α,α−ジメチルベンジルアルコール)が低収率でしか得られない場合があった。従って、使用後の回収性及び反応選択性に優れる反応溶剤の開発が求められている。
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであり、使用後の回収性及び反応選択性に優れる反応溶剤を用いる、グリニャール反応方法などの有機金属反応方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、シクロペンチルメチルエーテルが、使用後の回収性に優れ、しかもグリニャール反応等の有機金属反応に用いられた場合、目的物を良好な収率で与える反応溶剤となることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
かくして本発明によれば、シクロペンチルメチルエーテルを含有する溶剤を用いることを特徴とする有機金属反応方法が提供される。
本発明の有機金属反応方法においては、前記溶剤として、シクロペンチルメチルエーテルの含有量が50重量%以上のものを用いるのが好ましく、水分含有量が100ppm以下のものを用いるのが好ましい。
【0008】
また、本発明によれば、シクロペンチルメチルエーテルを含有する溶剤を用いることを特徴とするグリニャール反応方法が提供される。
本発明のグリニャール反応方法においては、前記溶剤として、シクロペンチルメチルエーテルの含有量が50重量%以上のものを用いるのが好ましく、水分含有量が100ppm以下のものを用いるのが好ましい。
【発明の実施の形態】
【0009】
本発明の有機金属反応およびグリニャール反応は、シクロペンチルメチルエーテルを含有する溶剤を用いることを特徴とする。
【0010】
本発明で用いる溶剤(以下、「本発明の溶剤」ということがある。)は、シクロペンチルメチルエーテルを含有してなる。シクロペンチルメチルエーテルの含有量は、本発明の溶剤全体に対して、通常30重量%以上、好ましくは50重量%以上である。
シクロペンチルメチルエーテルは公知物質であり、公知の製法により製造することができる。
【0011】
本発明で用いる溶剤中の水分含有量は、100ppm以下であるのが好ましく、60ppm以下であるのがより好ましく、30ppm以下であるのがさらに好ましい。溶剤中の水分含有量が100ppmを越えると、本発明の溶剤を有機金属を用いる反応の反応用溶剤として使用する場合に、目的とする反応が収率よく進行しない場合がある。例えば、グリニャール反応においては、反応系内に、式:RaMgXa(式中、Raはアルキル基等を表し、Xaはハロゲン原子を表す。)で表されるグリニャール試薬を生成させて反応を行なうが、水分が多いと、このグリニャール試薬が収率よく生成しない。また、生成したグリニャール試薬は水と容易に反応するため、少なくとも溶剤中に残存する水分と当量のグリニャール試薬は水との反応により消費されてしまい、反応収率が低下する。
【0012】
本発明で用いる溶剤の水分含有量を100ppm以下にする方法としては、例えば、未乾燥の本発明の溶剤を脱水剤と接触させる方法が挙げられる。
【0013】
用いる脱水剤としては、シクロペンチルメチルエーテルに対して安定なものであれば特に制約されず、従来公知のものを使用することができる。具体的には、モレキュラーシーブ(以下、「MS」と略す。)、活性アルミナ、シリカゲル等の吸着性多孔質物質や、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、塩化カルシウム等の中性もしくは中性に近い吸水性の塩が好適である。この中でも、短時間で効率よく脱水できる、MS、塩化カルシウム、無水硫酸マグネシウムが好ましく、MSが特に好ましい。
【0014】
従来から使用されているグリニャール反応用溶剤の代表的なものとして、テトラヒドロフラン(THF)が知られている。本発明者らが検討したところ、THFを工業的スケールでMS等の脱水剤と接触させて脱水しようとしても、THFの水分含有量を250ppm以下にすることは困難であった。これに対して、本発明の溶剤の場合には、MS等の脱水剤と接触させることにより、容易に水分含有量を30ppm以下にすることができる。従って、本発明の溶剤をグリニャール反応や有機金属反応の反応用溶剤として使用する場合には、THFと比較して高い反応収率を達成することができる。
【0015】
本発明の溶剤は酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤を含有することにより、長期間保存したり、繰り返し蒸留回収しても、溶剤中の過酸化物量を100ppm以下に抑えることができる。
【0016】
酸化防止剤の含有量は、使用条件等により異なり、広範囲に変えることが可能であるが、安定性、洗浄力、経済性等を考慮すると、本発明の溶剤全体に対して、0.0005〜5重量%であることが好ましい。
【0017】
用いる酸化防止剤としては、フェノール類、芳香族アミン、亜リン酸エステル等が挙げられるが、酸化防止性能及び経済性の観点から、フェノール類が好ましい。
【0018】
フェノール類としては、本発明の溶剤の加熱、汚れ、蒸留回収等における高温使用時の劣化を防ぐために必要な成分であり、該溶剤に悪影響を与えず、過酸化物の生成を抑制することができるものが選ばれる。
【0019】
フェノール類の具体例としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、チモール、ピロカテキン、4−メトキシフェノール、没食子酸n−プロピル、2−t−ブチルヒドロキノン等が挙げられる。これらの中でも、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールが特に好ましい。
【0020】
本発明の溶剤と脱水剤とを接触させる方法は特に限定されない。例えば、MS等の脱水剤をカラムに充填して、本発明の溶剤を通過させる流通式でも、攪拌機付きの容器に本発明の溶剤及び脱水剤を入れ、攪拌することにより接触させる回分式でも良い。本発明の溶剤中の水分含有量は、カールフィッシャー電量滴定法により求めることができる。
【0021】
シクロペンチルメチルエーテルは、広範囲の化学物質やイオン性の物質に対して優れた溶解力を有し、かつ、種々の反応性物質に対して広い温度範囲において化学的に安定である。従って、本発明の溶剤は、種々の反応における反応用溶剤として有用である。
【0022】
本発明の溶剤には、シクロペンチルメチルエーテルの他に、他の液状有機化合物として、例えば、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、脂環式炭化水素類、エーテル類、ニトリル類、アミド類等を添加することができる。前記他の液状有機化合物の含有量は、本発明の溶剤全体に対して、通常30重量%以下、好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下である。
また、本発明の溶剤には、シクロペンチルメチルエーテル、および前記他の液状有機化合物のほかに他の成分をさらに含有させてもよい。
【0023】
本発明の溶剤は、グリニャール反応試薬、有機リチウム類、リチウムアミド類、アルカリ金属、アルカリ土類金属、金属水素化物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類金属炭酸水素塩、金属アルコキシド類、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基類、有機アルミニウム化合物、有機スズ化合物等の有機金属類等を使用する反応(有機金属反応)の反応用溶剤として好ましく用いることができる。
【0024】
これらの中でも、本発明の溶剤は、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムアイオダイド、エチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムアイオダイド、イソプロピルマグネシウムブロミド、シクロペンチルマグネシウムブロミド、シクロヘキシルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムアイオダイド、2,4,6−トリメチルフェニルマグネシウムブロミド、2,4,6−トリメチルフェニルマグネシウムアイオダイド等のグリニャール反応剤;メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フェニルリチウム等の有機リチウム類;リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド等のリチウムアミド類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、リチウムアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等の金属水素化物;等を求核剤として用いる反応の反応用溶剤として用いるのがより好ましい。
【0025】
本発明の溶剤は、式:RbMgXbで表されるグリニャール試薬と式:RcCHOで表されるアルデヒド類とを反応させて、式:(Rb)(Rc)CHOHで表される第2級アルコールを得る反応、及び式:RbMgXbで表されるグリニャール試薬と式:RdReC(=O)で表されるケトン化合物とを反応させて、式:(Rb)(Rd)(Re)COHで表される第3級アルコールを得る反応の反応溶剤として用いるのが特に好ましい。
【0026】
前記式中、Rb,Rc,Rd及びReは、それぞれ独立して炭化水素基を表す。また、RdとReは一緒になって結合して、炭素数3〜8の炭素環を形成してもよく、該炭素環は、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。
【0027】
前記炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基等が挙げられる。炭化水素基に含まれる炭素原子の数に特に制限はなく、通常1〜30、好ましくは1〜20である。ここで、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基等の鎖状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の環状アルキル基;等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル、3−ブテニル基、ブタジエニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1,3−ペンタジエニル基、2,4−ペンタジエニル基等が挙げられる。アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロパルギル基、2−ブチニル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、5−ピリジル基、2−フリル基、3−フリル基、2−チエニル基、3−チエニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
【0028】
これらの炭化水素基は、任意の位置に、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ジアルキルアミノ基、ジアルキルスルファモイル基、ジアルキルホスホリル基等の置換基で置換されていてもよい。また、複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。
また、Xbは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を表す。
【0029】
本発明の溶剤の使用量は特に制限されないが、用いる反応物質の合計量1重量部に対して、通常0.001〜1000重量部、好ましくは0.01〜100重量部の範囲である。本発明の溶剤を用いる反応は、通常−100℃から本発明の溶剤の沸点までの温度範囲で行なわれる。
【0030】
本発明の溶剤は反応選択性に優れる。例えば、THF等の他のエーテル系溶剤を使用して、グリニャール試薬とエノール化し易いケトンとを反応させると、ケトンの自己アルドール反応が優先するが、本発明の反応用溶剤を使用することにより、目的とするアルコールを収率よく得ることができる。
【0031】
また、シクロペンチルメチルエーテルは水とほとんど相溶しない性質を有する。このものは水と共沸混合物を形成するが、分離性がよいので、水と分離することが容易である。従って、本発明の溶剤を使用して反応を行なった後、該溶剤を反応液から容易かつ効率よく回収することができる。例えば、本発明の溶剤を使用した反応液に、水(又は酸水溶液)を添加して反応を停止させた後、反応液を水層と有機層とに分離し、有機層から反応用溶剤を除去した後、残留物を蒸留法やカラムクロマトグラフィー法等の公知の精製法により精製することにより、容易に目的物を単離することができる。
【0032】
さらに、本発明の溶剤は適度な沸点を有するので、反応処理液から効率よく回収することができる。回収した反応用溶剤は必要に応じて精製を行なうことにより、再度反応用溶剤として使用することができる。
【実施例】
【0033】
次に、実施例及び比較例により本発明を更に詳細に説明する。本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。なお、以下の例中の部は、特に断りのない限り、重量基準である。また、以下においては、シクロペンチルメチルエーテルを「CPME」と略記する。
【0034】
ガスクロマトグラフィーによる分析は、特に断りが無い限り、次の条件で行なった。
分析機器:Hitachi GC390
カラム:Neutrabond Capillary Column 60×ID0.25φ(1.5μ mdf、GLサイエンス社製)
カラム温度:50℃(10min)、100℃→300℃(20℃/min)
注入口温度:200℃
検出器温度:300℃
キャリアーガス:N2
検出器:FID
注入量:1μL
【0035】
実施例1 CPMEを反応溶剤として用いるα,α−ジメチルベンジルアルコールの製造
1Mのフェニルマグネシウムブロミド(PhMgBr)のTHF溶液45ml(0.045mol)を窒素置換したフラスコ内に入れ、0℃で30分間撹拌した。次いで、アセトン1.74g(0.03mol)をCPME50mlに溶解した溶液を0℃でゆっくりと滴下した。反応混合物を0℃で1時間撹拌した後、反応温度を50℃に上昇させて1時間さらに撹拌した。反応液を室温に冷却し、1規定の塩酸水溶液20mlを添加して反応を停止させた。反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、目的とするα,α−ジメチルベンジルアルコールが収率70%で得られたことが分かった。
【0036】
実施例2 CPMEを反応溶剤として用いる1−ヒドロキシ−1−フェニルシクロペンタン及びフェニルシクロペンテンの製造
アセトン1.74gをシクロペンタノン2.5g(0.03mol)に代えた以外は、実施例1と同様にして実験を行なった。得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、1−ヒドロキシ−1−フェニルシクロペンタン及びフェニルシクロペンテンが合計で収率90%で得られたことが分かった。
【0037】
実施例3 CPMEを反応溶剤として用いる2−メシチル−2−プロパノ−ル及びα−メチル−2,4,6−トリメチルスチレンの製造
1MのフェニルマグネシウムブロミドのTHF溶液45mlに代えて、1Mの2,4,6−トリメチルフェニルマグネシウムブロミドのCPME溶液45ml(0.045mol)を用いた以外は、実施例1と同様にして実験を行なった。得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、2−メシチル−2−プロパノールが収率81.9%、α−メチル−2,4,6−トリメチルスチレンが収率1.6%でそれぞれ得られたことが分かった。
【0038】
実施例4 CPME及びTHFの混合溶剤を反応溶剤として用いる2−メシチル−2−プロパノール及びα−メチル−2,4,6−トリメチルスチレンの製造
反応用溶剤として、CPME50mlに代えて、CPME及びTHFの混合溶剤(1:1(容量比))を用いた以外は、実施例3と同様にして実験を行なった。得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、2−メシチル−2−プロパノールが収率66.8%、α−メチル−2,4,6−トリメチルスチレンが収率14.7%でそれぞれ得られたことが分かった。
【0039】
比較例1 THFを反応溶剤として用いるα,α−ジメチルベンジルアルコールの合成
反応用溶剤として、CPME50mlをTHF50mlに代えた以外は、実施例1と同様にして実験を行なった。得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、目的化合物は40%の収率でしか得られなかった。
【0040】
比較例2 THFを反応溶剤として用いる1−ヒドロキシ−1−フェニルシクロペンタン及びフェニルシクロペンテンの製造
反応用溶剤として、CPME50mlをTHF50mlに代えた以外は、実施例2と同様にして実験を行なった。得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、1−ヒドロキシ−1−フェニルシクロペンタン及びフェニルシクロペンテンが収率85%で得られたことが分かった。
【0041】
比較例3 THFを反応溶剤として用いる2−メシチル−2−プロパノール及びα−メチル−2,4,6−トリメチルスチレンの製造
反応用溶剤として、CPME50mlをTHF50mlに代えた以外は、実施例3と同様に実験を行なった。得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、2−メシチル−2−プロパノールが収率44.6%、α−メチル−2,4,6−トリメチルスチレンが収率33.1%でそれぞれ得られたことが分かった。
【0042】
実施例1〜4及び比較例1〜3の結果から、本発明の溶剤を使用することで目的物を高収率で得ることができたことがわかった。
【0043】
【発明の効果】
本発明によれば、シクロペンチルメチルエーテルを含有する溶剤を反応溶剤として用いているため、目的物を良好な収率で得ることができ、しかも、抽出作業効率及び使用後の溶剤の回収性に優れるという効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の製造方法を実施するための反応装置の模式図である。
第2図は、本発明の製造方法を実施するための反応装置の模式図である。
第3図は、本発明の製造方法を実施するための反応装置と蒸留装置を組み合わせた装置の模式図である。
Claims (2)
- シクロペンチルメチルエーテルを反応溶剤として用いて、式:(Rb)MgXb(式中、Rbはアリール基を表し、Xbはハロゲン原子を表す。)で表されるグリニャール試薬と、式:(Rd)(Re)C(=O)(式中、Rd、Reはそれぞれ独立してアルキル基を表す。)で表されるケトンを反応させることを特徴とする、式:(Rb)(Rd)(Re)COH(式中、Rb、Rd、Reは前記と同じ意味を表す。)で表される第3級アルコールの製造方法。
- 前記反応溶剤が、水分含有量が100ppm以下のものである請求項1に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001196766 | 2001-06-28 | ||
JP2001196766 | 2001-06-28 | ||
JP2001332009 | 2001-10-30 | ||
JP2001332009 | 2001-10-30 | ||
JP2001377483 | 2001-12-11 | ||
JP2001377483 | 2001-12-11 | ||
JP2002094269 | 2002-03-29 | ||
JP2002094269 | 2002-03-29 | ||
JP2002123832 | 2002-04-25 | ||
JP2002123832 | 2002-04-25 | ||
PCT/JP2002/006501 WO2003002500A1 (fr) | 2001-06-28 | 2002-06-27 | Solvants contenant des cycloalkyl alkyl ethers et procede de production de ces ethers |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008010964A Division JP4178483B2 (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法 |
JP2008010967A Division JP2008156367A (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロペンチルメチルエーテルの回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2003002500A1 JPWO2003002500A1 (ja) | 2004-10-14 |
JP4140523B2 true JP4140523B2 (ja) | 2008-08-27 |
Family
ID=27531941
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003508685A Expired - Fee Related JP4140523B2 (ja) | 2001-06-28 | 2002-06-27 | 有機金属反応方法 |
JP2008010967A Pending JP2008156367A (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロペンチルメチルエーテルの回収方法 |
JP2008010964A Expired - Lifetime JP4178483B2 (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008010967A Pending JP2008156367A (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロペンチルメチルエーテルの回収方法 |
JP2008010964A Expired - Lifetime JP4178483B2 (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7494962B2 (ja) |
EP (2) | EP1405840B1 (ja) |
JP (3) | JP4140523B2 (ja) |
KR (4) | KR20040012990A (ja) |
CN (1) | CN100509734C (ja) |
IN (1) | IN2003KO01661A (ja) |
WO (1) | WO2003002500A1 (ja) |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040012990A (ko) * | 2001-06-28 | 2004-02-11 | 제온 코포레이션 | 시클로알킬 알킬 에테르 화합물을 함유하여 이루어지는용제 및 시클로알킬 알킬 에테르 화합물의 제조방법 |
JPWO2004046075A1 (ja) * | 2002-11-20 | 2006-03-16 | 日本ゼオン株式会社 | シクロアルキルエーテル化合物を含有してなる結晶化用溶剤及び該溶剤を用いる結晶化方法 |
US7384667B2 (en) * | 2003-01-30 | 2008-06-10 | Alberto Blanco | System and method for producing simulated oil paintings |
JP2004292358A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Nippon Zeon Co Ltd | シクロアルキルアルキルエーテルの製造方法 |
JP2004292756A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Nippon Zeon Co Ltd | プライマー組成物 |
JP2004300076A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nippon Zeon Co Ltd | シクロアルキルアルキルエーテルの製造方法 |
WO2005089480A2 (en) | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Stuart Arthur Bateman | Activation method |
JP4386192B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2009-12-16 | 日本ゼオン株式会社 | フルオロカーボン膜用洗浄剤 |
ATE460466T1 (de) * | 2005-01-21 | 2010-03-15 | Commw Scient Ind Res Org | Aktivierungsverfahren mithilfe eines modifikationsmittels |
JP4609642B2 (ja) * | 2005-01-31 | 2011-01-12 | 日本ゼオン株式会社 | シクロアルキルアルキルエーテルの製造方法 |
JP2006282558A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Nippon Zeon Co Ltd | シクロアルキルアルキルエーテルの製造方法 |
US20070251551A1 (en) * | 2005-04-15 | 2007-11-01 | Korzenski Michael B | Removal of high-dose ion-implanted photoresist using self-assembled monolayers in solvent systems |
JP2007022921A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Tosoh Finechem Corp | メチルリチウム溶液およびその製造方法 |
DE102005053553A1 (de) * | 2005-11-08 | 2007-05-16 | Heraeus Gmbh W C | Lotpasten mit harzfreien Flussmittel |
JP2007145747A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Nippon Zeon Co Ltd | 有機溶剤の分別回収方法 |
DE102007026763A1 (de) * | 2007-06-09 | 2009-01-15 | Saltigo Gmbh | Verfahren zur Herstellung substituierter Heteroaromaten |
US8563110B2 (en) * | 2008-09-12 | 2013-10-22 | Brigham Young University | Optical data media containing an ultraviolet protection layer |
JP5437671B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2014-03-12 | 株式会社日本触媒 | グリニヤール試薬の製造方法 |
CN102482474B (zh) * | 2009-09-01 | 2015-12-16 | 日本合成化学工业株式会社 | 树脂组合物、使用树脂组合物的多层结构体及其生产方法 |
JP2011190216A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Asahi Glass Co Ltd | (トリフルオロメチル)アルキルケトンの製造方法 |
CN101864525A (zh) * | 2010-04-27 | 2010-10-20 | 中国神华能源股份有限公司 | 一种由粉煤灰提取镓的方法 |
CN101838738A (zh) * | 2010-04-27 | 2010-09-22 | 中国神华能源股份有限公司 | 一种由粉煤灰提取镓的方法 |
US20120101306A1 (en) * | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Basf Se | Process for the preparation of 1-methylcyclopentane derivatives |
US20120101307A1 (en) * | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Basf Se | Process for the preparation of 1-methyl-1-alkoxycyclopentanes |
JP2012106968A (ja) * | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Agc Seimi Chemical Co Ltd | フルオロブタジエン化合物の製造方法 |
JP2014507272A (ja) * | 2011-01-28 | 2014-03-27 | ウェムス,インコーポレイティド | 溶剤精製のための方法およびシステム |
CN102500570A (zh) * | 2011-11-01 | 2012-06-20 | 宁波市鑫友光伏有限公司 | 太阳能电池硅片清洗方法 |
CA2856196C (en) | 2011-12-06 | 2020-09-01 | Masco Corporation Of Indiana | Ozone distribution in a faucet |
CN104203890A (zh) * | 2012-03-27 | 2014-12-10 | 株式会社可乐丽 | 3-烷氧基-3-甲基-1-丁醇的制造方法 |
KR102190665B1 (ko) * | 2013-03-29 | 2020-12-14 | 제온 코포레이션 | 시클로알킬알킬에테르 화합물의 제조 방법 |
CN104370685A (zh) * | 2014-10-20 | 2015-02-25 | 哈尔滨工业大学(威海) | 一种绿色合成四甲基联苯异构体化合物的方法 |
CN105481660B (zh) * | 2015-12-01 | 2017-09-26 | 浙江阿尔法化工科技有限公司 | 一种环戊基甲醚的连续化生产系统及合成方法 |
CN115093008B (zh) | 2015-12-21 | 2024-05-14 | 德尔塔阀门公司 | 包括消毒装置的流体输送系统 |
CN108368016B (zh) * | 2015-12-28 | 2023-09-26 | 日本瑞翁株式会社 | 环戊基烷基醚化合物的制造方法 |
TWI764923B (zh) | 2016-09-02 | 2022-05-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 溶液、溶液收容體、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、圖案形成方法、半導體裝置的製造方法 |
JP7090346B2 (ja) | 2017-07-14 | 2022-06-24 | アップコン株式会社 | 木骨造を補修する方法 |
JP6934069B2 (ja) * | 2017-12-21 | 2021-09-08 | オルガノ株式会社 | 非水液状物質の精製方法及びイオン交換樹脂充填カートリッジの作製方法 |
US10370320B2 (en) * | 2017-12-30 | 2019-08-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Purification methods |
CN108753494A (zh) * | 2018-05-08 | 2018-11-06 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 一种lens清洗剂 |
WO2020126345A1 (en) | 2018-12-17 | 2020-06-25 | Arlanxeo Deutschland Gmbh | Process for preparing hnbr solutions with alternative solvents |
RU2722163C1 (ru) * | 2019-01-09 | 2020-05-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный нефтяной технический университет" | Способ получения простых эфиров гем-дихлорциклопропилалканолов |
US11529568B2 (en) * | 2019-03-19 | 2022-12-20 | Imagine Tf, Llc | Layered structures with spacers and channels for separation |
FR3115292B1 (fr) * | 2020-10-16 | 2023-10-27 | Oreal | Concrete et absolue de parfum obtenues par extraction de solvant heterocyclique a partir de matieres naturelles solides |
US20220298083A1 (en) * | 2021-03-15 | 2022-09-22 | McRay Products, LLC | Reaction methods for producing nitrogenous phosphoryl compounds that are in situ fluid compositions |
CN114152691B (zh) * | 2021-11-26 | 2024-01-02 | 黄河三角洲京博化工研究院有限公司 | 一种气相色谱分析环戊烷及萃取剂含量的方法 |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3496223A (en) * | 1966-12-19 | 1970-02-17 | Monsanto Co | Process for preparing phosphonic acids |
US3641159A (en) * | 1969-03-05 | 1972-02-08 | Universal Oil Prod Co | Process for the preparation of organic halides and organic ethers |
US4134924A (en) * | 1977-08-11 | 1979-01-16 | Union Carbide Corporation | Preparation of 2-cyclopentenyl ethers |
NL7803135A (nl) * | 1978-03-23 | 1979-09-25 | Shell Int Research | Werkwijze ter bereiding van tertiaire alkyl- ethers. |
JPS55149219A (en) * | 1979-05-11 | 1980-11-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation process of methyl tertiarybutyl ether |
US4306100A (en) | 1980-06-16 | 1981-12-15 | Standard Oil Company (Indiana) | Process for production of alkenediols |
JPS58118531A (ja) * | 1982-01-06 | 1983-07-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | メチルタ−シヤリ−ブチルエ−テルの製造方法 |
JPS5925345A (ja) | 1982-08-02 | 1984-02-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 第三級エ−テルの製造法 |
US4511488A (en) | 1983-12-05 | 1985-04-16 | Penetone Corporation | D-Limonene based aqueous cleaning compositions |
JPS61249945A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | エ−テルの製造法 |
US4640719A (en) | 1985-07-01 | 1987-02-03 | Petroleum Fermentations N.V. | Method for printed circuit board and/or printed wiring board cleaning |
US4762826A (en) * | 1986-04-11 | 1988-08-09 | Ciba-Geigy Corporation | Microbicides |
JPS62246590A (ja) * | 1986-04-17 | 1987-10-27 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ジチオフエノレ−ト系錯体及び同錯体を含有する光学記録媒体 |
US5192728A (en) * | 1988-06-24 | 1993-03-09 | Mobil Oil Corporation | Tin-colating microporous crystalline materials and their use as dehydrogenation, dehydrocyclization reforming catalysts |
DE3829142A1 (de) * | 1988-08-27 | 1990-03-01 | Basf Ag | Verfahren zur abtrennung von cyclohexanol |
JP2604632B2 (ja) | 1989-07-31 | 1997-04-30 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
US5210205A (en) * | 1989-12-21 | 1993-05-11 | Ciba-Geigy Corporation | Pesticidal compositions |
JP2890603B2 (ja) * | 1990-02-16 | 1999-05-17 | 日本油脂株式会社 | 不飽和カルボン酸ジエステルの製造方法 |
JP3126190B2 (ja) | 1991-12-16 | 2001-01-22 | 三井化学株式会社 | エーテル類の製造方法 |
JPH0794677B2 (ja) | 1992-06-18 | 1995-10-11 | 東京電線工業株式会社 | 洗浄剤 |
US5338347A (en) * | 1992-09-11 | 1994-08-16 | The Lubrizol Corporation | Corrosion inhibition composition |
US5529874A (en) * | 1993-05-07 | 1996-06-25 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Liquid developer for electrophotography |
JP2814896B2 (ja) * | 1993-10-25 | 1998-10-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電写真用液体現像剤 |
GB2281909B (en) * | 1993-09-21 | 1997-06-04 | Asahi Chemical Ind | Propylene glycol cyclohexyl ether derivatives, method of producing same and uses thereof |
DE4400464A1 (de) * | 1994-01-11 | 1995-07-13 | Bayer Ag | Endoparasitizide Mittel |
GB9406423D0 (en) | 1994-03-31 | 1994-05-25 | Ici Plc | Solvent extraction process |
US5444168A (en) * | 1994-05-16 | 1995-08-22 | Mobil Oil Corporation | Process for the production of symmetrical ethers from secondary alcohols |
JP2961304B2 (ja) * | 1996-10-08 | 1999-10-12 | 花王株式会社 | エポキシ樹脂の剥離剤組成物 |
KR20000064961A (ko) * | 1997-02-26 | 2000-11-06 | 사이카와 겐조오 | 3불화붕소 착체의 회수방법 및 그것을 이용한 올레핀 올리고머의 제조방법 |
JPH10316598A (ja) * | 1997-05-16 | 1998-12-02 | Nippon Zeon Co Ltd | 弗素化炭化水素並びに洗浄剤と洗浄方法 |
DE69840266D1 (de) * | 1997-05-16 | 2009-01-08 | Nippon Zeon Co | Polymer enthaltende flüssigkeit und verfahren zur herstellung eines polymerfilms |
JPH11217526A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像表示用記録液 |
JPH11228478A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-24 | Mitsubishi Chemical Corp | ジメチロールアルカナールの製造方法 |
JP2001261592A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Nippon Zeon Co Ltd | 高純度シクロペンテン、その製造方法及びそれを用いるシクロペンタノールの製造方法 |
JP2002167347A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Nippon Zeon Co Ltd | ジシクロペンチルエーテルの製造方法 |
KR20040012990A (ko) * | 2001-06-28 | 2004-02-11 | 제온 코포레이션 | 시클로알킬 알킬 에테르 화합물을 함유하여 이루어지는용제 및 시클로알킬 알킬 에테르 화합물의 제조방법 |
-
2002
- 2002-06-27 KR KR20037017037A patent/KR20040012990A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-06-27 WO PCT/JP2002/006501 patent/WO2003002500A1/ja active Application Filing
- 2002-06-27 KR KR1020097015801A patent/KR100970133B1/ko active IP Right Grant
- 2002-06-27 KR KR1020087012008A patent/KR20080049149A/ko unknown
- 2002-06-27 CN CNB028161548A patent/CN100509734C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 EP EP02738825.5A patent/EP1405840B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 JP JP2003508685A patent/JP4140523B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-27 KR KR1020087012008A patent/KR100995840B1/ko active IP Right Grant
- 2002-06-27 US US10/481,340 patent/US7494962B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 EP EP10189460.8A patent/EP2279995B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-12-23 IN IN1661KO2003 patent/IN2003KO01661A/en unknown
-
2008
- 2008-01-21 JP JP2008010967A patent/JP2008156367A/ja active Pending
- 2008-01-21 JP JP2008010964A patent/JP4178483B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2008-08-12 US US12/222,572 patent/US8017813B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2003002500A1 (fr) | 2003-01-09 |
JP2008179638A (ja) | 2008-08-07 |
JPWO2003002500A1 (ja) | 2004-10-14 |
EP2279995A3 (en) | 2012-01-11 |
CN100509734C (zh) | 2009-07-08 |
JP2008156367A (ja) | 2008-07-10 |
KR100970133B1 (ko) | 2010-07-14 |
EP2279995A2 (en) | 2011-02-02 |
US7494962B2 (en) | 2009-02-24 |
CN1543449A (zh) | 2004-11-03 |
KR20040012990A (ko) | 2004-02-11 |
EP1405840A1 (en) | 2004-04-07 |
KR20080049149A (ko) | 2008-06-03 |
EP1405840B1 (en) | 2014-08-20 |
US20080312125A1 (en) | 2008-12-18 |
EP1405840A4 (en) | 2006-05-17 |
KR100995840B1 (ko) | 2010-11-23 |
US20050065060A1 (en) | 2005-03-24 |
US8017813B2 (en) | 2011-09-13 |
JP4178483B2 (ja) | 2008-11-12 |
IN2003KO01661A (ja) | 2006-03-17 |
EP2279995B1 (en) | 2013-09-18 |
KR20090085711A (ko) | 2009-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4140523B2 (ja) | 有機金属反応方法 | |
Westerhausen et al. | Heavy Grignard reagents: synthesis, physical and structural properties, chemical behavior, and reactivity | |
Wang et al. | Difluoromethylation of O‐, S‐, N‐, C‐nucleophiles using difluoromethyltri (n‐butyl) ammonium chloride as a new difluorocarbene source | |
US12065422B2 (en) | Reagents and process for direct C—H functionalization | |
Brown et al. | Hydroboration. 54. New general synthesis of alkyldihaloboranes via hydroboration of alkenes with dihaloborane-dimethyl sulfide complexes. Unusual trends in the reactivities and directive effects | |
EP3177630B1 (en) | Silylation of aromatic heterocycles by earth abundant transition-metal-free catalysts | |
US6803477B2 (en) | Magnesium mediated preparation of fluorinated alkyl silanes | |
JPS59118780A (ja) | フルフリルアルコ−ル類の製造方法 | |
CN110272366A (zh) | 二芳基硒化物的合成方法 | |
CN102791661B (zh) | 二氟环丙烷化合物的制造方法 | |
JP4922181B2 (ja) | 1,2,2,2−テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造のための方法 | |
WO2008075672A1 (ja) | トリス(パーフルオロアルカンスルホニル)メチド酸塩の製造方法 | |
AU2005330829B2 (en) | Silicon-containing reagent for crosscoupling reaction and process for producing organic compound with the same | |
Yus et al. | Lithiophenylalkyllithiums: new dilithium reagents having both sp2-and sp3-hybridised remote carbanionic centres | |
Cheng et al. | Chemistry of Difluorocarbene: Synthesis and Conversion of Difluoro (methylene) cyclopropanes | |
JP7026361B2 (ja) | モノヒドロペルフルオロアルカンを出発原料としたペルフルオロアルキル化剤の新規製造法、及びそれらを用いた芳香族ペルフルオロアルキル化合物の製造方法 | |
RU2807921C1 (ru) | Способ получения фторалкилсодержащих трибутилстаннанов | |
CN102001902A (zh) | 一种利用1,1-二溴代乙烯基化合物合成端炔的方法 | |
Ohtani et al. | Thiocyanation of alkyl halides with alkyl thiocyanates in the presence of quaternary phosphonium halides | |
WO2001068254A1 (fr) | Catalyseur au plomb chiral et procede de reaction aldol asymetrique | |
Hansson et al. | Stereoselective solvent induced 1, 3-proton transfer of an allylic alkoxide to a homoallylic alkoxide catalysed by a chiral lithium amide | |
Petrov | Chemistry of new polyfluorinated oxiranyl anions and epoxy silanes | |
Ortiz-Trankina | Investigating benign syntheses via mechanochemistry | |
Kirij et al. | Insight into the reactions of trifluorovinylsilanes with aromatic aldehydes | |
JPS58164536A (ja) | 化合物1−デシロキシ−4−〔(7−オキサ−4−オクチニル)オキシ〕ベンゼンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050309 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080121 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080307 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080520 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080602 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110620 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4140523 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130620 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130620 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140620 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |