JP2008179638A - シクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)式:R1−O−R2(式中、R1はシクロペンチル基等を表し、R2は炭素数1〜10のアルキル基等を表す。)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物(1)の少なくとも1種を含有してなる溶剤、及び(B)含水量が5重量%以下の酸性イオン交換樹脂の存在下に、脂環式オレフィンとアルコール類とを反応させることを特徴とするシクロアルキルアルキルエーテル化合物(1)の製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明の第2によれば、水含有量が5重量%以下の酸性イオン交換樹脂の存在下に、シクロペンテンとメタノールとを、気体状態で反応させることを特徴とする、シクロペンチルメチルエーテルの製造方法が提供される。
分析機器:Hitachi GC390
カラム:Neutrabond Capillary Column 60×I
D0.25φ(1.5μ mdf、GLサイエンス社製)
カラム温度:50℃(10min)、100℃→300℃(20℃/min)
注入口温度:200℃
検出器温度:300℃
キャリアーガス:N2
検出器:FID
注入量:1μL
市販のスチレン系酸性イオン交換樹脂(三菱化学(株)製、商品名:RCP145、含水量46重量%)10gを乾燥機に入れ、常圧下、温度105℃付近で10時間乾燥した後、デシケーターに入れ、室温で2週間さらに乾燥した。この乾燥した酸性イオン交換樹脂の含水量をカールフィッシャー電量滴定法で測定したところ、3.0重量%であった。
上記で得た乾燥酸性イオン交換樹脂を、直径1インチ(2.54cm)、長さが40cmの反応管に詰めて、100℃で乾燥窒素ガスを5時間流通した後、室温に戻した。得られた乾燥酸性イオン交換樹脂の含水量をカールフィッシャー電量滴定法で測定したところ、水分は1.5重量%であった。このようにして得た酸性イオン交換樹脂(以下、「乾燥酸性イオン交換樹脂」という。)を反応に使用した。
参考例1において、乾燥酸性イオン交換樹脂に代えて、含水量46重量%の酸性イオン交換樹脂(三菱化学(株)製、商品名:RCP145)を使用した以外は参考例1と同様に反応を行なった。反応液をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、シクロペンチルメチルエーテルは転化率0.4%でしか得られていなかった。
ステンレス製の密閉可能な反応容器(内容積200ml)に、シクロペンテン3.4g(0.05モル)、メタノール32g(1.0モル)及び合成ゼオライト系触媒(モービル社製、商品名:ZSM−5)3.0gを入れ、反応容器を密閉し、120℃、反応容器内の圧力1.0MPaで、6〜8時間内容物を撹拌した。反応液をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、シクロペンチルメチルエーテルが転化率0.07%でしか得られていなかった。参考例1と同様に精製を試みたが、シクロペンチルメチルエーテルの生成量が微量であるため、単離することができなかった。
製造例1と同様にして、種々の酸性イオン交換樹脂A1〜G1を乾燥して、乾燥酸性イオン交換樹脂A2〜G2をそれぞれ得た。得られた乾燥酸性イオン交換樹脂の含水量を測定したところ、第1表に示すようにすべて1.5重量%以下であった。
酸性イオン交換樹脂A1:SPC108(バイエル社製)
酸性イオン交換樹脂B1:SPC118(バイエル社製)
酸性イオン交換樹脂C1:PK208LH(三菱化学(株)製)
酸性イオン交換樹脂D1:PK216LH(三菱化学(株)製)
酸性イオン交換樹脂E1:PK228LH(三菱化学(株)製)
酸性イオン交換樹脂F1:Amberlyst15(オルガノ(株)製)
酸性イオン交換樹脂G1:RCP145(三菱化学(株)製)
また、以下においては、酸性イオン交換樹脂A1を乾燥したものを乾燥酸性イオン交換樹脂A2とする(B2〜G2も同様である)。
実施例1〜7は、第1図(b)に示す反応装置を使用して行なった。直径2.54cm(1インチ)、長さ40cmのSUS製の反応カラム3b、3cに、上記で得られた乾燥酸性イオン交換樹脂A2〜G2をそれぞれ充填し(充填量約80ml)、カラム3b、3cのそれぞれの全体を90℃に保温した。
実施例1〜7において、乾燥酸性イオン交換樹脂A2〜G2に代えて、含水量40〜70重量%の酸性イオン交換樹脂A1〜G1を使用する以外は、実施例1〜7と同様に反応を行なった。用いた酸性イオン交換樹脂の種類、メタノールの転化率及び反応選択率を第1表にまとめた。シクロペンチルメチルエーテルは、生成量が微量であるため、単離することができなかった。
Claims (18)
- 式(1):R1−O−R2(式中、R1は置換基を有していてもよいシクロペンチル基または置換基を有していてもよいシクロヘキシル基を表し、R2は置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数3〜8のシクロアルキル基を表す。)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる溶剤。
- 式(2):R1−O−R3(式中、R1は前記と同じ意味を表し、R3は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数3〜8のシクロアルキル基を表す。)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる溶剤。
- 式(3):R4−O−R3(式中、R4はシクロペンチル基を表し、R3は前記と同じ意味を表す。)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる溶剤。
- 前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる洗浄用溶剤。
- 前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる反応用溶剤。
- 前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる有機金属反応用溶剤。
- 前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなるグリニャール反応用溶剤。
- 前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる抽出用溶剤。
- 前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる電子・電気材料用溶剤。
- 前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の少なくとも1種を含有してなる剥離用溶剤。
- 水分含有量が100ppm以下である請求項1〜10のいずれかに記載の溶剤。
- 酸化防止剤をさらに含有する請求項1〜10のいずれかに記載の溶剤。
- 請求項1〜3、5、6、11または12のいずれかに記載の溶剤を用いることを特徴とする有機金属反応方法。
- 請求項1〜3、5、7、11または12のいずれかに記載の溶剤を用いることを特徴とするグリニャール反応方法。
- 請求項1〜3、8、11または12のいずれかに記載の溶剤を用いることを特徴とする有機化合物の抽出方法。
- 請求項1〜4、11または12のいずれかに記載の溶剤を用いることを特徴とする物品の洗浄方法。
- 請求項1〜3、9、10、11または12のいずれかに記載の溶剤を用いることを特徴とする電子・電気材料用部品の製造方法。
- 含水量が5重量%以下の酸性イオン交換樹脂の存在下に、脂環式オレフィンとアルコール類とを反応させることを特徴とする、前記式(1)、式(2)または式(3)で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008010964A JP4178483B2 (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001196766 | 2001-06-28 | ||
JP2001332009 | 2001-10-30 | ||
JP2001377483 | 2001-12-11 | ||
JP2002094269 | 2002-03-29 | ||
JP2002123832 | 2002-04-25 | ||
JP2008010964A JP4178483B2 (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003508685A Division JP4140523B2 (ja) | 2001-06-28 | 2002-06-27 | 有機金属反応方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008179638A true JP2008179638A (ja) | 2008-08-07 |
JP4178483B2 JP4178483B2 (ja) | 2008-11-12 |
Family
ID=27531941
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003508685A Expired - Fee Related JP4140523B2 (ja) | 2001-06-28 | 2002-06-27 | 有機金属反応方法 |
JP2008010967A Pending JP2008156367A (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロペンチルメチルエーテルの回収方法 |
JP2008010964A Expired - Lifetime JP4178483B2 (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロアルキルアルキルエーテル化合物の製造方法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003508685A Expired - Fee Related JP4140523B2 (ja) | 2001-06-28 | 2002-06-27 | 有機金属反応方法 |
JP2008010967A Pending JP2008156367A (ja) | 2001-06-28 | 2008-01-21 | シクロペンチルメチルエーテルの回収方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7494962B2 (ja) |
EP (2) | EP2279995B1 (ja) |
JP (3) | JP4140523B2 (ja) |
KR (4) | KR20040012990A (ja) |
CN (1) | CN100509734C (ja) |
IN (1) | IN2003KO01661A (ja) |
WO (1) | WO2003002500A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2002
- 2002-06-27 US US10/481,340 patent/US7494962B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 KR KR20037017037A patent/KR20040012990A/ko not_active Ceased
- 2002-06-27 CN CNB028161548A patent/CN100509734C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 JP JP2003508685A patent/JP4140523B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-27 KR KR1020097015801A patent/KR100970133B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 KR KR1020087012008A patent/KR100995840B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 EP EP10189460.8A patent/EP2279995B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 EP EP02738825.5A patent/EP1405840B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 KR KR1020087012008A patent/KR20080049149A/ko not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-27 WO PCT/JP2002/006501 patent/WO2003002500A1/ja active Application Filing
-
2003
- 2003-12-23 IN IN1661KO2003 patent/IN2003KO01661A/en unknown
-
2008
- 2008-01-21 JP JP2008010967A patent/JP2008156367A/ja active Pending
- 2008-01-21 JP JP2008010964A patent/JP4178483B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2008-08-12 US US12/222,572 patent/US8017813B2/en not_active Expired - Lifetime
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KR20080049149A (ko) | 2008-06-03 |
IN2003KO01661A (ja) | 2006-03-17 |
CN1543449A (zh) | 2004-11-03 |
JP2008156367A (ja) | 2008-07-10 |
EP1405840A1 (en) | 2004-04-07 |
JP4178483B2 (ja) | 2008-11-12 |
JP4140523B2 (ja) | 2008-08-27 |
KR20090085711A (ko) | 2009-08-07 |
EP1405840A4 (en) | 2006-05-17 |
US20080312125A1 (en) | 2008-12-18 |
EP2279995A2 (en) | 2011-02-02 |
EP1405840B1 (en) | 2014-08-20 |
US7494962B2 (en) | 2009-02-24 |
EP2279995A3 (en) | 2012-01-11 |
KR100970133B1 (ko) | 2010-07-14 |
JPWO2003002500A1 (ja) | 2004-10-14 |
CN100509734C (zh) | 2009-07-08 |
EP2279995B1 (en) | 2013-09-18 |
US8017813B2 (en) | 2011-09-13 |
US20050065060A1 (en) | 2005-03-24 |
WO2003002500A1 (fr) | 2003-01-09 |
KR100995840B1 (ko) | 2010-11-23 |
KR20040012990A (ko) | 2004-02-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080731 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080813 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4178483 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130905 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |