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JP4019480B2 - 無水アンチモン酸亜鉛の製造方法 - Google Patents

無水アンチモン酸亜鉛の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛の製造方法に関する。本願発明の無水アンチモン酸亜鉛はプラスチックスやガラスなどの帯電防止剤、紫外線吸収剤、熱線吸収剤、センサーなど種々の用途に用いられる。
【0002】
【従来の技術】
特開平3−267143号公報には塩基性炭酸亜鉛と五酸化アンチモンの酸性水性ゾルをZnO/Sb25モル比が0.5〜10になるように混合して均一スラリーとし、50〜100℃でCO3/ZnOモル比が1/5から1/500になるまでスラリー中の塩基性炭酸塩に脱炭酸反応を起こさせた後、このスラリーを150〜250℃で乾燥して得た五酸化アンチモンと酸化亜鉛から成る組成物が記載されている。
【0003】
また特開平6−219743号公報には、亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンを0.8〜1.2のZnO/Sb25モル比で混合した後、500〜680℃で焼成することにより5〜500nmの一次粒子径を有し、しかも0.1kΩ〜1MΩの導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛を製造する方法が記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
特開平3−267143号公報には脱臭剤及びその製造方法が開示されているが、五酸化アンチモンと塩基性炭酸亜鉛を混合しても、焼成温度が50〜100℃と低いために生成物はX線回折測定では五酸化アンチモンのピークを示し、無水アンチモン酸亜鉛のピークは認められない。
【0005】
また特開平6−219743号公報では、500〜680℃で焼成することにより導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛を製造している。
本願発明は、導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛の製造方法の改良に関する。更には、亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンを混合した後の焼成工程での雰囲気調整を行うことにより、比較的低温で導電性の無水アンチモン酸亜鉛の製造が可能となり、装置的にもエネルギー的にも有利であるだけでなく、焼成温度が低いことから小粒子の焼結による粗大粒子の発生もない製造方法を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本願発明は第一観点として、0.8〜1.2のZnO/Sb25モル比に亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンを混合した後、0.05〜2の(水蒸気の分圧)/(ガスの分圧)の分圧比に水蒸気を混合したガス中で、300〜680℃で焼成する事を特徴とする、0.8〜1.2のZnO/Sb25モル比と5〜100nmの一次粒子径を有する導電性無水アンチモン酸亜鉛の製造方法である。
【0007】
第2観点として、焼成温度が350℃以上500℃未満である第1観点に記載の製造方法である。
第3観点として、導電性無水アンチモン酸亜鉛の一次粒子径が5〜50nmである第1観点又は第2観点に記載の製造方法である。
第4観点として、ガスが、空気又は窒素である第1観点乃至第3観点のいずれか一つに記載の製造方法である。
【0008】
【発明の実施の形態】
本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛の製造法では、コロイダル酸化アンチモンが酸化アンチモンゾルである場合は、酸化アンチモンゾルと亜鉛化合物を混合し、更に乾燥した後、300〜680℃で焼成する事により製造することができる。
【0009】
本願発明の亜鉛化合物は、水酸化亜鉛、酸化亜鉛、亜鉛の無機酸塩及び亜鉛の有機酸塩からなる群より選ばれた少なくとも1種の亜鉛化合物である。
亜鉛の無機酸塩としては、炭酸亜鉛、塩基性炭酸亜鉛、硝酸亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛等が挙げられる。また、亜鉛の有機酸塩としては、ギ酸亜鉛、酢酸亜鉛、シュウ酸亜鉛等が挙げられる。これらの亜鉛化合物は工業薬品として市販されている物を用いることができるが、水酸化亜鉛や酸化亜鉛を用いる場合は、一次粒子径が100nm以下のものが好ましい。特に焼成により揮散する酸を持った塩、すなわち炭酸塩、有機酸塩が好ましく、これらは一種または数種混合して使用することができる。
【0010】
本願発明において使用するコロイダル酸化アンチモンは一次粒子径が100nm以下の酸化アンチモンであり、五酸化アンチモンゾル、十三酸化六アンチモンゾル、水和四酸化アンチモンゾル、コロイド状三酸化アンチモンなどがある。五酸化アンチモンゾルは公知の方法、例えば三酸化アンチモンを酸化する方法(特公昭57−11848号公報)、アンチモン酸アルカリをイオン交換樹脂で脱アルカリする方法(米国特許第4110247号明細書)、アンチモン酸ソーダを酸処理する方法(特開昭60ー41536号公報、特開昭62−182116号公報)などにより製造することができる。十三酸化六アンチモンゾルは三酸化アンチモンを酸化する方法(特開昭62−125849号公報)で、また水和四酸化アンチモンゾルも三酸化アンチモンを酸化する方法(特開昭52−21298号公報)で製造することができる。コロイド状三酸化アンチモンは気相法(特公昭61−3292号公報)によって製造することができる。
【0011】
本願発明において使用する酸化アンチモンゾルは、一次粒子径が2〜100nm、好ましくは2〜50nmでアミンやナトリウムのような塩基を含有していない酸性のゾルが特に好ましい。酸化アンチモンゾルは酸化アンチモン(Sb25あるいはSb613あるいはSb24)濃度が1〜60重量%のものを使用できるが、これをスプレードライ、真空乾燥又は、凍結乾燥などの方法により乾燥した酸化アンチモンゾルの乾燥物として使用することもできる。上記コロイダル酸化アンチモンは五酸化アンチモンゾル、五酸化アンチモン粉末、又は超微粒子三酸化アンチモン粉末の形態で工業薬品として市販されているものを使用することができる。
【0012】
原料として用いる酸化アンチモンは、亜鉛化合物と焼成して導電性無水アンチモン酸亜鉛に変化する際に、ごく僅かな粒子径変化を伴う為に、生成物の粒子径範囲よりやや広い粒子径範囲を選択する事が出来る。
本願発明で原料として五酸化アンチモンゾルを使用する場合、例えば、三酸化アンチモンと塩基性炭酸亜鉛を、ZnO/Sb23モル比で0.01〜0.2の割合に水に分散させ、過酸化水素で反応させて得られるZnOをドープさせた五酸化アンチモンのゾルを原料として使用する事が出来る。この時、ドープさせたZnOは最終的に得られた導電性無水アンチモン酸亜鉛の0.8〜1.2のZnO/Sb25モル比に含まれるものである。
【0013】
上記亜鉛化合物と酸化アンチモンゾルの混合はサタケ式攪拌機、ファウドラー型攪拌機、ディスパーなどの装置を用い、混合温度は0℃〜100℃、混合時間は0.1〜30時間で行うことができる。上記亜鉛化合物と酸化アンチモンゾルの乾燥物あるいはコロイド状三酸化アンチモンの混合は乳鉢、V型ミキサー、ヘンシェルミキサー、ボールミルなどの装置により行うことができる。
【0014】
本願発明において、0.8〜1.2のZnO/Sb25モル比に、上記亜鉛化合物と酸化アンチモンゾル或いはその乾燥物又はコロイド状三酸化アンチモンを混合することが好ましい。本願発明において上記亜鉛化合物と酸化アンチモンゾルの混合物(スラリー)の乾燥はスプレードライヤー、ドラムドライヤー、箱型熱風乾燥器、真空乾燥器、凍結乾燥器などにより、300℃以下で行うことができる。またこのスラリーを吸引濾過、遠心濾過、フィルタープレス等で分離し、場合によっては原料からくる可溶性不純物(焼成により揮散しにくいSO4 など)を注水洗浄によって除去し、ウェットケーキとした後、このケーキを上記の箱型熱風乾燥器などにより室温〜300℃で乾燥することもできる。上記乾燥は、装置あるいは操作及び次の焼成温度から考えて300℃以下で行うのが好ましい。
【0015】
本願発明において上記亜鉛化合物と酸化アンチモンゾルの混合物の乾燥物又は、上記亜鉛化合物と酸化アンチモンゾルの乾燥物或いはコロイド状三酸化アンチモンとの混合物を、水蒸気を含有するガス中で、300〜680℃の温度で、好ましくは350以上500℃未満の温度で、最も好ましくは400℃以上500℃未満の温度で、0.5時間〜50時間好ましくは2時間〜20時間で焼成が行われる。導電性が良好で凝集性の少ないゾルを得る点で、400℃以上500℃未満の温度が最も好ましい。
【0016】
ここで水蒸気を混合する温度は、結露防止のため100℃以上で行われる。この焼成によって固相反応により、本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛が得られる。ここで上記ガスは、酸化性ガス、還元性ガス、及び不活性ガスを用いる事が出来、例えば酸化性ガスとしては酸素、空気、窒素と酸素の混合ガス、窒素と空気の混合ガスが、還元性ガスとしては水素、一酸化炭素が、不活性ガスとしては窒素、炭酸ガス、ヘリウム、アルゴンが挙げられる。特に、空気又は窒素を用いる事が好ましい。
【0017】
水蒸気とガスの分圧比は(水蒸気の分圧)/(ガスの分圧)が0.05〜2、好ましくは0.10〜1.0である。ガスと水蒸気の分圧比の制御は、温浴中にガスをバブリングさせて温浴温度で水蒸気分圧を制御する方法、又は100℃以上でガスと水蒸気を直接混合することによりガスと水蒸気の分圧比を制御する方法がある。
【0018】
本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛は、焼成条件などにより濃青色〜濃藍色で、0.1kΩ〜1MΩの抵抗値を示し、電子電導による導電性を有する。また、300kg/cm2でプレス成形した成形体は、1Ω・cm〜10kΩ・cmの比抵抗値を示す。
本願発明の方法により得られた導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛はX線回折測定の結果、ASTM(Index to the X−ray Powder Data File Inorganic)に記載されているアンチモン酸亜鉛{ASTM No.3−0455はZnSb26、No.11−214はZn(SbO3 2}とX線回折ピークが一致し、酸化亜鉛および無水五酸化アンチモンの回折ピークは認められず、ZnSb26構造を有していると判定した。X線回折ピークが、ASTM記載のピーク位置より、低回折角側にあり、オープン構造を有していることが明らかになった。また本願発明の導電性アンチモン酸亜鉛は示差熱分析(DTA−TG)の結果、室温〜1000℃で重量減はなく結晶水のない無水アンチモン酸亜鉛であることを確認した。
【0019】
本願発明の導電性を有するアンチモン酸亜鉛は透過型電子顕微鏡観察の結果、一次粒子径が5〜100nm、特に好ましくは5〜50nmのコロイドレベルの微粒子であることを確認した。ここで一次粒子径とは凝集形態にある粒子の直径ではなく、個々に分離した時の1個の粒子の直径であり、電子顕微鏡観察によって測定する事ができる。
【0020】
本願発明により得られた導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛は、焼成による焼結が著しく小さい為ジェット・オ・マイザー、ピンディスクミル、ボールミルなどの乾式粉砕法により、凝集体粒子であっても容易に2μm以下に粉砕することができる。また本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛を水または有機溶媒中でサンドグラインダー、ボールミル、ホモジナイザー、ディスパー、コロイドミルなどにより湿式粉砕することで容易に水性ゾルまたは有機溶媒ゾルを得ることができる。また本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛は、水中で粉砕や加温することによっても含水塩とはならず無水のままであることを確認した。
【0021】
本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛を湿式粉砕し、水または有機溶媒の無水アンチモン酸亜鉛ゾルとする場合、必要に応じてエチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソブチルアミンなどのアルキルアミン、トリエタノールアミン、モノエタノールアミンなどのアルカノールアミン、エチレンジアミンなどのジアミンおよび乳酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸などのオキシカルボン酸を加えて安定化することができる。有機溶媒としてはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、などのアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブなどのセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類などを用いることができる。上記水性ゾルまたは有機溶媒ゾルでの無水アンチモン酸亜鉛の粒子径は100nm以下である。
【0022】
本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛の製造において、従来法の無水アンチモン酸亜鉛の製造法の様に水分を含まないガス中で焼成する場合は、固相反応が十分に進まず無水アンチモン酸亜鉛を得る為に、比較的高い温度を必要としていた。しかし、680℃の焼成を越えると非導電性の無水アンチモン酸亜鉛となり、また焼成温度が上がれば小粒子は焼結を起こし易くなり粗大粒子が発生する事が予想される。
【0023】
一方、本願発明の方法の様に水蒸気を含有するガス中で焼成する場合は、水蒸気が固相反応の促進剤として働くため、水蒸気が存在するとより低温焼成が可能なため焼成時の粒子同士の焼結を抑制されゾル化が容易になる。特に一次粒子径が5〜50nmの導電性無水アンチモン酸亜鉛の製造において有用であり、それは固相反応が充分進むことで導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛の特有色である濃青色〜濃藍色粉が得られるからである。また低温焼成のためエネルギーコストを安くできる。
【0024】
また、水蒸気を含まない水素等の還元ガスだけでは350℃以上でアンチモン酸亜鉛の酸化アンチモン成分が還元されて金属アンチモンになるので、水素等の還元性ガスを用いる場合でも水蒸気の存在が必要である。一方、水蒸気は酸化物成分の還元反応の抑制剤として働くので、水蒸気が存在すると無水アンチモン酸亜鉛の一部が還元されるのを防ぐことができる。
【0025】
本願発明で得られる無水アンチモン酸亜鉛は、シランカップリング剤等のケイ素含有物質と混合してコーティング組成物を得る事が出来る。
上記のケイ素含有物質は、
一般式(I) (R1a(R3bSi(OR24-(a+b)
(但し、R1及びR3は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、もしくはシアノ基を有する有機基で且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R2は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1、又は2の整数であり、a+bは0、1、又は2の整数である。)及び、一般式(II) 〔(R4cSi(OX)3-c2
(但し、R4は炭素数1〜5のアルキル基を示し、Xは炭素数1〜4のアルキル基又はアシル基を示し、Yはメチレン基又は炭素数2〜20のアルキレン基を示し、cは0又は1の整数である。)で表される有機ケイ素化合物、並びにその加水分解物からなる群より選ばれた少なくとも1種が挙げられる。
【0026】
上記ケイ素含有物質は(R1a(R3bSi(OR24-(a+b)においては、R1とR3が同一の有機基又は異なる有機基である場合や、aとbが同一の整数又は異なる整数である場合の有機ケイ素化合物を含む。上記一般式(I)で示される有機ケイ素化合物は、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラn−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセチキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、αーグリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフェノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3、3、3−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて使用することが出来る。
【0027】
また、一般式(I)の有機ケイ素化合物の加水分解物は、上記一般式(I)の有機ケイ素化合物が加水分解される事により、上記R2の一部又は全部が水素原子に置換された化合物となる。これらの一般式(I)の有機ケイ素化合物の加水分解物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用する事が出来る。
一般式(II)、〔(R4cSi(OX)3-c2Yで表される有機ケイ素化合物は、例えば、メチレンビスメチルジメトキシシラン、エチレンビスエチルジメトキシシラン、プロピレンビスエチルジエトキシシラン、ブチレンビスメチルジエトキシシラン等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて使用することが出来る。
【0028】
また、一般式(II)の有機ケイ素化合物の加水分解物は、上記一般式(II)の有機ケイ素化合物が加水分解される事により、上記Xの一部又は全部が水素原子に置換された化合物となる。これらの一般式(II)の有機ケイ素化合物の加水分解物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用することが出来る。
一般式(I)及び一般式(II)で表される有機ケイ素化合物、並びにその加水分解物から成る群より選ばれた少なくとも1種のケイ素含有物質を使用する事が出来る。
【0029】
本願発明中のコーティング組成物に使用されるケイ素含有物質は、好ましくは一般式(I)で表される有機ケイ素化合物、及びその加水分解物から成る群より選ばれた少なくとも1種のケイ素含有物質である。特に、R1及びR3のいずれか一方がエポキシ基を有する有機基であり、R2がアルキル基であり、且つa及びbがそれぞれ0又は1であり、a+bが1又は2の条件を満たす一般式(I)の有機ケイ素化合物及びその加水分解物が好ましく、その好ましい有機ケイ素化合物の例としては、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、αーグリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシランである。
【0030】
更に、好ましくはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン及びこれらの加水分解物であり、これらを単独で又は混合物として使用する事が出来る。また、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン又はこれらの加水分解物は、更に、一般式(I)においてa+b=0に相当する4官能の化合物を併用する事が出来る。4官能に相当する化合物の例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−プロポキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、テトラtert-ブトキシシラン、テトラsec-ブトキシシラン等が挙げられる。
【0031】
【実施例】
実施例1
三酸化アンチモン(三国精錬(株)製)1300gを水5587gに分散させ、次いで35%過酸化水素水954gを添加し、90〜100℃に加温し、2時間反応させ、五酸化アンチモンゾルを得た。得られたゾルは比重1.198、pH1.80、粘度19.5mPa・s、Sb2518.4重量%、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径20〜30nm、BET法による比表面積55.0m2/gであった。得られた五酸化アンチモンゾル3600gを純水にてSb2510.0重量%に希釈した後、塩基性炭酸亜鉛〔堺化学(株)製、3ZnCO3・4Zn(OH)2、ZnOに換算して70重量%含有〕238gを添加した後、100℃(還流下)で11時間攪拌を行いスラリーを得た。このスラリーはZnOとして2.4重量%、Sb25として9.7重量%、ZnO/Sb25モル比1.0であった。このスラリーをスプレードライヤーで乾燥し粉体を得た。この粉体のX線回折測定の結果、含水五酸化アンチモン(Sb25・xH2O)のピークと一致した。この乾燥粉5gを30mmφ×600mmのパイレックスガラス焼成管に仕込み、窒素ガスを流量2リットル/分で70℃の温浴にバブリングさせることにより得られた水蒸気/窒素ガスの分圧比として0.30の混合ガスをガラス焼成管に導入し、420℃で5時間焼成した。得られた粉末は濃青色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと一致した。この焼成粉のBET法による比表面積は38.7m2/g、比表面積より算出したBET法による粒子径は25.8nmであり、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は10〜50nmであった。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは、テスターによる導電性は14kΩ、四探針法抵抗率測定装置(商品名ロレスター、三菱化学(株)製)による比抵抗値は130Ω・cmの導電性を示した。
【0032】
実施例2
三酸化アンチモン(三国精錬(株)製)110kgと塩基性炭酸亜鉛〔堺化学(株)製、3ZnCO3・4Zn(OH)2、ZnOに換算して70重量%含有〕3.3kgを水1364kgに分散させ、次いで35%過酸化水素水182kgと87%蟻酸を594g添加し、90〜100℃に加温し、2時間反応させ、五酸化アンチモンゾルを得た。得られたゾルは比重1.174、pH1.44、粘度1.8mPa・s、Sb2516.3重量%、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径20〜30nm、BET法による比表面積41.3m2/gであった。得られた五酸化アンチモンゾル334kgを純水にてSb2513.3重量%に希釈した後、塩基性炭酸亜鉛〔堺化学(株)製、3ZnCO3・4Zn(OH)2、ZnOに換算して70重量%含有〕16.9kgを添加した後、6時間攪拌を行いスラリーを得た。このスラリーはZnOとして3.1重量%、Sb25として12.7重量%、ZnO/Sb25モル比0.97であった。このスラリーをスプレードライヤーで乾燥し粉体を得た。この粉体のX線回折測定の結果、含水五酸化アンチモン(Sb25・xH2O)のピークと一致した。この乾燥粉5gを30mmφ×600mmのパイレックスガラス焼成管に仕込み、窒素ガスを流量2リットル/分で95℃の温浴にバブリングさせることにより得られた水蒸気/窒素ガスの分圧比として0.85の混合ガスをガラス焼成管に導入し、460℃で5時間焼成した。得られた粉末は濃青色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと一致した。この焼成粉のBET法による比表面積は61.3m2/g、比表面積より算出したBET法による粒子径は15.8nmで、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は10〜20nmであった。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは、テスターによる導電性は16KΩ、四探針法抵抗率測定装置(商品名ロレスター、三菱化学(株)製)による比抵抗値は190Ω・cmの導電性を示した。
【0033】
実施例3
パイレックスガラス焼成管での焼成を540℃で行った以外は実施例2と同様の操作をした。ここで得られた粉末は濃青色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26 )のピークと一致した。
透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は20〜40nmであった。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは比抵抗値1.3kΩ・cmの導電性を示した。
【0034】
実施例 4
実施例2で得られた含水五酸化アンチモン(Sb25・xH2O)の乾燥粉5gを30mmφ×600mmのパイレックスガラス焼成管に仕込み、水素ガス2リットル/分で90℃の温浴にバブリングさせることにより得られた水蒸気/水素ガスの分圧比として0.7の混合ガスをガラス焼成管に導入し、350℃で5時間焼成した。得られた粉末は濃青色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと一致した。
【0035】
透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は10〜20nmであった。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは比抵抗値1.4kΩ・cmの導電性を示した。
実施例5
実施例2で得られた含水五酸化アンチモン(Sb25・xH2O)の乾燥粉6kgを150mmφの流動層に仕込み、窒素ガス2.8Nm3 /hrで80℃の温浴にバブリングさせることにより得られた水蒸気/窒素ガスの分圧比として0.47の混合ガスを流動層に導入し、480℃で4時間焼成した。得られた粉末は濃青色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと一致した。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは比抵抗値150Ω・cmの導電性を示した。この粉末をピンディスクで粉砕した後、粉砕粉700gと水1400gを5リットルのアトライター(三井鉱山(株)製)に仕込み、ガラスビーズ(1〜1.5mmφ)で16時間湿式粉砕を行った。湿式粉砕後、純水5.0kgを用いガラスビーズを分離し無水アンチモン酸亜鉛水性ゾル7.0kgを得た。得られた水性ゾルをロータリーエバポレーターで2.3kgまで濃縮した。得られた無水アンチモン酸亜鉛水性ゾルは透明性を有する濃青色で、比重1.350、pH6.2、粘度3.9mPa・s、電導度296μs/cm、ZnSb2630.5重量%であった。またこのゾルは50℃に1ケ月においても安定であった。このゾルは透過型電子顕微鏡観察により一次粒子径が10〜20nmで、レーザー散乱法粒度分布測定機(商品名コールターN4、コールター社製)による測定では129nm、遠心沈降法(CAPA−700、(株)堀場製作所製)による測定では平均粒子径が160nmであった。また、このゾルの乾燥物のBET法による比表面積は62.8m2 /g、比表面積より算出した粒子径は15.4nmであった。このゾルを0.01mmのアプリケーターでガラス板に塗布した後、自記分光式光度計UV−3100PC((株)島津製作所製)で200nmから3200nmまでの波長の透過率を測定し、その結果を図1に示した。また、分光式色差計TC−1800MK−II(東京電色(株)製)でL*、a*、b*も測定し、その結果を表1に示した。
【0036】
実施例6
実施例2で得られた含水五酸化アンチモン(Sb25・xH2O)乾燥粉6kgを150mmφの流動層に仕込み、空気2.8Nm3 /hrで80℃の温浴にバブリングさせることにより得られた水蒸気/空気の分圧比として0.47の混合ガスを流動層に導入し、480℃で4時間焼成した。得られた粉末は濃青色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと一致した。
【0037】
透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は10〜20nmであった。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは比抵抗値170Ω・cmの導電性を示した。
比較例1
パイレックスガラス焼成管へ導入するガスを水分を含まない窒素ガスにした以外は実施例2と同様の操作をした。ここで得られた粉末は淡黄土色で、X線回折測定の結果、五酸化アンチモン(Sb25)のピークと一致した。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは、導電性は認められなかった。
【0038】
比較例2
パイレックスガラス焼成管へ導入するガスを空気にした以外は実施例2と同様の操作をした。ここで得られた粉末は黄土色で、X線回折測定の結果、五酸化アンチモン(Sb25)のピークと一致した。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは、導電性は認められなかった。
【0039】
比較例3
ガラス焼成管へ導入するガスを水分を含まない水素ガスにした以外は実施例4と同様の操作をした。ここで得られた粉末は金属光沢のある色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと金属アンチモンのピークが検出でき、無水アンチモン酸亜鉛が一部還元されていることが認められた。
【0040】
参考例1
実施例1で得られた含水五酸化アンチモン(Sb25・xH2O)の乾燥粉30gを箱型電気炉で610℃で13時間焼成を行い青緑色の粉末を得た。この粉末のX線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと一致した。この焼成粉のBET法による比表面積は36.5m2 /g、比表面積より算出した粒子径は26.5nmであった。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは比抵抗値100Ω・cmの導電性を示した。この粉末118gを純水400gに添加しガラスビーズ(2〜3mmφ)でボールミルにて96時間湿式粉砕を行った。湿式粉砕後、ガラスビーズを分離し無水アンチモン酸亜鉛水性ゾル1131gを得た。得られた水性ゾルをロータリーエバポレーターで522kgまで濃縮した。得られた無水アンチモン酸亜鉛水性ゾルは透明性を有する青緑色で、比重1.228、pH8.3、粘度2.0mPa・s、電導度411μs/cm、ZnSb2622.6重量%であった。このゾルは透過型電子顕微鏡観察により一次粒子径が10〜50nmで、レーザー散乱法粒度分布測定機による測定では98nm、遠心沈降法による測定では平均粒子径が70nmであった。また、このゾルの乾燥物のBET法による比表面積は37.6m2 /g、比表面積より算出した粒子径は25.7nmであった。
【0041】
参考例2
実施例2で得られた含水五酸化アンチモン(Sb25・xH2O)の乾燥粉6kgを流動層に仕込み、空気を2.8Nm3 /hr導入して、620℃で5時間焼成した。得られた粉末は青緑色で、X線回折測定の結果、無水アンチモン酸亜鉛(ZnSb26)のピークと一致した。またこの粉末を300kg/cm2 でプレス成形したものは比抵抗値130Ω・cmの導電性を示した。この粉末をピンディスクで粉砕した後、粉砕粉700gと水1400gを5リットルのアトライターに仕込み、ガラスビーズ(1〜1.5mmφ)で16時間湿式粉砕を行った。湿式粉砕後、純水5.0kgを用いガラスビーズを分離し無水アンチモン酸亜鉛水性ゾル7.0kgを得た。得られた水性ゾルをロータリーエバポレーターで2.3kgまで濃縮した。得られた無水アンチモン酸亜鉛水性ゾルは透明性を有する青緑色で、比重1.344、pH6.9、粘度3.4mPa・s、電導度300μs/cm、ZnSb2630.4重量%であった。このゾルは透過型電子顕微鏡観察により一次粒子径が10〜20nmで、レーザー散乱法粒度分布測定機による測定では129nm、遠心沈降法による測定では平均粒子径が160nmであった。また、このゾルの乾燥物のBET法による比表面積は65.8m2 /g、比表面積より算出した粒子径は14.7nmであった。このゾルを0.01mmのアプリケーターでガラス板に塗布した後、自記分光式光度計UV−3100PC((株)島津製作所製)で200nmから3200nmまでの波長の透過率を測定し、その結果を図1に示した。また、分光式色差計TC−1800MK−II(東京電色(株)製)でL*、a*、b*も測定し、その結果を表1に示した。
【0042】
【表1】
Figure 0004019480
*は白と黒の関係を示す。a*は(+)a*方向が赤色を増し、(−)a*方向が緑色を増す。b*は(+)b*方向が黄色を増し、(−)b*方向が青色を増す。 L*及びa*の値がほぼ同一範囲にある実施例5と参考例2のb*の比較から、実施例5は参考例2よりも青色が濃いと言え、参考例2は実施例5よりも黄色方向にシフトしていると言える。本願発明で得られた導電性アンチモン酸亜鉛をコート材に使用した際、プラスチックフイルムやガラス基材に塗布しても、劣化色として誤解し敬遠される黄色みを帯びる事がなく、色調としても優れたコート剤になる。
【0043】
また、図1から判るように、実施例5の導電性アンチモン酸亜鉛を使用したコート材を塗布したガラス板は、参考例2のそれを使用したコート材を塗布したガラス板に比べて、赤外領域の透過率が低く赤外線の吸収能が高いと言える。
【0044】
【発明の効果】
本願発明は、導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛の製造方法の改良に関する。更には、亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンを混合した後の焼成工程での雰囲気調整を行うことにより、比較的低温で導電性の無水アンチモン酸亜鉛の製造が可能となり、装置的にもエネルギー的にも有利であるだけでなく、焼成温度が低いことから小粒子の焼結による粗大粒子の発生もない製造方法を提供しようとするものである。
【0045】
即ち、亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンを混合した後、水蒸気を含有するガス中で、300〜680 ℃、好ましくは350〜500℃で焼成する導電性無水アンチモン酸亜鉛の製造方法である。このため本願発明では焼成温度が従来法より低いため、特に小粒子の導電性無水アンチモン酸亜鉛の製造に有効である。特に一次粒子径が50nm未満の小粒子の導電性無水アンチモン酸亜鉛の製造において、固相反応が充分進むことで導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛の特有色である濃青色〜濃藍色粉が得られる製造法として有用である。また本願発明の導電性無水アンチモン酸亜鉛は、熱線吸収能が優れているという特長がある。
【0046】
本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛は、プラスチックス成形品やフィルム、プラスチックス繊維、ガラス、紙などの帯電防止剤として使用することもできるが、特に800nm以上の波長での透過率が低く成るため熱線吸収能に優れ、フィルム、プラスチックス繊維、ガラスなどの熱線吸収剤として有用である。
【0047】
また本願発明の導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛ゾルは透明性が高いことから、シランカップリング剤の部分加水分解液、エチルシリケートやエチルシリケートの加水分解液、樹脂エマルジョンなどと混合して用いることにより透明性帯電防止剤、高屈折率ハードコート剤、反射防止剤、熱線吸収剤などとして用いることができる。特にプラスチックス成形品やフィルム、ガラス等に塗布した時、セピア色や劣化色として嫌われる黄色の色調が少ないことから、より好ましいと言える。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例5と参考例2で得られた導電性無水アンチモン酸亜鉛ゾルを塗布したガラス板の200〜3200nmの波長の透過率を示すチャート。
【符号の説明】
図1中の線1は実施例5で得られた導電性無水アンチモン酸亜鉛ゾルを塗布したガラス板の透過率を示す。図1中の線2は参考例2で得られた導電性無水アンチモン酸亜鉛ゾルを塗布したガラス板の透過率を示す。

Claims (4)

  1. 0.8〜1.2のZnO/Sb25モル比に亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンを混合した後、0.05〜2の(水蒸気の分圧)/(ガスの分圧)の分圧比に水蒸気を混合したガス中で、300〜680℃で焼成する事を特徴とする、0.8〜1.2のZnO/Sb25モル比と5〜100nmの一次粒子径を有する導電性無水アンチモン酸亜鉛の製造方法。
  2. 焼成温度が350℃以上500℃未満である請求項1に記載の製造方法。
  3. 導電性無水アンチモン酸亜鉛の一次粒子径が5〜50nmである請求項1又は請求項2に記載の製造方法。
  4. ガスが、空気又は窒素である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の製造方法。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6093749A (en) * 1997-10-16 2000-07-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Anhydrous zinc antimonate sol and method for producing the same
US7157024B2 (en) * 2003-05-26 2007-01-02 Nissan Chemical Industries, Ltd. Metal oxide particle and process for producing same
JP2005008515A (ja) * 2003-05-26 2005-01-13 Nissan Chem Ind Ltd 金属酸化物粒子及びその製造方法
US7718708B2 (en) * 2004-04-21 2010-05-18 Nissan Chemical Industries, Ltd. Anhydrous zinc antimonate sol and process for producing same
JP4605375B2 (ja) * 2004-04-21 2011-01-05 日産化学工業株式会社 無水アンチモン酸亜鉛ゾル及びその製造方法
JP2006326971A (ja) * 2005-05-25 2006-12-07 Toray Ind Inc 耐候性樹脂フィルム
US7446939B2 (en) * 2005-12-22 2008-11-04 Guardian Industries Corp. Optical diffuser with UV blocking coating using inorganic materials for blocking UV
US7771103B2 (en) 2005-09-20 2010-08-10 Guardian Industries Corp. Optical diffuser with IR and/or UV blocking coating
US7612942B2 (en) * 2006-01-04 2009-11-03 Guardian Industries Corp. Optical diffuser having frit based coating with inorganic light diffusing pigments with variable particle size therein
US7659001B2 (en) * 2005-09-20 2010-02-09 Guardian Industries Corp. Coating with infrared and ultraviolet blocking characteristics
US7695785B2 (en) * 2006-07-14 2010-04-13 Guardian Industries Corp. Coated article with oxides and/or oxynitrides of antimony and/or zinc dielectric layer(s) and corresponding method
CN101302358B (zh) * 2007-05-09 2011-12-14 北京有色金属研究总院 一种无水纳米锑酸锌溶胶及其制备方法
JP2009067621A (ja) * 2007-09-12 2009-04-02 Nippon Shokubai Co Ltd 酸化物粒子、当該粒子を含む分散体及び当該粒子を用いた触媒
JP5682768B2 (ja) * 2010-08-27 2015-03-11 日産化学工業株式会社 表面修飾された無水アンチモン酸亜鉛コロイド粒子の疎水性有機溶媒分散液及びそれを用いたコーティング組成物並びに被覆部材
CN105470507B (zh) * 2015-11-30 2018-02-09 中南大学 一种锂离子电池的ZnSb2O6负极材料及其制备方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1461284A (en) * 1974-02-19 1977-01-13 Vnii Reaktivov I Khim Chistykh Preparation of oxygen-containing compounds of antimony and another metal
ZA764022B (en) * 1975-08-07 1977-06-29 American Cyanamid Co Colloidal antimony ocide
US4110247A (en) * 1977-04-07 1978-08-29 The Harshaw Chemical Company Method of preparing colloidal sol of antimony oxide
US4472296A (en) * 1982-06-21 1984-09-18 Iowa State University Research Foundation, Inc. Bulk, polycrystalline switching materials for threshold and/or memory switching
JPS6041536A (ja) * 1983-08-16 1985-03-05 Nissan Chem Ind Ltd 五酸化アンチモンゾルの製造法
JPS613292A (ja) * 1984-06-15 1986-01-09 富士電機冷機株式会社 商品自動取引装置
JPS62125849A (ja) * 1985-11-26 1987-06-08 Japan Exlan Co Ltd 十三酸化六アンチモン水性ゾル
JPH0696451B2 (ja) * 1986-02-06 1994-11-30 日産化学工業株式会社 五酸化アンチモンゾルの製造方法
JP2956112B2 (ja) * 1990-03-16 1999-10-04 日産化学工業株式会社 脱臭剤
US5766512A (en) * 1993-01-29 1998-06-16 Nissan Chemical Industries, Ltd. Zinc antimonate anhydride and method for producing same
JP3221132B2 (ja) * 1993-01-29 2001-10-22 日産化学工業株式会社 導電性粒子及びその製造法
US5906679A (en) * 1994-06-06 1999-05-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Coating compositions employing zinc antimonate anhydride particles
US5770113A (en) * 1995-03-06 1998-06-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Zinc oxide ceramics and method for producing the same
US5739742A (en) * 1995-08-31 1998-04-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Zinc oxide ceramics and method for producing the same and zinc oxide varistors

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