[go: up one dir, main page]

JP3787037B2 - 半導体モジュール - Google Patents

半導体モジュール Download PDF

Info

Publication number
JP3787037B2
JP3787037B2 JP04248699A JP4248699A JP3787037B2 JP 3787037 B2 JP3787037 B2 JP 3787037B2 JP 04248699 A JP04248699 A JP 04248699A JP 4248699 A JP4248699 A JP 4248699A JP 3787037 B2 JP3787037 B2 JP 3787037B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
module
main current
wiring conductor
insulating substrate
main
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP04248699A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000243905A (ja
Inventor
裕通 田井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP04248699A priority Critical patent/JP3787037B2/ja
Publication of JP2000243905A publication Critical patent/JP2000243905A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3787037B2 publication Critical patent/JP3787037B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/0601Structure
    • H01L2224/0603Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49111Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting two common bonding areas, e.g. Litz or braid wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49113Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1301Thyristor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19105Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電力用スイッチング素子等を有する半導体モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】
最近、高電圧・大電流のMOS(Meta1 Oxcide Semiconductor)ゲート型の電力用スイッチング素子が実用化されてきた。MOSゲート型スイッチング素子は、従来より使われているGTOのようなサイリスタ系のスイッチング素子に比べて、スイッチング速度が速く、安全動作領域が広く、制御性が高いなどの多くの利点がある。
【0003】
MOSゲート型スイッチング素子の中でも、モジュール型素子は実装が容易で装置を小型・軽量化・低コスト化できるという利点があるために、広く用いられている。
【0004】
図7に、従来のモジュール型のスイッチング素子の内部接続図を示す。
図7において、1a、1b、1c、…がスイッチング素子を構成する素子チップである。多くのMOSゲート型スイッチング素子は、製造上の理由で大面積の素子が作れないために、小面積のチップを多数個並列接続して一つの素子を構成している。図示するのは3つのチップだけであるが、実際のモジュールではより多くの素子チップが並列接続されることが多い。2a、2b、2c、…が素子モジュール3内部の個別ゲート抵抗である。これらの個別ゲート抵抗2a、2b、2c、…は、素子モジュール3内部の素子チップ1a、1b、1c、…間のばらつきに起因する振動などを抑制するために、各素子チップ1a、1b、1c、…ごとに挿入されるものである。
【0005】
素子モジュール3の外部に図示するのは、ゲート駆動回路の一部である。ゲート抵抗5は、スイッチング素子のスイッチング速度を調整するものである。
コンデンサ4は、以下の理由で挿入されている。スイッチング素子がオフしている期間に直列に接続されている他のアームがターンオンするタイミングで、スイッチング素子の電圧が急激に上昇すると、スイッチング素子が過渡的にターンオンし、電流が流れることがある。特に高耐圧のスイッチング素子を低インダクタンスの主回路構成で用いる際に特徴的に現われる現象である。その原因はスイッチング素子のコレクタとゲートの間に等価的に存在する素子内部の静電容量に、電圧上昇が印加されるために、スイッチング素子のゲートに電流が流入することにある。こうした現象はスイッチング素子の損失の増大につながる。
【0006】
コンデンサ4はこの現象を抑制するためのものである。コンデンサ4があれば、スイッチング素子のオフ期間に印加される急激な電圧上昇によるゲート電流をコンデンサ4で吸収し、過渡的なターンオンを抑制できる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
従来の半導体モジュールでは、図7のコンデンサ4を素子モジュール3の外部に設置している。ところが、素子の実装上の必要からしばしばコンデンサ4は素子モジュール3から離れたゲート駆動回路の内部に実装されることが多い。こうした配置では、コンデンサ4の効果は小さくなるため、コンデンサ4の静電容量値を大きくする必要が生じる。コンデンサ4が大きいほど、ゲート駆動回路の出力電流は増大し、消費電力も増大する。また、コンデンサ4と素子モジュール3との間の距離が離れるにつれ、配線のインダクタンス成分とコンデンサ4の静電容量分によって形成される共振回路の影響が無視できなくなる。この共振回路はゲート駆動電圧の振動の原因となり、素子の安定なスイッチング動作を阻害することになる。
【0008】
本発明はこのような点に鑑み為されたもので、スイッチング素子がオフ状態にあるときに印加される急激な電圧上昇によって過渡的に素子がターンオンする問題を、過大なコンデンサの挿入によるゲート駆動電力の増大や、ゲート配線のインダクタンスとの間に形成される共振回路による振動などの問題を生じることなく解決する半導体モジュールを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1記載の本発明に係る半導体モジュールは、半導体チップを実装した絶縁基板をモジュール内部に有する半導体モジュールにおいて、
主電流を制御する制御端子と主電流が流れる一対の主端子を有する複数の半導体チップと、
前記複数の半導体チップが対称に配置されて一方の主端子と接続されるコの字型に絶縁基板に形成される第一の主電流配線導体と、
前記絶縁基板における前記第一の主電流配線導体の凹部に形成され前記半導体チップの他方の主端子と接続される第二の主電流配線導体と、
前記第一の主電流配線導体の開口部に対向する底部を有し、前記半導体チップの制御端子に接続されるコの字型に前記絶縁基板に形成される制御配線導体と、
前記第二の主電流配線導体と前記制御配線導体とを、前記第一の主電流配線導体の開口部で接続するチップコンデンサと
を備えて成ることを特徴とする。
【0012】
このような構成により、従来より用いられている絶縁基板上に、容易にコンデンサを実装することができるため、コストが低く量産性の高い半導体モジュールを提供することができる。
【0013】
請求項2に記載の本発明は、半導体チップを実装した絶縁基板をモジュール内部に有する半導体モジュールにおいて、
主電流を制御する制御端子と主電流が流れる一対の主端子を有する複数の半導体チップと、
前記複数の半導体チップが対称に配置されて一方の主端子と接続されるコの字型に絶縁基板に形成される第一の主電流配線導体と、
前記絶縁基板における前記第一の主電流配線導体の凹部に形成され前記半導体チップの他方の主端子と接続される第二の主電流配線導体と、
前記第一の主電流配線導体の開口部に対向する底部を有し、前記各半導体チップの制御端子に夫々対応した個別ゲート抵抗を介して接続されるコの字型に前記絶縁基板に形成される制御配線導体と、
前記各半導体チップの制御端子と前記個別ゲート抵抗との間と、前記他方の主端子との間に接続されるチップコンデンサと
を備えて成ることを特徴とする。
【0014】
このような構成により、コンデンサの効果を一層高めることが可能になる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の図において、従来例を示す図7を含め、同符号は同一部分または対応部分を示す。
【0021】
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態の構成を示す回路図である。
図1において、モジュール内コンデンサ6が、新たに素子モジュール3の内部に追加されたコンデンサである。本実施形態では、このように素子モジュール3内部において、スイッチング素子を構成する素子チップ1a、1b、1c、…の制御入力端子対間、即ちゲート・エミッタ間のコンデンサを追加することで、スイッチング素子がオフしている期間に印加される急激な電圧上昇に起因する過渡的なターンオン現象を効果的に抑制することができる。
【0022】
そして、従来技術で問題となる過大なコンデンサの挿入によるゲート駆動電力の増大や、ゲート配線のインダクタンスとの間に形成される共振回路による振動などの問題も、本実施形態では起こらない。
【0023】
(第2の実施形態)
図2は、本発明の第2の実施形態を示す半導体モジュール内の絶縁基板上の配置図であり、同図(a)はその平面図、同図(b)はその正面図である。
【0024】
一般に半導体モジュールは少なくとも1枚の絶縁基板上に構成されたサブモジュールより構成される。サブモジュールは配線でモジュールの端子と接続され、サブモジュール内部の配線は、絶縁基板上に形成された銅箔配線やボンディングワイヤによって行われる。
【0025】
図2において、絶縁基板13がサブモジュールを搭載する基板である。絶縁基板13上に、ゲート配線銅箔7、エミッタ配線銅箔10、コレクタ配線銅箔12がおのおの形成され、素子チップ1はコレクタ配線銅箔12のパターン上に裏面のコレクタ電極をハンダ付けで結合させることで実装される。素子チップ1の表面にはゲートのボンディングパッド8があり、このボンディングパッド8よりゲートボンディングワイヤ9によって個別ゲート抵抗2を介してゲート配線銅箔7へと導かれる。エミッタはエミッタボンディングワイヤ11によってエミッタ配線銅箔10に導かれる。チップコンデンサからなるモジュール内コンデンサ6はゲート配線銅箔7およびエミッタ配線銅箔10の間に置かれる。
【0026】
このようにモジュール内コンデンサ6としてチップコンデンサを用いて構成した本実施形態では、従来より用いられている絶縁基板13上に、容易にモジュール内コンデンサ6を実装することができるため、コストが低く量産性の高い半導体モジュールを提供することができる。
【0027】
(第3の実施形態)
図3は本発明の第3の実施形態を示す半導体モジュール内の絶縁基板上の配置図であり、同図(a)はその平面図、同図(b)はその正面図である。
【0028】
本発明の第2の実施形態と類似した配置であるが、モジュール内コンデンサ6が各素子チップ1ごとに、素子チップ1に近接して実装されている点が異なる。回路上では、本発明の第2の実施形態では各チップ1ごとの個別ゲート抵抗2がモジュール内コンデンサ6と素子チップ1との間に入っていたのが、本実施形態ではモジュール内コンデンサ6が直接素子チップ1と接続されるようになる点が相違している。即ち、本実施形態ではモジュール内コンデンサ6が個別ゲート抵抗2を介することなく、素子チップ1の制御入力端子対間(ゲート・エミッタ間)に接続され、個別ゲート抵抗2は、素子チップ1の制御入力端子対とゲート配線銅箔7との間に直列に接続されている。
【0029】
本実施形態では、モジュール内コンデンサ6をさらに素子チップに近接させて配置すること、および、モジュール内コンデンサ6の効果が個別ゲート抵抗2の影響を受けなくなることで、コンデンサの効果を一層高めることが可能になる。
【0030】
(第4の実施形態)
図4は本発明の第4の実施の形態を示す半導体モジュール内の絶縁基板上の配置図であり、同図(a)はその平面図、同図(b)はその正面図である。
【0031】
本実施形態は、本発明の第2の実施形態と類似した配置であるが、第2の実施形態のようにモジュール内コンデンサ6がチップコンデンサのように独立したものとして存在しない。その代わり、エミッタ配線銅箔10がゲート配線銅箔7の下層にまで延長されるとともに、エミッタ配線銅箔10とゲート配線銅箔7との間に高誘電率絶縁層14が置かれる。即ち、本実施形態では、エミッタ配線銅箔10及びゲート配線銅箔7からなる電極と、高誘電率絶縁層14からなる絶縁層(絶縁膜)とによって形成されるコンデンサが、モジュール内コンデンサ6として機能する。このようにすることで、モジュール内部のゲート配線のインピーダンスを効果的に低減させることができ、ゲート配線のインダクタンス分に起因する振動などの問題に対応することができる。
【0032】
(第5の実施形態)
図5は本発明の第5の実施形態の構成を示回路図である。
本発明の第1の実施形態と類似した回路であるが、モジュール内コンデンサ6が6a、6b、6c、…と複数個あり、それら複数個のモジュール内コンデンサ6a、6b、6c、…の端子の一方が、端子として素子モジュール3の外部より接続されるようになっている。本実施形態では、素子モジュール3の使われかたに応じて、複数個のモジュール内コンデンサ6a、6b、6c、…の外部の端子を選択して接続することにより、適宜モジュール内のコンデンサの値を切り替えて使用することができる。これによって、同一の素子モジュール3で、さまざまな外部条件に応じて最適なモジュール内コンデンサ6を選択することが可能になる。
【0033】
(第6の実施形態)
図6は本発明の第6の実施形態の回路接続及び概略配置を示す図であり、同図(a)はそれを平面的に表わした図、同図(b)は正面から見た状態で表わした図である。
【0034】
これまでの実施形態とは異なり、本実施形態は、素子チップ1として圧接型のチップを用い、これらの素子チップ1を円筒状外囲器17に収容したものである。圧接型のチップでは、素子の配線はコレクタおよびエミッタについては電極を直に圧接することで行われ、ゲートはゲートピン15をチップに押し当てることでゲート接続が行われる。各ゲートピン15より個別ゲート抵抗2を介してゲート端子16にゲートが接続されるとともに、モジュール内コンデンサ6がゲート端子16とエミッタ電極との間に接続される。
【0035】
本実施形態では、圧接型の素子チップを用いた圧接型の素子モジュールであってもボンディングワイヤによって接続されるモジュールと同様に、素子モジュール内に実装したコンデンサ即ちモジュール内コンデンサ6によって、従来技術で問題となる過大なコンデンサの挿入によるゲート駆動電力の増大や、ゲート配線のインダクタンスとの間に形成される共振回路による振動などの問題を解決することができる。
【0036】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、スイッチング素子モジュールにおいて、素子がオフ状態にあるときに印加される急激な電圧上昇によって過渡的に素子がターンオンする問題を素子モジュール内部にコンデンサを実装することにより解決するに当たり、従来より用いられている絶縁基板上に、容易にコンデンサを実装することができるため、コストが低く量産性の高い半導体モジュールを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施形態の構成を示す回路図。
【図2】 本発明の第2の実施形態の構成を示す平面図及び正面図。
【図3】 本発明の第3の実施形態の構成を示す平面図及び正面図。
【図4】 本発明の第4の実施形態の構成を示す平面図及び正面図。
【図5】 本発明の第5の実施形態の構成を示す回路図。
【図6】 本発明の第6実施形態の構成を示す図。
【図7】 従来例の構成を示す回路図。
【符号の説明】
1、1a、1b、1c…素子チップ
2、2a、2b、2c…個別ゲート抵抗
3…素子モジュール
4…コンデンサ
5…ゲート抵抗
6、6a、6b、6c…モジュール内コンデンサ
7…ゲート配線銅箔
8…ゲートボンディングパッド
9…ゲートボンディングワイヤ
10…エミッタ配線銅箔
11…エミッタボンディングワイヤ
12…コレクタ配線銅箔
13…絶縁基板
14…高誘電率絶縁層
15…ゲートピン
16…ゲート端子
17…円筒状外囲器

Claims (2)

  1. 半導体チップを実装した絶縁基板をモジュール内部に有する半導体モジュールにおいて、
    主電流を制御する制御端子と主電流が流れる一対の主端子を有する複数の半導体チップと、
    前記複数の半導体チップが対称に配置されて一方の主端子と接続されるコの字型に絶縁基板に形成される第一の主電流配線導体と、
    前記絶縁基板における前記第一の主電流配線導体の凹部に形成され前記半導体チップの他方の主端子と接続される第二の主電流配線導体と、
    前記第一の主電流配線導体の開口部に対向する底部を有し、前記半導体チップの制御端子に接続されるコの字型に前記絶縁基板に形成される制御配線導体と、
    前記第二の主電流配線導体と前記制御配線導体とを、前記第一の主電流配線導体の開口部で接続するチップコンデンサと
    を備えて成ることを特徴とする半導体モジュール。
  2. 半導体チップを実装した絶縁基板をモジュール内部に有する半導体モジュールにおいて、
    主電流を制御する制御端子と主電流が流れる一対の主端子を有する複数の半導体チップと、
    前記複数の半導体チップが対称に配置されて一方の主端子と接続されるコの字型に絶縁基板に形成される第一の主電流配線導体と、
    前記絶縁基板における前記第一の主電流配線導体の凹部に形成され前記半導体チップの他方の主端子と接続される第二の主電流配線導体と、
    前記第一の主電流配線導体の開口部に対向する底部を有し、前記各半導体チップの制御端子に夫々対応した個別ゲート抵抗を介して接続されるコの字型に前記絶縁基板に形成される制御配線導体と、
    前記各半導体チップの制御端子と前記個別ゲート抵抗との間と、前記他方の主端子との間に接続されるチップコンデンサと
    を備えて成ることを特徴とする半導体モジュール。
JP04248699A 1999-02-22 1999-02-22 半導体モジュール Expired - Fee Related JP3787037B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04248699A JP3787037B2 (ja) 1999-02-22 1999-02-22 半導体モジュール

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04248699A JP3787037B2 (ja) 1999-02-22 1999-02-22 半導体モジュール

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000243905A JP2000243905A (ja) 2000-09-08
JP3787037B2 true JP3787037B2 (ja) 2006-06-21

Family

ID=12637404

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP04248699A Expired - Fee Related JP3787037B2 (ja) 1999-02-22 1999-02-22 半導体モジュール

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3787037B2 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1989680B (zh) * 2005-07-06 2012-01-11 松下电器产业株式会社 无刷直流电动机和使用它的电气装置
JP5492518B2 (ja) 2009-10-02 2014-05-14 株式会社日立製作所 半導体駆動回路、及びそれを用いた半導体装置
CN105103289B (zh) 2013-05-16 2018-08-24 富士电机株式会社 半导体装置
JP6066867B2 (ja) * 2013-08-27 2017-01-25 三菱電機株式会社 駆動回路および半導体装置
JP6111984B2 (ja) * 2013-11-12 2017-04-12 富士電機株式会社 半導体装置
JP6123738B2 (ja) * 2014-06-06 2017-05-10 富士電機株式会社 半導体装置
JP2016001654A (ja) * 2014-06-11 2016-01-07 株式会社デンソー 半導体装置
JP6565815B2 (ja) 2016-07-21 2019-08-28 株式会社デンソー 半導体装置
CN114270509B (zh) * 2019-08-27 2025-02-14 三菱电机株式会社 电力用半导体模块以及电力变换装置
JPWO2022158322A1 (ja) * 2021-01-19 2022-07-28

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000243905A (ja) 2000-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6184574B1 (en) Multi-capacitance lead frame decoupling device
US4639759A (en) Power transistor module
US5872403A (en) Package for a power semiconductor die and power supply employing the same
JP4955078B2 (ja) 半導体装置
JP4138192B2 (ja) 半導体スイッチ装置
US5604674A (en) Driving circuit module
JP3787037B2 (ja) 半導体モジュール
JP2020004929A (ja) 半導体装置
JP2002153079A (ja) 半導体装置
JP3344552B2 (ja) 圧接型半導体装置
KR102065118B1 (ko) 양면 냉각 파워 모듈 및 이의 제조방법
EP0455322B1 (en) Semiconductor device
JPH09321216A (ja) 電力用半導体装置
JP2000031325A (ja) 半導体パワーモジュール及びこれを用いたインバータ装置
EP0527033B1 (en) Semiconductor module
JP3279842B2 (ja) 電力用半導体装置
JP3658946B2 (ja) 電力用トランジスタの実装構造
JPS62150871A (ja) 半導体装置
JPH03108749A (ja) 電力変換装置用トランジスタモジュール
JP3525823B2 (ja) 相補型igbtの実装構造
CN216902932U (zh) 集成母线电容的功率半导体模块的封装结构
CN220692017U (zh) 一种三相全桥整流mosfet功率模块
JPH0729933A (ja) 電力用半導体装置
US11322461B2 (en) Package with integrated multi-tap impedance structure
JP2867737B2 (ja) 混成集積回路

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040614

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050329

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050414

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050526

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20050606

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20051108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20051209

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060317

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060323

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100331

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees