JP3757777B2 - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フレキソ印刷工程を有する電気光学装置の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この製造方法におけるフレキソ印刷技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話機などといった電子機器においては、電気光学装置によって表示部が構成されている。電気光学装置としては、電気光学物質として液晶を用いた液晶装置が最も一般的である。
【０００３】
図２および図３（Ａ）に示すように、液晶装置４００は、表面に形成された電極パターン４４０、４５０が対向するように配置された第１の透明基板４１０と第２の透明基板４２０との間に電気光学物質としての液晶４０４が保持されている。
【０００４】
このような液晶装置４００を形成するには、第２の透明基板４２０に対して、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５０、絶縁性のオーバーコート膜４２９、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１６をこの順に形成していく。また、第１の透明基板４１０に対しては、第１の電極パターン４４０、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１２をこの順に形成していく。
【０００５】
但し、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０には、図２に示すように、基板辺４１８、４２８に沿って第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成され、これらの端子領域では、基板間の導通やフレキシブル基板７０の接続が行われる。従って、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９は形成されていない。
【０００６】
このため、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成されている側は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５が形成されている側は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１である。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバーコート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要がある。
【０００７】
従って、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などを形成するにあたってはフレキソ印刷が行われ、このフレキソ印刷に用いるコーティング装置１００では、図５に示すように、ブラン胴１２０の周囲に装備されている凸版１１０に対してアニロックスローラ１３０から塗液が転写されるとともに、凸版１１０の表面のうち、凸部１１１に転写された塗液が基板に転写される。
【０００８】
ここで、アニロックスローラ１３０の表面には、塗液の保持能力を高めることを目的に、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ２でメッシュ１３９が形成されている。また、凸版１１０の凸部１１１の表面にも、塗液の保持能力を高めることを目的に、図７（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ３でメッシュ１１９が形成されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
このようなフレキソ印刷が施される第２の透明基板４２０の表面には、図３（Ｂ）に示すように、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが所定の繰り返しパターンをもって形成されているため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおいて同色のカラーフィルタは、所定のピッチＰ１（同色ピッチ）で形成されている。
【００１０】
また、図５、図６および図７を参照して説明したコーティング装置１００において、配向膜４１６を形成するための塗膜を凸版１１０から第２の透明基板４２０に転写したとき、転写された塗膜の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の跡とが転写される。
【００１１】
従って、第２の透明基板膜４２０において、配向膜４１６には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の跡とが転写され、かつ、その下層側では、同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが所定の同色ピッチＰ１をもって形成されている。しかも、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９のピッチＰ２、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッシュ１１９のピッチＰ３、および同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７ＢのピッチＰ１は、略等しい寸法であるが、互いにわずかずつ異なっている。
【００１２】
このため、第２の透明基板４２０において、同色ピッチＰ１をもつカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂ、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３０の跡、および凸版１１０の凸部１１１のメッシュ１１９の跡が互いに干渉しあってモワレが発生し、液晶装置４１０が形成した画像の品位が低下するという問題点がある。
【００１３】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、カラーフィルタの表面側にフレキソ印刷を利用して塗膜を形成したときでも、モワレの発生を防止することのできる電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、複数色のカラーフィルタが所定のピッチをもって形成された基板の表面側に対してフレキソ印刷により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する電気光学装置の製造方法において、前記フレキソ印刷工程で用いたアニロックスローラの表面に形成されているメッシュのピッチ、当該アニロックスローラから転写された塗液を前記基板に転写する凸版において凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記カラーフィルタにおける同色のカラーフィルタのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが等しい寸法であることを特徴とする。
実施の形態に係る本発明では、複数色のカラーフィルタが所定の同色ピッチをもって形成された基板の表面側に対してフレキソ印刷により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する電気光学装置の製造方法において、前記フレキソ印刷工程で用いたアニロックスローラの表面に形成されているメッシュのピッチ、当該アニロックスローラから転写された塗液を前記基板に転写する凸版において凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記カラーフィルタにおける同色のカラーフィルタのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが同一寸法に設定されている。
【００１５】
本発明では、所定の同色ピッチをもつカラーフィルタが形成された基板の表面側に、フレキソ印刷によって配向膜やオーバーコート膜などの塗膜が形成され、この塗膜の表面には、アニロックスローラの所定ピッチのメッシュ跡と、凸版の凸部の表面に形成されていた所定ピッチのメッシュ跡とが転写されているが、これら３つのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが等しいため、モワレの発生要因を除去することができる。それ故、モワレが発生しないので、画像の品位が高い電気光学装置を製造することができる。
【００１６】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、前記アニロックスローラのメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記の同色のカラーフィルタのピッチのいずれもが等しい寸法であることを特徴とする。
実施の形態に係る本発明において、前記アニロックスローラのメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記の同色のカラーフィルタのピッチのいずれもが略同一寸法であってもよい。
【００１７】
本発明において、前記塗膜は、前記基板を前記電気光学装置に用いたとき、電気光学物質の配向状態を制御する配向膜である。
【００１８】
保温発明において、前記電気光学装置に用いる前記基板の表面側にフレキソ印刷により前記塗膜を形成する前に、ダミー基板に対して前記塗膜をフレキソ印刷によって形成することが好ましい。このように構成すると、前記電気光学装置に用いる基板にフレキソ印刷を行うときの条件を安定化しておくことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
添付図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
（液晶装置の構成）
図１および図２はそれぞれ、携帯電話機などの電子機器に使用されている電気光学装置としての液晶装置を斜め下方からみたときの斜視図、および分解斜視図である。図３（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、この液晶装置の断面図、およびこの液晶装置に構成されているカラーフィルタの配列を示す説明図である。
【００２１】
図１、図２および図３（Ａ）に示す電気光学装置は、カラー対応のパッシブマトリクス型の液晶装置４００であり、所定の間隙を介してシール材４３０によって貼り合わされた矩形のガラスなどからなる一対の透明基板間にシール材４３０によって液晶封入領域４３５が区画されているとともに、この液晶封入領域４３５内に液晶４０４が封入されている。ここでは、前記一対の透明基板のうち、液晶封入領域４３５内で縦方向に延びる複数列の第１の電極パターン４４０が形成されている方の基板を第１の透明基板４１０とし、液晶封入領域４３５内で横方向に延びる複数列の第２の電極パターン４５０が形成されている方の基板を第２の透明基板４２０とする。
【００２２】
第２の透明基板４２０には、図３（Ａ）に示すように、第１の電極パターン４４０と第２の電極パターン４５０との交点に相当する領域に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが形成されている。
【００２３】
このようなカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂは、第２の透明基板４２０の表面に所定の繰り返しパターンをもって形成され、図３（Ｂ）に例示したカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂでは、第２の透明基板４２０の幅方向Ｗに向かって同色のカラーフィルタがピッチＰ１（同色ピッチ）をもってストライプ状に形成されている。
【００２４】
また、第２の透明基板４２０では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、アクリル樹脂系の絶縁性の平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎｍのポリイミド樹脂からなる配向膜４１６がこの順に形成されている。これに対して、第１の透明基板４１０には、第１の電極パターン４４０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎｍのポリイミド樹脂からなる配向膜４１２がこの順に形成されている。さらに、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０のうちの少なくとも一方の基板の電極パターン上には、基板間の短絡を防止するための絶縁性の薄いオーバーコート膜が形成されるが、図３（Ａ）に示す例では、第２の透明基板４２０の第２の電極パターン４５０上に絶縁性のオーバーコート膜４２９が形成されている。
【００２５】
この液晶装置４００において、第２の電極パターン４５０はＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ／透明導電膜）によって形成されている。第１の電極パターン４４０は、ＩＴＯ膜によって形成されることもあるが、本形態では、薄いアルミニウム膜によって構成されている。このため、薄いアルミニウム膜からなる第１の電極パターン４４０に届いた光は、一部が第１の電極パターン４４０を透過し、一部は第１の電極パターン４４０で反射する。従って、液晶装置４００は、透過型の液晶装置としての機能と、反射型の液晶装置としての機能とを併せもつ半透過・半反射型の液晶装置である。なお、第２の透明基板４２０の外側表面には偏光板４６１が貼られ、第１の透明基板４１０の外側表面には偏光板４６２が貼られている。
【００２６】
このような半透過・半反射型の液晶装置４００を構成するにあたっては、光を完全反射するような膜厚のアルミニウム膜などによって第１の電極パターン４４０を形成し、第１の電極パターン４４０のうち、第２の電極パターン４５０と交差する部分に小さな光透過孔を形成してもよい。
【００２７】
再び図１および図２において、液晶装置４００では、外部との間での信号の入出力および基板間の導通のいずれを行うにも、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の同一方向に位置する各基板辺４１８、４２８付近において第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０のそれぞれに形成されている第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が用いられる。ここで、第２の透明基板４２０としては、第１の透明基板４１０よりも大きな基板が用いられ、第１の透明基板４１０と第２の透明基板４２０とを貼り合わせたときに第１の透明基板４１０の基板辺４１８から第２の透明基板４２０が張り出す部分４２５に駆動用ＩＣ４９０がＣＯＧ実装されている。また、第２の透明基板４２０の第２の端子領域４２１は、駆動用ＩＣ４９０より基板辺４２８の側に位置する部分に入出力端子４８１が形成され、これらの入出力端子４８１に対してフレキシブル基板７０が接続されている。
【００２８】
第２の端子領域４２１において、駆動用ＩＣ４９０より液晶封入領域４３５の側に位置する部分は、第１の透明基板４１０の側との基板間導通用に用いられるので、第１の透明基板４１０との重なり部分に形成されている。また、第１の透明基板４１０において、第１の端子領域４１１は、第２の透明基板４２０の側との基板間導通に用いられるので、第２の透明基板４２０との重なり部分に形成されている。
【００２９】
従って、第１の透明基板４１０と第２の透明基板４２０とを基板間導通剤を含有するシール材４３０で貼り合わせて基板間で基板間導通用端子同士を導通させて、第２の透明基板４２０の入出力端子４８１から駆動用ＩＣ４９０に信号入力すれば、駆動用ＩＣ４９０から出力された信号は、第１の電極パターン４４０および第２の電極パターン４５０に供給されるので、第１の電極パターン４４０と第２の電極パターン４５０との交点に相当する画素を各々駆動することができる。
【００３０】
なお、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１には、配向膜４１２、４１６およびオーバーコート膜４２９は形成されていない。
【００３１】
（液晶装置４００の製造方法）
図４および図５はそれぞれ、フレキソ印刷工程を示す説明図、およびこのフレキソ印刷工程で用いるコーティング装置の説明図である。図６（Ａ）、（Ｂ）ははそれぞれ、図５に示すアニロックスローラに形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。図７（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示す凸版に形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
【００３２】
図３（Ａ）、（Ｂ）に示す液晶装置４００を形成するには、第２の透明基板４２０に対して赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側にアクリル樹脂系の平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５０、オーバーコート膜４２９、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１６をこの順に形成していく。また、第１の透明基板４１０には、ＩＴＯ膜からなる第１の電極パターン４４０、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１２をこの順に形成していく。
【００３３】
但し、液晶装置４００では、図２に示すように、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の基板辺４１８、４２８に沿って、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成され、これらの端子領域において、基板間導通やフレキシブル基板７０の接続が行われる。従って、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成すると支障がある。
【００３４】
このため、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成されている領域は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５が形成されている領域は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１である。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバーコート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要がある。
【００３５】
また、第１の透明基板４１０や第２の透明基板４２０は、図４に示すように、これらの基板を単品基板１０として複数、切り出すことのできる大型基板１の状態でフレキソ印刷工程までの工程が行われ、本形態では、これらの工程を行った以降、大型基板１の状態でラビング工程を行い、しかる後に、大型基板１から単品基板形成領域２を切り出して、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０を単品基板１０を得る。従って、大型基板１の表面では、単品基板形成領域２が周りを切り捨て領域３で囲まれた状態で長さ方向Ｌおよび幅方向Ｗに複数、配置され、これらの単品基板形成領域２の各々が、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１と、これらの塗膜を形成してはいけない塗膜不要領域１２とを備えている。
【００３６】
それ故、本形態では、大型基板１に対して、ブラン胴１２０の周囲に凸版１１０が装備されたコーティング装置１００を用いてフレキソ印刷を行い、このフレキソ印刷によって形成した塗膜に焼成などの処理を行って、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などを形成する。
【００３７】
このようなフレキソ印刷に用いられるコーティング装置１００では、図５に示すように、アニロックスローラ１３０とドクターローラ１４０の間に、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成するための塗液１５０を充填し、一定速度でアニロックスローラ１３０とドクターローラ１４０を回転させる。このとき、アニロックスローラ１３０とドクターローラ１４０の間には、均一な厚さの塗液１５０の層が形成される。一方、ブラン胴５の周囲には、大型基板１の長さに対応した凸版１１０が装備されており、ブラン胴１２０をアニロックスローラ１３０に接触させると、凸版１１０の表面に塗液１５０が均一の厚さで転写される。ここで、凸版１１０には、大型基板１に塗液１５０を転写する凸部１１１と、塗液１５０の転写を行わない凹部１１２とが所定のパターンで形成されている。従って、回転するブラン胴１２０に対して大型基板１が凸版１１０に接触しながら移動していくと、大型基板１の表面では、凸版１１０の凸部１１１が当たった領域に塗液１５０が選択的に転写されることになる。
【００３８】
ここで、アニロックスローラ１３０の表面には、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、塗液の保持能力を高めることを目的に筋状のメッシュ１３９が斜めに形成され、このメッシュ１３９の幅方向ＷにおけるピッチはＰ２である。また、図７（Ａ）、（Ｂ）に示すように、凸版１１０の凸部１１１の表面にも、塗液の保持能力を高めることを目的に筋状のメッシュ１１９が斜めに形成され、このメッシュ１１９の幅方向ＷにおけるピッチはＰ３である。
【００３９】
このため、アニロックスローラ１３０から凸版１１０の表面に転写された塗液１５０の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡が転写され、このようなメッシュ１３９の跡がついた塗液１５０が、凸版１１０の凸部１１１から大型基板１に転写される。このため、大型基板１に転写された塗液を焼成して、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成すると、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッシュ１１９の跡が転写される。
【００４０】
なお、大型基板１に対して配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成した後は、大型基板１の表面にラビング処理を行い、しかる後に、大型基板１から単品基板形成領域２を切り出せば、第１の透明基板４１０や第２の透明基板４２０を単品基板１０として得ることができる。なお、このような切断工程によって大型基板１の切り捨て領域３に相当する部分は廃棄される。
【００４１】
（フレキソ印刷工程の特徴点）
このようにして、第２の透明基板４２０の表面にオーバーコート膜４２９や配向膜４１６を形成するにあたって、本形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３を、いずれも等しい寸法に設定してある。
【００４２】
このため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側にオーバーコート膜４２９や配向膜４１６を形成した状態において、第２の透明基板４２０の表面側には、幅方向における同色ピッチがＰ１であるカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが形成されているとともに、その表面側に形成されたオーバーコート膜４２９や配向膜４１６には、幅方向のピッチがＰ２のアニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、幅方向のピッチがＰ２のアニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡とが転写されている。それでも、本形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３がいずれも等しい寸法であるため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの同色パターン、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡、および凸版１１０の凸部１１１のメッシュ１１９の跡が互いに干渉し合うことがない。よって、画像の品位が高い液晶装置４００を製造することができる。
【００４３】
また、液晶装置４００に用いる第２の透明基板４２０の表面側にフレキソ印刷により、配向膜４１６やオーバーコート膜４２９を形成するための塗膜を形成する前には、ダミー基板に対して前記の塗膜をフレキソ印刷によって形成し、液晶装置４００に実際に組み込む第２の透明基板４２０にフレキソ印刷を行うときの条件を前もって安定化しておくことが好ましい。
【００４４】
［その他の実施の形態］
上記形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３がいずれも等しい寸法になっている例であったが、これらのピッチＰ１、Ｐ２、Ｐ３のいずれか２つが等しい寸法であれば、モワレの発生要因を除去することができる。従って、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１とアニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２とが等しい構成、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２と凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３が等しい構成、あるいは、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３とカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１が等しい構成であってもよい。
【００４５】
また、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの配列、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の配列や形状、凸版１１０のメッシュ１１９の配列や形状としては、種々の形態が採用されるが、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおいて同色のカラーフィルタが繰り返し出現する方向において、その同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１のピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９のピッチＰ３のうちの２つのピッチが等しければ、モワレの発生要因を除去することができので、モワレの発生を防止することができる。
【００４６】
なお、上記形態では、パッシブマトリクス型の液晶装置を例に説明したが、アクティブマトリクス型の液晶装置でも、カラーフィルタが形成された基板の表面側に、配向膜やオーバーコート膜をフレキソ印刷によって形成するので、アクティブマトリクス型の液晶装置、その他の電気光学装置を製造するのに本発明を適用してもよい。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、所定の同色ピッチをもつカラーフィルタが形成された基板の表面側に、フレキソ印刷によって配向膜やオーバーコート膜などの塗膜が形成され、この塗膜の表面には、アニロックスローラの所定ピッチのメッシュ跡と、凸版の凸部の表面に形成されていたメ所定ピッチのメッシュ跡とが転写されるが、これらのピッチは、少なくとも２つのピッチが等しいため、モワレの発生要因を除去することができる。それ故、モワレが発生しないので、画像の品位が高い電気光学装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】携帯電話機などに用いられる液晶装置を斜め下方から見た斜視図である。
【図２】図１に示す液晶装置を斜め下方から見た分解斜視図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１および図２に示す液晶装置の断面図、およびこの液晶装置に形成されているカラーフィルタの平面的な配置構造を示す平面図である。
【図４】フレキソ印刷工程を示す説明図である。
【図５】フレキソ印刷工程で用いるコーティング装置の説明図である。
【図６】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示すアニロックスローラに形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
【図７】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示す凸版に形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
【符号の説明】
１ 大型基板
２ 単品基板形成領域
３ 切り捨て領域
１０ 単品基板
１１ 塗膜必要領域
１２ 塗膜不要領域
１００ コーティング装置
１１０ 凸版
１１１ 凸版の凸部
１１２ 凸版の凹部
１１９ 凸版に形成したメッシュ
１２０ ブラン胴
１３０ アニロックスローラ
１３９ アニロックスローラに形成したメッシュ
１４０ ドクターローラ
１５０ 塗液
４００ 液晶装置（電気光学装置）
４０４ 液晶（電気光学物質）
４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂ カラーフィルタ
４１０ 第１の透明基板
４１１ 第１の端子領域
４１２、４１６ 配向膜
４２０ 第２の透明基板
４２１ 第２の端子領域
４２７ 平坦化膜
４２９ オーバーコート膜
４３０ シール材
４３５ 液晶封入領域
４４０ 第１の電極パターン
４５０ 第２の電極パターン
４６１、４６２ 偏光板
【発明の属する技術分野】
本発明は、フレキソ印刷工程を有する電気光学装置の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この製造方法におけるフレキソ印刷技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話機などといった電子機器においては、電気光学装置によって表示部が構成されている。電気光学装置としては、電気光学物質として液晶を用いた液晶装置が最も一般的である。
【０００３】
図２および図３（Ａ）に示すように、液晶装置４００は、表面に形成された電極パターン４４０、４５０が対向するように配置された第１の透明基板４１０と第２の透明基板４２０との間に電気光学物質としての液晶４０４が保持されている。
【０００４】
このような液晶装置４００を形成するには、第２の透明基板４２０に対して、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５０、絶縁性のオーバーコート膜４２９、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１６をこの順に形成していく。また、第１の透明基板４１０に対しては、第１の電極パターン４４０、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１２をこの順に形成していく。
【０００５】
但し、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０には、図２に示すように、基板辺４１８、４２８に沿って第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成され、これらの端子領域では、基板間の導通やフレキシブル基板７０の接続が行われる。従って、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９は形成されていない。
【０００６】
このため、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成されている側は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５が形成されている側は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１である。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバーコート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要がある。
【０００７】
従って、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などを形成するにあたってはフレキソ印刷が行われ、このフレキソ印刷に用いるコーティング装置１００では、図５に示すように、ブラン胴１２０の周囲に装備されている凸版１１０に対してアニロックスローラ１３０から塗液が転写されるとともに、凸版１１０の表面のうち、凸部１１１に転写された塗液が基板に転写される。
【０００８】
ここで、アニロックスローラ１３０の表面には、塗液の保持能力を高めることを目的に、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ２でメッシュ１３９が形成されている。また、凸版１１０の凸部１１１の表面にも、塗液の保持能力を高めることを目的に、図７（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ピッチＰ３でメッシュ１１９が形成されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
このようなフレキソ印刷が施される第２の透明基板４２０の表面には、図３（Ｂ）に示すように、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが所定の繰り返しパターンをもって形成されているため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおいて同色のカラーフィルタは、所定のピッチＰ１（同色ピッチ）で形成されている。
【００１０】
また、図５、図６および図７を参照して説明したコーティング装置１００において、配向膜４１６を形成するための塗膜を凸版１１０から第２の透明基板４２０に転写したとき、転写された塗膜の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の跡とが転写される。
【００１１】
従って、第２の透明基板膜４２０において、配向膜４１６には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の跡とが転写され、かつ、その下層側では、同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが所定の同色ピッチＰ１をもって形成されている。しかも、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９のピッチＰ２、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッシュ１１９のピッチＰ３、および同色のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７ＢのピッチＰ１は、略等しい寸法であるが、互いにわずかずつ異なっている。
【００１２】
このため、第２の透明基板４２０において、同色ピッチＰ１をもつカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂ、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３０の跡、および凸版１１０の凸部１１１のメッシュ１１９の跡が互いに干渉しあってモワレが発生し、液晶装置４１０が形成した画像の品位が低下するという問題点がある。
【００１３】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、カラーフィルタの表面側にフレキソ印刷を利用して塗膜を形成したときでも、モワレの発生を防止することのできる電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、複数色のカラーフィルタが所定のピッチをもって形成された基板の表面側に対してフレキソ印刷により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する電気光学装置の製造方法において、前記フレキソ印刷工程で用いたアニロックスローラの表面に形成されているメッシュのピッチ、当該アニロックスローラから転写された塗液を前記基板に転写する凸版において凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記カラーフィルタにおける同色のカラーフィルタのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが等しい寸法であることを特徴とする。
実施の形態に係る本発明では、複数色のカラーフィルタが所定の同色ピッチをもって形成された基板の表面側に対してフレキソ印刷により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する電気光学装置の製造方法において、前記フレキソ印刷工程で用いたアニロックスローラの表面に形成されているメッシュのピッチ、当該アニロックスローラから転写された塗液を前記基板に転写する凸版において凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記カラーフィルタにおける同色のカラーフィルタのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが同一寸法に設定されている。
【００１５】
本発明では、所定の同色ピッチをもつカラーフィルタが形成された基板の表面側に、フレキソ印刷によって配向膜やオーバーコート膜などの塗膜が形成され、この塗膜の表面には、アニロックスローラの所定ピッチのメッシュ跡と、凸版の凸部の表面に形成されていた所定ピッチのメッシュ跡とが転写されているが、これら３つのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが等しいため、モワレの発生要因を除去することができる。それ故、モワレが発生しないので、画像の品位が高い電気光学装置を製造することができる。
【００１６】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、前記アニロックスローラのメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記の同色のカラーフィルタのピッチのいずれもが等しい寸法であることを特徴とする。
実施の形態に係る本発明において、前記アニロックスローラのメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記の同色のカラーフィルタのピッチのいずれもが略同一寸法であってもよい。
【００１７】
本発明において、前記塗膜は、前記基板を前記電気光学装置に用いたとき、電気光学物質の配向状態を制御する配向膜である。
【００１８】
保温発明において、前記電気光学装置に用いる前記基板の表面側にフレキソ印刷により前記塗膜を形成する前に、ダミー基板に対して前記塗膜をフレキソ印刷によって形成することが好ましい。このように構成すると、前記電気光学装置に用いる基板にフレキソ印刷を行うときの条件を安定化しておくことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
添付図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
（液晶装置の構成）
図１および図２はそれぞれ、携帯電話機などの電子機器に使用されている電気光学装置としての液晶装置を斜め下方からみたときの斜視図、および分解斜視図である。図３（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、この液晶装置の断面図、およびこの液晶装置に構成されているカラーフィルタの配列を示す説明図である。
【００２１】
図１、図２および図３（Ａ）に示す電気光学装置は、カラー対応のパッシブマトリクス型の液晶装置４００であり、所定の間隙を介してシール材４３０によって貼り合わされた矩形のガラスなどからなる一対の透明基板間にシール材４３０によって液晶封入領域４３５が区画されているとともに、この液晶封入領域４３５内に液晶４０４が封入されている。ここでは、前記一対の透明基板のうち、液晶封入領域４３５内で縦方向に延びる複数列の第１の電極パターン４４０が形成されている方の基板を第１の透明基板４１０とし、液晶封入領域４３５内で横方向に延びる複数列の第２の電極パターン４５０が形成されている方の基板を第２の透明基板４２０とする。
【００２２】
第２の透明基板４２０には、図３（Ａ）に示すように、第１の電極パターン４４０と第２の電極パターン４５０との交点に相当する領域に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが形成されている。
【００２３】
このようなカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂは、第２の透明基板４２０の表面に所定の繰り返しパターンをもって形成され、図３（Ｂ）に例示したカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂでは、第２の透明基板４２０の幅方向Ｗに向かって同色のカラーフィルタがピッチＰ１（同色ピッチ）をもってストライプ状に形成されている。
【００２４】
また、第２の透明基板４２０では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側に、アクリル樹脂系の絶縁性の平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎｍのポリイミド樹脂からなる配向膜４１６がこの順に形成されている。これに対して、第１の透明基板４１０には、第１の電極パターン４４０、および膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎｍのポリイミド樹脂からなる配向膜４１２がこの順に形成されている。さらに、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０のうちの少なくとも一方の基板の電極パターン上には、基板間の短絡を防止するための絶縁性の薄いオーバーコート膜が形成されるが、図３（Ａ）に示す例では、第２の透明基板４２０の第２の電極パターン４５０上に絶縁性のオーバーコート膜４２９が形成されている。
【００２５】
この液晶装置４００において、第２の電極パターン４５０はＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ／透明導電膜）によって形成されている。第１の電極パターン４４０は、ＩＴＯ膜によって形成されることもあるが、本形態では、薄いアルミニウム膜によって構成されている。このため、薄いアルミニウム膜からなる第１の電極パターン４４０に届いた光は、一部が第１の電極パターン４４０を透過し、一部は第１の電極パターン４４０で反射する。従って、液晶装置４００は、透過型の液晶装置としての機能と、反射型の液晶装置としての機能とを併せもつ半透過・半反射型の液晶装置である。なお、第２の透明基板４２０の外側表面には偏光板４６１が貼られ、第１の透明基板４１０の外側表面には偏光板４６２が貼られている。
【００２６】
このような半透過・半反射型の液晶装置４００を構成するにあたっては、光を完全反射するような膜厚のアルミニウム膜などによって第１の電極パターン４４０を形成し、第１の電極パターン４４０のうち、第２の電極パターン４５０と交差する部分に小さな光透過孔を形成してもよい。
【００２７】
再び図１および図２において、液晶装置４００では、外部との間での信号の入出力および基板間の導通のいずれを行うにも、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の同一方向に位置する各基板辺４１８、４２８付近において第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０のそれぞれに形成されている第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が用いられる。ここで、第２の透明基板４２０としては、第１の透明基板４１０よりも大きな基板が用いられ、第１の透明基板４１０と第２の透明基板４２０とを貼り合わせたときに第１の透明基板４１０の基板辺４１８から第２の透明基板４２０が張り出す部分４２５に駆動用ＩＣ４９０がＣＯＧ実装されている。また、第２の透明基板４２０の第２の端子領域４２１は、駆動用ＩＣ４９０より基板辺４２８の側に位置する部分に入出力端子４８１が形成され、これらの入出力端子４８１に対してフレキシブル基板７０が接続されている。
【００２８】
第２の端子領域４２１において、駆動用ＩＣ４９０より液晶封入領域４３５の側に位置する部分は、第１の透明基板４１０の側との基板間導通用に用いられるので、第１の透明基板４１０との重なり部分に形成されている。また、第１の透明基板４１０において、第１の端子領域４１１は、第２の透明基板４２０の側との基板間導通に用いられるので、第２の透明基板４２０との重なり部分に形成されている。
【００２９】
従って、第１の透明基板４１０と第２の透明基板４２０とを基板間導通剤を含有するシール材４３０で貼り合わせて基板間で基板間導通用端子同士を導通させて、第２の透明基板４２０の入出力端子４８１から駆動用ＩＣ４９０に信号入力すれば、駆動用ＩＣ４９０から出力された信号は、第１の電極パターン４４０および第２の電極パターン４５０に供給されるので、第１の電極パターン４４０と第２の電極パターン４５０との交点に相当する画素を各々駆動することができる。
【００３０】
なお、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１には、配向膜４１２、４１６およびオーバーコート膜４２９は形成されていない。
【００３１】
（液晶装置４００の製造方法）
図４および図５はそれぞれ、フレキソ印刷工程を示す説明図、およびこのフレキソ印刷工程で用いるコーティング装置の説明図である。図６（Ａ）、（Ｂ）ははそれぞれ、図５に示すアニロックスローラに形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。図７（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示す凸版に形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
【００３２】
図３（Ａ）、（Ｂ）に示す液晶装置４００を形成するには、第２の透明基板４２０に対して赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂを印刷した後、これらのカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側にアクリル樹脂系の平坦化膜４２７、第２の電極パターン４５０、オーバーコート膜４２９、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１６をこの順に形成していく。また、第１の透明基板４１０には、ＩＴＯ膜からなる第１の電極パターン４４０、およびポリイミド樹脂からなる配向膜４１２をこの順に形成していく。
【００３３】
但し、液晶装置４００では、図２に示すように、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の基板辺４１８、４２８に沿って、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成され、これらの端子領域において、基板間導通やフレキシブル基板７０の接続が行われる。従って、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成すると支障がある。
【００３４】
このため、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面のうち、長さ方向（図２に矢印Ｌで示す方向）において、第１の端子領域４１１および第２の端子領域４２１が形成されている領域は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が不要な塗膜不要領域１２であり、液晶封入領域４３５が形成されている領域は、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１である。それ故、配向膜４１２、４１６およびオーバーコート膜４２９は、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０の表面に対して選択的に形成する必要がある。
【００３５】
また、第１の透明基板４１０や第２の透明基板４２０は、図４に示すように、これらの基板を単品基板１０として複数、切り出すことのできる大型基板１の状態でフレキソ印刷工程までの工程が行われ、本形態では、これらの工程を行った以降、大型基板１の状態でラビング工程を行い、しかる後に、大型基板１から単品基板形成領域２を切り出して、第１の透明基板４１０および第２の透明基板４２０を単品基板１０を得る。従って、大型基板１の表面では、単品基板形成領域２が周りを切り捨て領域３で囲まれた状態で長さ方向Ｌおよび幅方向Ｗに複数、配置され、これらの単品基板形成領域２の各々が、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などの塗膜が必要な塗膜必要領域１１と、これらの塗膜を形成してはいけない塗膜不要領域１２とを備えている。
【００３６】
それ故、本形態では、大型基板１に対して、ブラン胴１２０の周囲に凸版１１０が装備されたコーティング装置１００を用いてフレキソ印刷を行い、このフレキソ印刷によって形成した塗膜に焼成などの処理を行って、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９などを形成する。
【００３７】
このようなフレキソ印刷に用いられるコーティング装置１００では、図５に示すように、アニロックスローラ１３０とドクターローラ１４０の間に、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成するための塗液１５０を充填し、一定速度でアニロックスローラ１３０とドクターローラ１４０を回転させる。このとき、アニロックスローラ１３０とドクターローラ１４０の間には、均一な厚さの塗液１５０の層が形成される。一方、ブラン胴５の周囲には、大型基板１の長さに対応した凸版１１０が装備されており、ブラン胴１２０をアニロックスローラ１３０に接触させると、凸版１１０の表面に塗液１５０が均一の厚さで転写される。ここで、凸版１１０には、大型基板１に塗液１５０を転写する凸部１１１と、塗液１５０の転写を行わない凹部１１２とが所定のパターンで形成されている。従って、回転するブラン胴１２０に対して大型基板１が凸版１１０に接触しながら移動していくと、大型基板１の表面では、凸版１１０の凸部１１１が当たった領域に塗液１５０が選択的に転写されることになる。
【００３８】
ここで、アニロックスローラ１３０の表面には、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、塗液の保持能力を高めることを目的に筋状のメッシュ１３９が斜めに形成され、このメッシュ１３９の幅方向ＷにおけるピッチはＰ２である。また、図７（Ａ）、（Ｂ）に示すように、凸版１１０の凸部１１１の表面にも、塗液の保持能力を高めることを目的に筋状のメッシュ１１９が斜めに形成され、このメッシュ１１９の幅方向ＷにおけるピッチはＰ３である。
【００３９】
このため、アニロックスローラ１３０から凸版１１０の表面に転写された塗液１５０の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡が転写され、このようなメッシュ１３９の跡がついた塗液１５０が、凸版１１０の凸部１１１から大型基板１に転写される。このため、大型基板１に転写された塗液を焼成して、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成すると、配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９の表面には、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッシュ１１９の跡が転写される。
【００４０】
なお、大型基板１に対して配向膜４１２、４１６やオーバーコート膜４２９を形成した後は、大型基板１の表面にラビング処理を行い、しかる後に、大型基板１から単品基板形成領域２を切り出せば、第１の透明基板４１０や第２の透明基板４２０を単品基板１０として得ることができる。なお、このような切断工程によって大型基板１の切り捨て領域３に相当する部分は廃棄される。
【００４１】
（フレキソ印刷工程の特徴点）
このようにして、第２の透明基板４２０の表面にオーバーコート膜４２９や配向膜４１６を形成するにあたって、本形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されているメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３を、いずれも等しい寸法に設定してある。
【００４２】
このため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの表面側にオーバーコート膜４２９や配向膜４１６を形成した状態において、第２の透明基板４２０の表面側には、幅方向における同色ピッチがＰ１であるカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂが形成されているとともに、その表面側に形成されたオーバーコート膜４２９や配向膜４１６には、幅方向のピッチがＰ２のアニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡と、幅方向のピッチがＰ２のアニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡とが転写されている。それでも、本形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおける幅方向の同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３がいずれも等しい寸法であるため、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの同色パターン、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の跡、および凸版１１０の凸部１１１のメッシュ１１９の跡が互いに干渉し合うことがない。よって、画像の品位が高い液晶装置４００を製造することができる。
【００４３】
また、液晶装置４００に用いる第２の透明基板４２０の表面側にフレキソ印刷により、配向膜４１６やオーバーコート膜４２９を形成するための塗膜を形成する前には、ダミー基板に対して前記の塗膜をフレキソ印刷によって形成し、液晶装置４００に実際に組み込む第２の透明基板４２０にフレキソ印刷を行うときの条件を前もって安定化しておくことが好ましい。
【００４４】
［その他の実施の形態］
上記形態では、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３がいずれも等しい寸法になっている例であったが、これらのピッチＰ１、Ｐ２、Ｐ３のいずれか２つが等しい寸法であれば、モワレの発生要因を除去することができる。従って、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１とアニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２とが等しい構成、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１の幅方向におけるピッチＰ２と凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３が等しい構成、あるいは、凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９の幅方向におけるピッチＰ３とカラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの幅方向における同色ピッチＰ１が等しい構成であってもよい。
【００４５】
また、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂの配列、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３９の配列や形状、凸版１１０のメッシュ１１９の配列や形状としては、種々の形態が採用されるが、カラーフィルタ４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂにおいて同色のカラーフィルタが繰り返し出現する方向において、その同色ピッチＰ１、アニロックスローラ１３０のメッシュ１３１のピッチＰ２、および凸版１１０の凸部１１１の表面に形成されていたメッシュ１１９のピッチＰ３のうちの２つのピッチが等しければ、モワレの発生要因を除去することができので、モワレの発生を防止することができる。
【００４６】
なお、上記形態では、パッシブマトリクス型の液晶装置を例に説明したが、アクティブマトリクス型の液晶装置でも、カラーフィルタが形成された基板の表面側に、配向膜やオーバーコート膜をフレキソ印刷によって形成するので、アクティブマトリクス型の液晶装置、その他の電気光学装置を製造するのに本発明を適用してもよい。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、所定の同色ピッチをもつカラーフィルタが形成された基板の表面側に、フレキソ印刷によって配向膜やオーバーコート膜などの塗膜が形成され、この塗膜の表面には、アニロックスローラの所定ピッチのメッシュ跡と、凸版の凸部の表面に形成されていたメ所定ピッチのメッシュ跡とが転写されるが、これらのピッチは、少なくとも２つのピッチが等しいため、モワレの発生要因を除去することができる。それ故、モワレが発生しないので、画像の品位が高い電気光学装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】携帯電話機などに用いられる液晶装置を斜め下方から見た斜視図である。
【図２】図１に示す液晶装置を斜め下方から見た分解斜視図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１および図２に示す液晶装置の断面図、およびこの液晶装置に形成されているカラーフィルタの平面的な配置構造を示す平面図である。
【図４】フレキソ印刷工程を示す説明図である。
【図５】フレキソ印刷工程で用いるコーティング装置の説明図である。
【図６】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示すアニロックスローラに形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
【図７】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ、図５に示す凸版に形成されているメッシュの説明図、およびこのメッシュの断面図である。
【符号の説明】
１ 大型基板
２ 単品基板形成領域
３ 切り捨て領域
１０ 単品基板
１１ 塗膜必要領域
１２ 塗膜不要領域
１００ コーティング装置
１１０ 凸版
１１１ 凸版の凸部
１１２ 凸版の凹部
１１９ 凸版に形成したメッシュ
１２０ ブラン胴
１３０ アニロックスローラ
１３９ アニロックスローラに形成したメッシュ
１４０ ドクターローラ
１５０ 塗液
４００ 液晶装置（電気光学装置）
４０４ 液晶（電気光学物質）
４０７Ｒ、４０７Ｇ、４０７Ｂ カラーフィルタ
４１０ 第１の透明基板
４１１ 第１の端子領域
４１２、４１６ 配向膜
４２０ 第２の透明基板
４２１ 第２の端子領域
４２７ 平坦化膜
４２９ オーバーコート膜
４３０ シール材
４３５ 液晶封入領域
４４０ 第１の電極パターン
４５０ 第２の電極パターン
４６１、４６２ 偏光板
Claims (4)
- 複数色のカラーフィルタが所定のピッチをもって形成された基板の表面側に対してフレキソ印刷により塗膜を形成するフレキソ印刷工程を有する電気光学装置の製造方法において、
前記フレキソ印刷工程で用いたアニロックスローラの表面に形成されているメッシュのピッチ、当該アニロックスローラから転写された塗液を前記基板に転写する凸版において凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記カラーフィルタにおける同色のカラーフィルタのピッチのうち、少なくとも２つのピッチが等しい寸法であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項１において、前記アニロックスローラのメッシュのピッチ、前記凸版の前記凸部表面に形成されているメッシュのピッチ、および前記の同色のカラーフィルタのピッチのいずれもが等しい寸法であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
- 請求項１または２において、前記塗膜は、前記基板を前記電気光学装置に用いたとき、電気光学物質の配向状態を制御する配向膜であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
- 請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記電気光学装置に用いる前記基板の表面側にフレキソ印刷により前記塗膜を形成する前に、ダミー基板に対して前記塗膜をフレキソ印刷によって形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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