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JP3710364B2 - インクジェットヘッド - Google Patents

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JP3710364B2
JP3710364B2 JP2000232407A JP2000232407A JP3710364B2 JP 3710364 B2 JP3710364 B2 JP 3710364B2 JP 2000232407 A JP2000232407 A JP 2000232407A JP 2000232407 A JP2000232407 A JP 2000232407A JP 3710364 B2 JP3710364 B2 JP 3710364B2
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    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/03Specific materials used

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクを吐出して記録を行うインクジェットヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】
米国特許第4723129号公報あるいは米国特許第4740796号公報等に開示されているインクジェット記録方式は、高速、高密度で高精度、高画質の記録が可能で、かつカラー化、コンパクト化に適している。このインクジェット記録方式を用いる、熱エネルギーを利用してインクを発泡させて記録媒体にインクを吐出する記録ヘッドは、インクを発泡させるための発熱抵抗体とこれに電気的接続を行う配線とを同一基板上に作製してインクジェット記録ヘッド用基板とし、さらにその上にインクを吐出させるためのノズルを形成した構成が一般的である。
【0003】
そして、このインクジェット記録ヘッド用基板は、一方では投入する電気エネルギーの省力化、他方ではインクの発泡にともなう機械的ダメージおよび熱パルスによる発熱部の破壊による基板の寿命の低下を防ぐために、様々な工夫がなされている。とりわけ一対の配線パターンの間に位置する発熱部を有する発熱抵抗体をインクから保護する保護膜については、多くの工夫がなされている。
【0004】
この保護膜は、熱の効率から見ると、熱伝導率の高いもの、あるいは薄い方が有利である。ところが一方で、保護膜は、発熱体に接続する配線をインクから守るという役目があり、膜の欠陥の確率からすると、厚い方が有利であり、エネルギー効率と信頼性の観点から最適の厚さに設定されている。ただし、保護膜はインクの発泡によるキャビテーションダメージすなわち機械的ダメージと、発泡後の表面が高温になることから、インク成分との高温時での化学反応によるダメージとの両方の影響を受ける。
【0005】
このため、実際には配線を守るための絶縁性の膜と、機械的、化学的ダメージに安定な膜の両立が難しく、このことからインクジェット用基板の保護膜の構成は上層にインクの発泡による機械的および化学的ダメージに対して安定性の高い膜を形成し、下層は配線を守るための絶縁性の膜を形成することが一般的である。具体的には上層には機械的、化学的安定性の極めて高い膜であるTa膜、下層には、既存の半導体製造装置で安易に安定な膜が形成できるSiN膜やSiO膜を形成することが一般的である。
【0006】
詳述すると、配線上に保護膜としてSiN膜を約0.2〜1μm形成し、そのあとに上層の保護膜、一般的にはそのキャビテーションダメージに対する膜としての性能から耐キャビテーション膜と呼ばれるTa膜を0.2〜0.5μmの厚さに形成する。この構成によってインクジェット用基板の発熱抵抗体の寿命および信頼性の両立を図っている。
【0007】
また上記のような機械的、化学的ダメージの他に、発熱部では、インクに含まれる色材および含有物などが高温加熱によって分子レベルで分解され、難溶性の物質になり、上層の保護膜である耐キャビテーション膜上に物理吸着する現象が発生する。この現象はコゲーション(以下、「コゲ」と称す)と呼ばれている。このように、耐キャビテーション膜上に難溶性の有機物や無機物が吸着すると、発熱抵抗体からインクへの熱伝導が不均一となり、発泡が不安定となる。このため、発熱部における耐キャビーション膜上にコゲが発生しない必要があるが、上記のTa膜は比較的耐コゲ性の良好な膜として一般的に採用されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで近年、インクジェットプリンターの性能の飛躍的な向上によりインクの性能の向上、例えば高速記録に対応してブリーディング(カラー異色インク間でのにじみ)の防止が求められるとともに、高画質化に対応して発色性や耐候性の向上が求められて来ている。このため、インク中に様々な成分が追加され、カラー画像を形成するインクの種類、イエロー(Yellow)、マゼンタ(Magenta)、シアン(Cyan)の三色にも異なる成分が追加されるようになる。
【0009】
この結果、例えば同一基板上にY、M、Cの三色の発熱部とこの上層保護膜としてTa膜を形成しているインクジェットヘッドにおいて、そのインク成分の違いから、ある色に対応する発熱部では今まで安定とされたTa膜さえも腐食しその結果、下層保護層、および発熱体までもダメージを受け破壊されるという現象が発生している。例えば、Ca、Mgなどの二価金属塩や、キレート錯体を形成する成分を含有するインクを用いた場合に、インクとの熱化学反応によりTa膜が腐食されやすい。
【0010】
一方、このインク成分の改良に対応するように他の耐キャビテ−ション膜も開発されて来ている。例えばTa膜の代わりに、本出願人の特許第2683350号に例示されるTaを含むアモルファス合金を使用すると、インク成分中に腐食性の強いものが含まれていてもダメージはほとんど受けないことが確認されている。
【0011】
そこで、上記のようなY、M、Cの三色のインクを吐出できるインクジェットヘッドにおける発熱部の上層保護膜としてTaを含むアモルファス合金を使用することが検討できるが、このTaを含むアモルファス合金膜は耐インク腐食性の高い代わりに、表面がほとんどダメージを受けないために逆にコゲが発生しやすいという傾向が見られる。
【0012】
そのため、ある色に対応する発熱部では上層保護層はほとんど腐食されない代わりに、コゲ性の問題が生じてくる。そればかりか、別の色においてコゲ性の高いインクを使用する場合は、従来のTaではコゲ性はほとんど問題にならなかったのが、Taを含むアモルファス合金にした為に顕著になるという現象が生じてしまう。なお、従来のTaにおいてコゲの発生が少ないのは、Ta膜の若干の腐食とコゲとがバランスよく生じ、Ta膜表面が若干の腐食により除々に削れてコゲの累積発生が抑えられているためと推測できる。
【0013】
以上のように、インクと接する上層保護膜としてTaもしくはTaを含むアモルファス合金のいずれか一方を採用する構成では、同一基板上でコゲ性の高いインクと腐食性の強いインクとを色別に使用するインクジェットヘッドの寿命および信頼性の両立を十分に図ることが困難になって来ている。
【0014】
そこで本発明の目的は、上記のような実状に鑑み、コゲ性の高いインクと腐食性の高いインクの両方のインクを使用可能にするインクジェットヘッドを提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、 1 のインクを吐出するための発熱部を含む第 1 インク吐出部と、第 2 のインクを吐出するための発熱部を含む第 2 インク吐出部とを有し、発熱部を形成する発熱抵抗体からの熱エネルギーをインクに付与することによりインクを吐出するインクジェットヘッドにおいて、
前記第 1 のインクは、前記第 2 のインクよりも腐食性を強める成分を含んでおり、
前記第 2 のインクは、前記第1のインクよりも、前記発熱部の発熱時に当該発熱部上にコゲを生じさせやすいものであり、
前記第 1 インク吐出部の発熱部最表面にはCrの酸化物を含んだ酸化膜が表面に形成された耐キャビテーション層を有するとともに、前記第 2 インク吐出部の発熱部最表面にはTaもしくはTaAlにて形成された耐キャビテーション層を有することを特徴とする。
【0016】
また、本発明は、第 1 のインクを吐出するための発熱部を含む第 1 インク吐出部と、第 2 のインクを吐出するための発熱部を含む第 2 インク吐出部とを有し、発熱部を形成する発熱抵抗体からの熱エネルギーをインクに付与することによりインクを吐出するインクジェットヘッドにおいて、
前記第 1 のインクは、前記第 2 のインクよりも腐食性を強める成分を含んでおり、
前記第 2 のインクは、前記第1のインクよりも、前記発熱部の発熱時に当該発熱部上にコゲを生じさせやすいものであり、
前記第 1 インク吐出部および前記第 2 インク吐出部の発熱部上にはTaを含むアモルファス合金膜が設けられているとともに、前記第 2 インク吐出部のみに対して前記Taを含むアモルファス合金膜上に更にTa層を有することを特徴とする。
【0021】
このようなインクジェットヘッドの構成によれば、ヘッド用基体上の、コゲを生じさせやすいインクが使用される領域の発熱部では、インクと接する耐キャビテーション膜の材料にTaを用いたことにより、ヒーター駆動パルスの増加にともないTa膜表面が若干ずつ削れてコゲの累積発生が抑えられるので、発泡の効率が低下しない。一方、ヘッド用基体上の、腐食性の高いインクが使用される領域の発熱部では、耐キャビテーション膜の材料にTaを含むアモルファス合金を用いているため、腐食がほとんどない。したがって、ヘッド用基体上に一直線に並べられた複数の発熱部をインクの種類別に分けて使用する場合、そのインクの種類にコゲを生じさせやすいインクとTaを腐食しやすいインクとが含まれていても、両方のインクに対してヘッド用基体は十分な寿命と信頼性の両立を図ることができる。
【0023】
【発明の実施の形態】
本実施形態によるインクジェットヘッドは、基板上に、発熱部を形成する発熱抵抗体と、該発熱抵抗体に電気的に接続する配線電極と、発熱抵抗体と配線との上に絶縁保護膜を介して設けられた耐キャビテーション膜とを有するインクジェットヘッド用基体上に、インクを吐出する吐出口に連通するインク路が設けられ、複数のインクがインク路別に分けられて使用可能となるようインク別にインク路が設けられたものである。特に、耐キャビテーション膜は、インク路別に使用されるインク種類毎に異なる膜材料で構成され、ある種類のインクに対応する部分はTaを含むアモルファス合金膜で、別の種類のインクに対応する部分はそれよりも耐インク腐食性の低いTaの膜で構成される。
【0024】
本実施形態では一部の耐キャビテーション膜はTaとしたが、インクに徐々に腐食されるものであれば、それ以外の材料であってもよい。また、他の部分の耐キャビテーション膜はTaを含むアモルファス合金としたが、耐インク腐食性の高いものであれば材料の種類に制限されるものではない。
【0025】
また、複数のインクの異なる特徴、すなわちコゲの発生しやすいインクと腐食性の高いインクとに対する発熱部の寿命を別々の材料によって伸ばすという思想の構成であれば、耐キャビテーション膜にて部分的に変えた材料の種類は2種類に限られずに3種類以上であってもよい。
【0026】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照にして説明する。
【0027】
(実施形態1)
図1は本発明の実施形態1によるインクジェットヘッド用基体を示し、(a)ヘッド用基体の要部を示す模式的上面図、(b)は図(a)中のX1−X2の一点鎖線によって切断した模式的断面図、(c)は図(a)中のY1−Y2の一点鎖線によって切断した模式的断面図である。
【0028】
図1に示すように、Si基板3の上に、蓄熱層8として酸化シリコン膜が形成されており、その上に発熱抵抗体層4、電極配線2としてAl層がそれぞれ所定のパターン形状に形成されている。一対の電極配線2同士の間隙にある発熱抵抗体層4の部分が、上面のインクを急激に加熱沸騰させる発熱部20となる。
【0029】
これら発熱抵抗体層4および電極配線2を覆う様に、主に電極2間の絶縁性を保つ保護膜5として窒化シリコン層が形成され、さらにその上に、少なくとも2種類の材料で構成された1層の耐キャビテーション膜が形成されている。図1(a)に示すように、このヘッド用基体は同一基板上に一直線に並べられた複数の発熱部1をインクの種類別(本例ではイエロー、マゼンタ、シアンの色インク)に分けて使用するものである。そこで本例の場合は、イエロー領域およびマゼンタ領域では第1の耐キャビテーション膜6が、シアン領域では第2の耐キャビテーション膜7が形成されている。
【0030】
特に、腐食性の高いシアンインクと、比較的コゲを発生させやすいイエローおよびマゼンタインクを使用する場合、シアン領域にある第2の耐キャビテーション膜7としてはTaを含むアモルファス合金膜が形成され、イエローおよびマゼンタ領域にある第1の耐キャビテーション膜6としては第2の耐キャビテーション膜7より耐インク腐食性の低いTaの膜が用いられる。
【0031】
本形態では、比較的コゲ性の良好な第1の耐キャビテーション膜6としてTaを用いるが、TaAlを用いても同様である。
【0032】
また、第2の耐キャビテーション膜7としてのTaを含むアモルファス合金は、Ta,Fe,Ni,Crからなる。このような合金により耐インク腐食性の高いものとしている。また、Ti、Zr、Hf、Nb及びWからなる群より選ばれた1種類以上の原子を含んでいてもよい。
【0033】
さらに上記アモルファス合金は組成式(I):TaαFeβNiγCrδ (但し、10at.%≦α≦30at.%、且つ、α+β<80at.%、且つ、α<β、且つ、δ>γ、且つ、α+β+γ+δ=100at.%である。)で表されるTaを含むアモルファス合金がより好ましい。この場合、Taの量が10at.%〜30at.%の範囲と、上記組成のTaを含むアモルファス合金よりも低く設定してある。このような低Ta比を採用することで、合金に適度なアモルファス領域を付与して不動態膜化し、腐食反応の起点となる結晶界面の存在箇所を有意に減少させ、耐キャビテーション性を良好なレベルに維持しつつ、耐インク性を向上させることができる。特にCa,Mgなどの2価金属やキレート錯体を形成する成分が含有されたインクに対して、不動態膜としての効果が発揮され、インクによる腐食を防止することができる。なお、上記組成式(I)におけるαは10at.%≦α≦20at.%であることがより好ましい。また、γ≧7at.%、且つ、δ≧15at.%であること、さらにはγ≧8at.%、且つ、δ≧17at.%がより好ましい。
【0034】
また本例のように第2の耐キャビテーション膜7を、Taを含むアモルファス合金膜とした場合に限らず、同様に耐インク腐食性を持つもの、例えばCrの酸化物を含んだ酸化膜が表面に形成された耐キャビテーション膜を用いても同様である。
【0035】
次に、上述の構造をもつインクジェットヘッド用基体の製造方法を、図2および図3に基づいて説明する。図2は図1(a)に示したX1−X2線に沿った断面で見た成膜工程図、図3は図1(a)に示したZ1−Z2線に沿った断面で見た成膜工程図である。
【0036】
図2(a)に示すように、Si基板3に熱酸化法、スパッタ法、CVD法などによって、発熱抵抗体の下地としての蓄熱層8となる酸化シリコン膜を2400nm形成する。
【0037】
次に図2(b)に示すように、蓄熱層8上に、反応性スパッタリングにより、発熱抵抗体層4となるTaN層を約100nm、電極配線2となるAl層をスパッタリングにより500nmの厚さに形成する。
【0038】
次に、フォトリソグラフィ法を用いて、Al層をウェットエッチングし、さらにTaN層をリアクティブエッチングし、断面形状が図2(c)(平面形状は図1(a)を参照のこと)のような電極配線2および発熱抵抗体層4を形成する。図1に示した発熱部1は、発熱抵抗体層4上のAl層が除去された部分であり、電極配線2間に電流を流したときにインクに付与する熱を生じる。
【0039】
次に、図2(d)に示すように、保護膜5として窒化シリコン膜を1000nmの厚さにCVD法によって形成する。
【0040】
ここまでの工程による膜断面は図1(a)に示したイエロー,マゼンタおよびシアンの領域で全て同じである。
【0041】
次に、同一基板上の複数の領域毎に異なる耐キャビテーション膜を形成するが、先ずは図3(a)に示すように保護膜5の表面全体に、第2の耐キャビテーション膜7としてその成分がTa:約18at.%,Fe:約60at.%,Cr:13at.%,Ni:約9at.%のTaを含むアモルファス合金膜をスパッタリング法で約100nmの厚さに形成する。このTaを含むアモルファス合金膜7の成膜は、Ta−Fe−Cr−Niからなる合金ターゲットを用いたスパッタリング法のほか、別々のTaターゲットとFe−Cr−Niターゲットを用い、それぞれに接続された2台の電源から別個のパワーを印加する、2元同時スパッタリング法により形成することも可能である。
【0042】
次に、フォトリソグラフィ法を用いて、Taを含むアモルファス合金7上にレジストパターンを形成し、図3(b)に示すように、フッ化水素酸と硝酸を主成分とするエッチング液でエッチングして所定の形状とする。ここでエッチングする領域は本例では図1(a)に示したイエローおよびマゼンタ領域とする。
【0043】
さらに図3(c)に示すように第1の耐キャビテーション膜6としてTa膜をスパッタリング法で約150nmの厚さに形成する。
【0044】
次に図3(d)に示すように、フォトリソグラフィ法を用いて、Ta膜6上にレジストパターン(このパターンは図1(a)に示したイエローおよびマゼンタ領域に相当する。)を形成し、CF4ガスを主成分とするドライエッチングでTa膜6をエッチングする。ここで先に形成したTaを含むアモルファス合金膜7上のTa膜6をエッチングする必要があるが、上記のドライエッチングではTaエッチングが進行し、Taを含むアモルファス合金層とTa膜6との界面まで達しても耐腐食性の高いTaを含むアモルファス合金は表面にダメージを受けない。
【0045】
次に図2(f)に示すように、耐キャビテーション膜6をエッチングして保護膜5の一部を露出させ、フォトリソグラフィ法により保護膜5上にレジストパターンを形成し、CF4ガスを用いたドライエッチングで外部電源との接続に必要なAl電極による電極パッドを露出させることにより、インクジェットへツド用基体の要部の製造を完了する。但し、図2に示した工程は図1(a)のX1−X2線に沿った断面で見た製造工程であったが、図2(e),(f)中の第1の耐キャビテーション膜6を第2の耐キャビテーション膜7に変えれば、図1(a)のY1−Y2線に沿った断面で見た工程と同じになる。
【0046】
なお、米国特許第4,429,321号公報の様に、発熱抵抗体を駆動する集積回路を同一のSi基板内に作り込んでもよい。この場合、集積回路部分は、配線部分と同様に、保護膜5、第1の耐キャビテーション膜6、および第2の耐キャビテーション膜7で覆われていることが好ましい。
【0047】
このようにして製造したインクジェットヘッド用基体を用いてインクジェットヘッド(例えば図5のヘッド参照)を組み立て、同一基板上に形成したノズル列を3分割してそれぞれにTa腐食性の高いシアン(Cyan)インク、比較的コゲを累積発生させやすいイエロー(Yellow)およびマゼンタ(Magenta)インクを供給し、そのヘッド性能を確認したところ、シアンインクを使用したヒーター部分はヒーター破壊が起こらず、イエローおよびマゼンタインクを使用したヒーター部分はコゲの発生がほとんどなく吐出パワーの減少が見られず、結果として1*10E9パルス付近迄のヘッド寿命が確保できた。
【0048】
すなわち、本実施形態によれば、ヘッド用基体上の、コゲを生じさせやすいインクが使用される領域の発熱部では、インクと接する耐キャビテーション膜の材料にTaを用いたことにより、ヒーター駆動パルスの増加にともないTa膜表面が若干ずつ削れてコゲの累積発生が抑えられるので、発泡の効率が低下しない。一方、ヘッド用基体上の、腐食性の高いインクが使用される領域の発熱部では、耐キャビテーション膜の材料にTaを含むアモルファス合金を用いているため、腐食がほとんどない。したがって、ヘッド用基体上に一直線に並べられた複数の発熱部をインクの種類別に分けて使用する場合、そのインクの種類にコゲを生じさせやすいインクとTaを腐食しやすいインクとが含まれていても、両方のインクに対してヘッド用基体は十分な寿命と信頼性の両立を図ることができる。
【0049】
(実施形態2)
上述の実施形態1では一層の耐キャビテーション層において各インクの種類に対応する領域ごとに成膜材料を変えた構成としたが、ここでは、絶縁保護層の表面全体に耐キャビテーション膜を形成し、この上に別の材料からなる耐キャビテーション膜を特定のインク領域のみに対して形成する形態を説明する。
【0050】
図4は本発明の実施形態2によるインクジェットヘッド用基体の要部を説明するため断面図で、(a)は図1(a)中のX1−X2に沿った断面に相当する本形態の膜断面を示し、(b)は図1(a)中のZ1−Z2に沿った断面に相当する本形態の膜断面を示す。
【0051】
図4において、絶縁性を保つ保護膜5の表面全体に第2の耐キャビテーション膜7として耐インク腐食性の高いTaを含むアモルファス合金膜が形成され、その上の、比較的コゲを発生させやすいイエローおよびマゼンタインクの領域のみに対して、第1の耐キャビテーション膜6として比較的コゲ性の良好なTa膜が形成されている。
【0052】
このような形態によれば、使用途中でイエローおよびマゼンタインクがTa腐食性の高い成分が含まれたものとなっても、駆動パルスの増加に伴う腐食の進行はTaを含むアモルファス合金膜7とTa膜6との界面で止まるので、発熱部の寿命を維持することができる。
【0053】
なお本形態では、ヘッド用基体上の、シアンインクに対応する領域を一層の耐インク腐食性の高い、Taを含むアモルファス合金膜とし、イエローおよびマゼンタインクに対応する領域を、下層がTaを含むアモルファス合金膜で、かつ上層がそれより耐インク腐食性の低いTaからなる2層の膜としたが、一層のTaを含むアモルファス合金膜の領域と、下層がTaを含むアモルファス合金膜で上層がTaからなる領域とを形成する場所は、コゲを生じさせやすいインクとTaを腐食しやすいインクとが使用される領域とに対応して適宜変更される。
【0054】
(実施形態3)
以下、本発明のインクジェットヘッド用基体を適用可能なインクジェットヘッド及びインクジェット記録装置について説明する。
【0055】
図5は、上述した実施形態1または2によるヘッド用基体を用いて組み立てたインクジェットヘッドの要部を切り欠いて見た斜視図である。この図によれば、エッチング、蒸着スパッタリング等の半導体プロセス工程を経て、上述した実施形態1または2によるヘッド用基体1102上に成膜形成された発熱抵抗体1103、配線電極1104、液路壁1110、天板1106から構成されているインクジェットへツド1101が示されている。
【0056】
記録用液体1112は図示していない液体貯蔵室から液体供給管1107を通してヘッド1101の共通液室1108内に供給される。図4中、符号1109は液体供給管用コネクタを示している。共通液室1108内に供給された液体1112はいわゆる毛管現象により液路内に供給され、液路先端の吐出口面(オリフィス面)でメニスカスを形成することにより安定に保持される。また、電気熱変換体1103は各液路毎に配設されている。各液路は基体1102上の液路壁1110が天板1106と接合されることで形成される。また、上記のような液体供給管用コネクタ1109と共通液室1108とこれに連通する複数の液路が、同一のヘッド用基体上において記録用液体の種類(例えば色)毎に区分けされている。
【0057】
ここで、電気熱変換体1103に通電することにより、電気熱変換体面上の液体が急峻に加熱され、液路中に気泡が生起され、その気泡の膨張、収縮により吐出口1111から液体を吐出し液滴が形成される。
【0058】
図6は、本発明が適用されるインクジェット記録装置の要部を示す模式的斜視図である。図6に示されるインクジェット装置600に搭載されたヘッドカートリッジ601は、印字記録のためにインクを吐出する液体吐出ヘッドと、その液体吐出ヘッドに供給される液体を保持する複数色のインクタンクとを有するものである。
【0059】
ヘッドカートリッジ601は、図6に示すように、駆動モータ602の正逆回転に連動して駆動力伝達ギヤ603および604を介して回転するリードスクリュー605の螺旋溝606に対して係合するキャリッジ607上に搭載されている。駆動モータ602の動力によってヘッドカートリッジ601がキャリッジ607ともとにガイド608に沿って矢印aおよびbの方向に往復移動される。インクジェット記録装置600には、ヘッドカートリッジ601から吐出されたインクなどの液体を受ける被記録媒体としてのプリント用紙Pを搬送する被記録媒体搬送手段(不図示)が備えられている。その被記録媒体搬送手段によってプラテン609上を搬送されるプリント用紙Pの紙押さえ板610は、キャリッジ607の移動方向にわたってプリント用紙Pをプラテン609に対して押圧する。
【0060】
リードスクリュー605の一端の近傍には、フォトカプラ611および612が配設されている。フォトカプラ611および612は、キャリッジ607のレバー607aの、フォトカプラ611および612の領域での存在を確認して駆動モータ602の回転方向の切り換えなどを行うためのホームポジション検知手段である。プラテン609の一端の近傍には、ヘッドカートリッジ601の吐出口のある前面を覆うキャップ部材614を支持する支持部材613が備えられている。また、ヘッドカートリッジ601から空吐出などされてキャップ部材614の内部に溜まったインクを吸引するインク吸引手段615が備えられている。このインク吸引手段615によりキャップ部材614の開口部を介してヘッドカートリッジ601の吸引回復が行われる。
【0061】
インクジェット記録装置600には本体支持体619が備えられている。この本体支持体619には移動部材618が、前後方向、すなわちキャリッジ607の移動方向に対して直角な方向に移動可能に支持されている。移動部材618には、クリーニングブレード617が取り付けられている。クリーニングブレード617はこの形態に限らず、他の形態の公知のクリーニングブレードであってもよい。さらに、インク吸引手段615による吸引回復操作にあたって吸引を開始するためのレバー620が備えられており、レバー620は、キャリッジ607と係合するカム621の移動に伴って移動し、駆動モータ602からの駆動力がクラッチ切り換えなどの公知の伝達手段で移動制御される。ヘッドカートリッジ601に設けられた発熱体に信号を付与したり、前述した各機構の駆動制御を司ったりするインクジェット記録制御部は記録装置本体側に設けられており、図6では示されていない。
【0062】
上述した構成を有するインクジェット記録装置600では、前記の被記録媒体搬送手段によりプラテン609上を搬送されるプリント用紙Pに対して、ヘッドカートリッジ601がプリント用紙Pの全幅にわたって往復移動する。この移動時に不図示の駆動信号供給手段からヘッドカートリッジ601に駆動信号が供給されると、この信号に応じて液体吐出ヘッド部から被記録媒体に対してインク(記録液体)が吐出され、記録が行われる。
【0063】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、インクジェットヘッド用基体において、基板上の発熱抵抗体および電極配線の上に絶縁保護層を介して設けられた耐キャビテーション膜を、所定のインクの種類に対応する領域ごとにTa膜もしくはTaAl膜と、Taを含むアモルファス合金膜とに分けて構成した。
【0064】
この事により、ヘッド用基体上の、コゲを生じさせやすいインクが使用される領域の発熱部では、ヒーター駆動パルスの増加にともないTa膜表面が若干ずつ削れてコゲの累積発生が抑えられるので、発泡の効率が低下しない。一方、ヘッド用基体上の、腐食性の高いインクが使用される領域の発熱部では、Taを含むアモルファス合金のために腐食がほとんどない。したがって、ヘッド用基体上に一直線に並べられた複数の発熱部をインクの種類別に分けて使用する場合、そのインクの種類にコゲを生じさせやすいインクとTaを腐食しやすいインクとが含まれていても、両方のインクに対してヘッド用基体は十分な寿命と信頼性の両立を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1によるインクジェットヘッド用基体を示した図である。
【図2】図1(a)中のX1−X2断面で見た、インクジェットヘッド用基体の製造工程を示す図である。
【図3】図1(a)中のZ1−Z2断面で見た、インクジェットヘッド用基体の耐キャビテーション膜における材料の異なる領域間の成膜工程を示す図である。
【図4】本発明の実施形態2によるインクジェットヘッド用基体を示した図である。
【図5】本発明の実施形態1または2によるヘッド用基体を用いて組み立てたインクジェットヘッドの要部を切り欠いて見た斜視図である。
【図6】本発明が適用されるインクジェット記録装置の要部を示す模式的斜視図である。
【符号の説明】
1 発熱部
2 電極配線(Al)
3 Si基板
4 発熱抵抗体層(TaN)
5 保護膜(SiN)
6 第1の耐キャビテーション膜(Ta)
7 第2の耐キャビテーション膜(Taを含むアモルファス合金)
8 蓄熱層(SiO2

Claims (2)

  1. 第1のインクを吐出するための発熱部を含む第1インク吐出部と、第2のインクを吐出するための発熱部を含む第2インク吐出部とを有し、発熱部を形成する発熱抵抗体からの熱エネルギーをインクに付与することによりインクを吐出するインクジェットヘッドにおいて、
    前記第1のインクは、前記第2のインクよりも腐食性を強める成分を含んでおり、
    前記第2のインクは、前記第1のインクよりも、前記発熱部の発熱時に当該発熱部上にコゲを生じさせやすいものであり、
    前記第1インク吐出部の発熱部最表面にはCrの酸化物を含んだ酸化膜が表面に形成された耐キャビテーション層を有するとともに、前記第2インク吐出部の発熱部最表面にはTaもしくはTaAlにて形成された耐キャビテーション層を有することを特徴とするインクジェットヘッド。
  2. 第1のインクを吐出するための発熱部を含む第1インク吐出部と、第2のインクを吐出するための発熱部を含む第2インク吐出部とを有し、発熱部を形成する発熱抵抗体からの熱エネルギーをインクに付与することによりインクを吐出するインクジェットヘッドにおいて、
    前記第1のインクは、前記第2のインクよりも腐食性を強める成分を含んでおり、
    前記第2のインクは、前記第1のインクよりも、前記発熱部の発熱時に当該発熱部上にコゲを生じさせやすいものであり、
    前記第1インク吐出部および前記第2インク吐出部の発熱部上にはTaを含むアモルファス合金膜が設けられているとともに、前記第2インク吐出部のみに対して前記Taを含むアモルファス合金膜上に更にTa層を有することを特徴とするインクジェットヘッド。
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