JP3555759B2

JP3555759B2 - 表示装置

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Publication number: JP3555759B2
Application number: JP2001181821A
Authority: JP
Inventors: 二郎山田; 祐一岩瀬
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Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2001-06-15
Filing date: 2001-06-15
Publication date: 2004-08-18
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示装置に関し、更に具体的には、有機ＥＬ素子を利用したディスプレイに好適な表示素子の改良に関するものである。
【０００２】
【背景技術】
有機ＥＬ素子は、一般的に、有機ＥＬ発光層を電極で挟んだ積層構造となっており、一方の電極はＡｌなどの金属であり、他方の電極はＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）などによる光透過性の透明電極となっている。有機ＥＬ発光層から出力された光は、もちろん透明電極側から直接出力されるものもあるが、金属電極側に出力された光は、金属電極で反射されて透明電極側に出力される。このような有機ＥＬ素子を利用した表示装置では、外光から透明電極を介して有機ＥＬ発光層に侵入する光も金属電極側で反射され、透明電極側から出力されるようになる。すなわち、有機ＥＬ発光層による本来の映像を形成する光に外光も加わるようになる。このため、外光が存在する状況下，例えば日中などでは画像のコントラストが低下してしまう。
【０００３】
このようなコントラストの低下を改善する従来技術としては、特開平９−１２７８８５号公報に開示された表示素子がある。これは、表示装置の発光面側に直線偏光板と１／４波長板を組み合わせた円偏光手段を設けた構成となっている。外部より入射光の円偏光方向と、表示装置側で反射された円偏光方向が反対方向になるため、外光は円偏光手段によって遮断されるようになる。また、特開２０００−３１５５８２号公報には、金属電極であるカソード電極と有機ＥＬ発光層との間に可視光吸収層を設けるようにした有機ＥＬ素子が記載されている。
【０００４】
更に、単純にＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各色透過のカラーフィルタを各Ｒ，Ｇ，Ｂの発光画素上に組み合わせ配置することで、発光色以外の外光反射を抑えることはできる。しかしこの方法では、Ｒ，Ｇ，Ｂの本来の発光色に対する外光反射は低減されない。このため、コントラストはやはり低下することになる。このような従来技術として、特開２０００−３７８６号に開示された有機ＥＬ表示装置がある。これによれば、光透過率の主ピークの波長が４９０〜５３０ｎｍのＧのカラーフィルタがＧの有機発光層に配置される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、以上のような背景技術には次のような不都合がある。
▲１▼特開平９−１２７８８５号公報の表示素子では、外光反射に対する抑制効果は大きいものの、本来の有機ＥＬ発光層からの光に対する透過率も低下し、輝度は５０％以下になってしまう。
▲２▼特開２０００−３１５５８２号公報の有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ発光層の光も光吸収層によって吸収されてしまうため、やはり輝度が５０％以下に低下してしまう。
▲３▼Ｒ，Ｇ，Ｂの光の透過フィルタをそれぞれＲ，Ｇ，Ｂの画素に適用する背景技術は、有力な方法ではあるものの、外光反射率が３０％程度あり、その低減効果が十分とはいえない。
【０００６】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、本来の画像の輝度の低下を招くことなく、外光によるコントラストの低下を大幅に改善することができる表示装置および表示装置のコントラスト低下防止方法を提供することにある。
【０００７】
本発明による表示装置は、Ｒ（赤），Ｇ（緑）及びＢ（青）の各画素が一定の順序で配列された表示装置であって、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちから選択された一つの色の光を吸収するフィルタを、他の選択しなかった色の画素の光出力側あるいは外光入射側に配置すると共に、各色画素領域に対応して光共振器を設け、光共振器が当該色の反射率が最小となるように構成したものである。
【０００８】
主要な形態の一つは、前記フィルタがＧの光の吸収フィルタであり、これをＲ及びＢの画素の光出力側あるいは外光入射側に配置したことを特徴とする。他の形態は、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素が、反射層と透明層の間に有機ＥＬ層を挟んだ構造を有し、前記フィルタを前記透明層の光出力側あるいは外光入射側に配置したことを特徴とする。更に他の形態は、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素が、反射層と半透明反射層の間に有機ＥＬ層を挟んだ構造を有し、前記フィルタを前記半透明反射層の光出力側あるいは外光入射側に配置したことを特徴とする。
【０００９】
本発明による表示装置のコントラスト低下防止方法は、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各画素が一定の順序で配列された表示装置のコントラスト低下防止方法であって、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの最も視感反射率の高い色を選択し、選択された色以外の色の画素の光出力側あるいは外光入射側にはそれぞれ該当する色の透過フィルタを配置すると共に、各色画素領域に対応して光共振器を設け、光共振器が当該色の反射率が最小となるように構成し、前記選択された色の画素の光出力側あるいは外光入射側には前記透過フィルタを配置しないことにより、外光によるコントラストの低下を防止するものである。
【００１０】
本発明による表示装置では、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちから選択された一つの色の光を吸収するフィルタが、他の選択しなかった色の画素の光出力側あるいは外光入射側に配置されていると共に、各色画素領域に対応して光共振器が設けられ、光共振器が当該色の反射率が最小となるように構成されているため、輝度が低下することなく、外光による特定の色の反射が抑制され、全体としてのコントラストが向上する。特に, 選択する色を肉眼による視感反射率の高いＧ（緑）に設定することにより，よりコントラストが向上する。
また、本発明による表示装置のコントラスト低下防止方法では、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの最も視感反射率の高い色を選択し、前記選択された色以外の色の画素の光出力側あるいは外光入射側にはそれぞれ該当する色の透過フィルタを配置すると共に、各色画素領域に対応して光共振器を設け、光共振器が当該色の反射率が最小となるように構成し、選択された色の画素の光出力側あるいは外光入射側には前記透過フィルタを配置しないので、これにより外光によるコントラストの低下が防止される。
【００１１】
【発明の実施の形態】
＜実施形態１＞……最初に、本発明の実施形態１について詳細に説明する。表示装置は、図１（Ａ）に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの各発光画素が一定の順序で２次元配列された構成となっている。図示の例では、Ｘ方向にＲ，Ｇ，Ｂ，……の順序の繰り返し配列となっており、Ｙ方向には同一色の発光画素の連続となっている。そして、Ｘ方向に連続する発光画素Ｒ，Ｇ，Ｂの組合せによって、画像画素Ｐを構成している。本実施形態においては、Ｇの発光画素を除くＲ及びＢの発光画素の画像表示側（光出力側ないし外光入射側）に、それぞれＧ光吸収フィルタＦＧが設けられた構成となっている。
【００１２】
ＲもしくはＢの発光画素の積層構造を示すと、図２のようになる。同図において、ガラス基板１０上には、まず、Ｐｔ，Ａｕ，Ｃｒ，Ｗなどによってアノード電極を兼ねた反射層１２が積層形成される。次に、この反射層１２上に、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ，２−ＴＮＡＴＡなどによってバッファ層１４が積層され、更にその上に、α−ＮＰＤなどによってホール輸送層１６が積層形成される。このホール輸送層１６上には、Ａｌｑ３などによって電子輸送層を兼ねた発光層１８が積層される。これらバッファ層１４，ホール輸送層１６，発光層１８によって有機ＥＬ層２０が構成されている。
【００１３】
次に、この有機ＥＬ層２０上には、Ｍｇ：Ａｇ（ＭｇとＡｇの合金）などによってカソード電極を兼ねた半透明反射層２２が積層形成されている。この半透明反射層２２上には、ＩＴＯなどによって形成された透明導電膜２４を介して、ＳｉＮなどによるパッシベーション膜２６が積層形成されている。このパッシベーション膜２６上に、上述したＧ光吸収フィルタＦＧが配置されている。
【００１４】
以上の各層の好ましい膜厚を示すと、
▲１▼反射層１２……１００〜３００ｎｍ，
▲２▼バッファ層１４……１５〜３００ｎｍ，
▲３▼ホール輸送層１６……１５〜１００ｎｍ，
▲４▼発光層１８……１５〜１００ｎｍ，
▲５▼半透明反射層２２……５〜５０ｎｍ，
▲６▼透明導電膜２４……３０〜１０００ｎｍ，
▲７▼パッシベーション膜２６……５００〜１００００ｎｍ，
である。
【００１５】
次に、このような発光画素の作用を説明すると、有機ＥＬ層２０の発光層１８から発せられた光のうち、一部は矢印Ｆ１で示すように半透明反射層２２を透過し、更には透明導電膜２４，パッシベーション膜２６を透過してＧ光吸収フィルタＦＧに入射する。しかし、発光層１８から発せられた光の一部は、矢印Ｆ２で示すように、半透明反射層２２と反射層１２によってそれぞれ反射される。すなわち、半透明反射層２２と反射層１２によって光共振器構造が構成されており、これによって光が多重干渉を起こす。これは、一種の狭帯域フィルタとして作用し、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少して、色純度が向上するようになる。
【００１６】
なお、このためには、狭帯域フィルタのピーク波長と、取り出したい光のスペクトルのピーク波長を一致させるようにする。すなわち、反射層１２と半透明反射層２２との間の光学的距離をＬ（有機ＥＬ層２０の光学的膜厚）が、前記半透明反射層２２と反射層１２との間で生じる反射光の位相シフトをΦ（ｒａｄ），有機ＥＬ層２０で発光する光のうちの取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλとするとき、
２Ｌ／λ＋Φ／（２π）＝ｍ（ｍは整数） ……（１）
の条件を満たすようにする。なお、この数式（１）中，Ｌ及びλは単位が共通すればよいが、例えば「ｎｍ」を単位とする。実際には、前記数式（１）を満たす範囲であって、かつ、前記光共振器の光学的距離Ｌが正の最小値となるように設定する。
【００１７】
このような条件は、一般的にいう光の透過率を最大にする条件に一致する。逆に、外から入射する光の反射に関しては最少にする条件である。ここで、外光に着目すると、Ｇ光吸収フィルタＦＧがない場合における発光画素の外光反射率Ｒ（λ）は、図３に示すようになる。図中、Ｒ，Ｇ，Ｂのグラフは、Ｒ，Ｇ，Ｂ各発光画素における外光反射率を示す。上述したように、光共振器は、外光反射を最少とする条件となっている。その様子は、図３に示すとおりであり、例えばＢの発光画素は、Ｂの外光反射（４５０〜５００ｎｍ付近）が最少となっている。ＲやＧの発光画素についても図示の通りである。
【００１８】
一方、肉眼の感度を表す視感度曲線ｙ（λ）は、図４に示すようになっており、Ｇ付近がピークとなっている。従って、肉眼には、図３に示す外光反射率Ｒ（λ）に図４の視感度曲線ｙ（λ）を掛け合わせた図５に示すグラフのように観察されることになる。この図５を参照すると、発光ピーク波長での外光反射率は、数％程度と非常に低く押さえられている。例えば、Ｂの発光画素のＢの外光反射率は、ほぼ０％となっている。ＲやＧの発光画素についても図示のとおりである。しかし、矢印Ｆ５（波長５５０ｎｍ）で示すように、Ｒの発光画素におけるＧの外光反射率は０．６となっており、Ｂの発光画素におけるＧの外光反射率は０．４程度となっており、いずれもかなり大きな値となっている。
【００１９】
これに対し、本実施形態では、図１に示したように、Ｒ及びＢの発光画素上にＧ光吸収フィルタＦＧが設けられている。このＧ光吸収フィルタＦＧの透過特性Ｔ（λ）は、例えば図６に示すように設定されている。すなわち、肉眼の視感度（図４参照）の高いＧの光の波長域の透過率が最少になっており、それ以外のＲやＢの光の透過率が最大となっている。別言すれば、Ｇの光はほぼ吸収し、ＲやＢの光はほぼ透過する特性となっている。
【００２０】
外光は、このような特性のＧ光吸収フィルタＦＧを、発光画素に対する入射及び出射においてそれぞれ通過する。このため、Ｇ光吸収フィルタＦＧをＲ及びＢの発光画素に配置したときの外光反射率Ｒｔ（λ）は、前記図３に示した外光反射率Ｒ（λ）に、図６に示したＧ光吸収フィルタＦＧの透過特性Ｔ（λ）を２回掛け合わせた
Ｒｔ（λ）＝Ｔ（λ）×Ｒ（λ）×Ｔ（λ） ………（２）
で与えられる。これをグラフで示すと図７のようになり、各色の発光画素のＧ帯域における外光反射率を非常に低く押えることができる。
【００２１】
更に、上述したように、肉眼の視感度曲線ｙ（λ）は図４に示したようになっている。従って、この視感度曲線ｙ（λ）を考慮した本実施形態の外光反射率Ｒｅ（λ）は、
Ｒｅ（λ）＝Ｒｔ（λ）×ｙ（λ） ……（３）
で与えられ、これをグラフで示すと図８のようになる。
【００２２】
このＧ光吸収フィルタを適用した本実施形態の外光反射率（図８）と、Ｇ光吸収フィルタを使用しない場合の外光反射率（図５）を比較すると、まず、Ｇの発光画素のグラフは同一である。次に、Ｒ及びＢの発光画素のグラフを比較すると、いずれも図８の方が可視全域に渡って非常に低い外光反射率となっている。特に、波長５５０ｎｍ付近のＧの波長域において大幅に低下しており、外光の反射が非常に効果的に抑制されている。
【００２３】
次に、可視全域にわたって視感度曲線ｙ（λ）を積分した値に対する外光反射率を積分した値の割合は、視感反射率となり、図９のようになる。同図において、まず本実施形態のＧ光吸収フィルタ有りの場合は、上述した数式（３）の外光反射率Ｒｅ（λ）を積分した値の視感度積分値に対する割合であり、同図に示すように、Ｒ発光画素……３．６，Ｇ発光画素……１５．９，Ｂ発光画素……８．２，平均……９．２となっている。これに対し、図５に示したＧ光吸収フィルタなしの場合は、Ｒ発光画素……４７．５，Ｇ発光画素……１５．９，Ｂ発光画素……３２．０，平均……３１．８である。このように、Ｇ光吸収フィルタがある場合は、ない場合と比べて、平均で１／３以下の視感反射率になっている。なお、Ｇ発光画素の視感反射率は、Ｇ光吸収フィルタが設けられないので、同一の値である。
【００２４】
一方、有機ＥＬ層２０による本来の発光に対する透過率は、図６に示したＧ光吸収フィルタＦＧの透過特性Ｔ（λ）で与えられる。このため、本来の光の取り出し効率の低下は少なく、表示画像の輝度の低下は最小限に押えられる。従って、本実施形態によれば、表示輝度の低下を招くことなく、外光下でのコントラストを従来に比べて大幅に改善することができる。
【００２５】
次に、図９に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの各発光画素にＲ，Ｇ，Ｂの各光の透過フィルタをそれぞれ設けた３色カラーフィルタの場合の視感反射率は、図９に示すように、Ｒ発光画素……５．１，Ｇ発光画素……５．５，Ｂ発光画素……１．３，平均……４．０となっており、本実施形態よりも更に低い視感反射率となっている。しかし、この３色カラーフィルタを使用する手法は、フィルタとして使用する材料が３種類となるとともに、パターニングも３回行う必要があり、コストが非常に高くなってしまう。これに対し、本実施形態は、Ｇ光吸収フィルタＦＧ用の材料１種類のみでよく、パターニングも１回のみであり、生産効率の向上，製造コストの低減を図ることができる。
【００２６】
なお、本実施形態の変形例として、図１（Ｂ）や（Ｃ）に示すものがある。まず、図１（Ｂ）の例は、ＧとＢの発光画素にＲ光吸収フィルタＦＲを設けた例である。この場合は、前記図５の外光反射率のグラフのうち、Ｒの光の波長域の反射率が低減されるようになる。図１（Ｃ）の例は、ＲとＧの発光画素にＢ光吸収フィルタＦＢを設けた例である。この場合は、前記図５の外光反射率のグラフのうち、Ｂの光の波長域の反射率が低減されるようになる。
【００２７】
＜実施形態２＞……次に、図１０を参照して本発明の実施形態２について説明する。上述した実施形態１と同様もしくは対応する構成要素には同一の符号を用いる。本実施形態は、前記実施形態とは逆に基板側から光を取り出す構造としたもので、基板１０側から、透明導電膜２４，Ｃｒなどによる半透明反射層５０，バッファ層１４，ホール輸送層１６，発光層１８，Ａｌなどによる反射層５２の順に積層されている。すなわち、基板側が半透明の反射層５０の構成となっている。Ｇ光吸収フィルタＦＧは、更に基板１０上に配置されている。
【００２８】
有機ＥＬ層２０の発光層１８から発せられた光のうち、一部は矢印Ｆ１１で示すように半透明反射層５０を透過し、更には透明導電膜２４，基板１０を透過してＧ光吸収フィルタＦＧに入射する。しかし、発光層１８から発せられた光の一部は、矢印Ｆ１２で示すように、半透明反射層５０と反射層５２によってそれぞれ反射される。すなわち、半透明反射層５０と反射層５２によって光共振器構造が構成されており、これによって光が多重干渉を起こす。いずれにしても、基板１０から出力された光は、Ｇ光吸収フィルタＦＧを介して外部に出力される。本実施形態２によっても、上述した実施形態１と同様の効果を得ることができる。
【００２９】
＜実施形態３＞……次に、図１１を参照して実施形態３を説明する。まず、図１１（Ａ）の例は、Ｇ光吸収フィルタＦＧをパッシベーション膜２６上に設けた例である。同図（Ｂ）の例は、Ｇ光吸収フィルタＦＧを透明導電膜２４とパッシベーション膜２６の間に形成した例である。いずれも、上述した実施形態１と比較して、Ｇ光吸収フィルタＦＧの位置が異なるのみである。次に、実施形態１の発光層１８が電子輸送層を兼ねた構成となっているのに対し、同図（Ｃ）の例は、それらを分離し、発光層１８Ａと電子輸送層１８Ｂが形成されている。
【００３０】
以上の例は、いずれも反射層と半透明反射層を備えており、それらによって光共振器構造が構成されている。これに対し、図１１（Ｄ）の例は、半透明反射層がなく、有機ＥＬ層２０から出力された光が矢印Ｆ１で示すように直接Ｇ光吸収フィルタＦＧに入射するか、もしくは、矢印Ｆ３で示すように反射層１２で反射されてＧ光吸収フィルタＦＧに入射する光共振器のない構成となっている。本発明は、このような反射電極（反射層１２）と透明電極（透明導電膜２４）を用いる一般的な有機ＥＬ素子の場合にも適用可能である。この場合、例えば、特開平６−１３２０８１号公報にあるようなバンドパスフィルタを用いて色度を向上させるようにした有機ＥＬ素子があるが、本例のようにＧ光吸収フィルタをＲ及びＢの発光画素に関して用いれば、同様の効果を得ることができる。本例によれば、特開平６−１３２０８１号公報の有機ＥＬ素子と比較して、材料の種類とパターニング回数を減らすことができるという利点がある。
【００３１】
＜実施形態４＞……次に、図１（Ｄ）を参照して実施形態４を説明する。この例は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各発光画素のうち、Ｒの発光画素上にはＲ光透過フィルタＥＲを設け、Ｂの発光画素上にはＢ光透過フィルタＥＢを設けた例である。別言すれば、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色カラーフィルタを用いた背景技術のうち、Ｇの光のフィルタを除いた例である。上述したＧ光吸収フィルタは、別言すれば、Ｒ及びＢの光の透過フィルタであると考えることができる。一方、図９に示したように、Ｒの発光画素にＲの光の透過フィルタを適用した場合の視感反射率は５．１と低く、Ｂの発光画素にＢの光の透過フィルタを適用した場合の視感反射率は１．３と非常に低い。
【００３２】
そこで、図１（Ｄ）のように、Ｒ，Ｂの各発光画素にＲ，Ｂの光の透過フィルタＥＲ，ＥＢをそれぞれ設けることで、図９に示すように、視感反射率が、Ｒ……５．１，Ｇ……１５．９，Ｂ……１．３となり、平均でも７．４となって、前記実施形態よりも優れた結果が得られるようになる。
【００３３】
＜他の実施形態＞……本発明には数多くの実施形態があり、以上の開示に基づいて多様に改変することが可能である。例えば、次のようなものも含まれる。
（１）前記実施形態では、有機ＥＬディスプレイに本発明を適用した例であるが、Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素はどのようなタイプであってもよい。例えば、液晶ディスプレイ，プラズマディスプレイなど、各種の画素マトリクス型ディスプレイに本発明は適用可能である。また、有機ＥＬ素子についても各種の構成や材料が公知であり、それらのいずれに適用してもよい。
（２）上述した各部の材料や膜厚も一例であり、必要に応じて適宜変更してよい。
【００３４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、次のような効果がある。
（１）外光に対するフィルタとして、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの一色のみを使用するため、材料の種類や生産時におけるパターニングの回数が低減される。
（２）Ｇの光の吸収フィルタをＲ及びＢの画素の光出力側あるいは外光入射側に設けることとしたので、コントラストが大幅に向上するとともに、材料の種類や生産時におけるパターニングの回数が低減されて生産性が向上する。
（３）特に画素として光共振器を有する有機ＥＬ素子を使用することとしたので、輝度の低下を招くことがない。
（４）Ｒ及びＢの画素の光出力側あるいは外光入射側にＲ及びＢの光の透過フィルタをそれぞれ配置することとしたので、外光が良好にそれらに吸収され、コントラストが大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる実施形態における発光画素とフィルタとの重なり具合を示す平面図である。
【図２】発光画素の積層構造の一例を示す主要断面図である。
【図３】前記実施形態におけるＧ光吸収フィルタのない場合の外光反射率を示すグラフである。
【図４】肉眼の視感度曲線を示すグラフである。
【図５】視感度を考慮した前記実施形態の外光反射率を示すグラフである。
【図６】前記実施形態におけるＧ光吸収フィルタの透過率を示すグラフである。
【図７】前記実施形態におけるＧ光吸収フィルタを考慮した外光反射率を示すグラフである。
【図８】前記図７に図４の視感度を考慮した外光反射率を示すグラフである。
【図９】Ｒ，Ｇ，Ｂ各発光画素におけるフィルタの有無と視感反射率との関係を示す図である。
【図１０】本発明の実施形態２の主要積層構造を示す断面図である。
【図１１】本発明の実施形態３の主要積層構造を示す断面図である。
【符号の説明】
１０…基板
１２…反射層
１４…バッファ層
１６…ホール輸送層
１８，１８Ａ…発光層
１８Ｂ…電子輸送層
２０…有機ＥＬ層
２２…半透明反射層
２４…透明導電膜
２６…パッシベーション膜
５０…半透明反射層
５２…反射層
ＦＢ…Ｂ光吸収フィルタ
ＦＧ…Ｇ光吸収フィルタ
ＦＲ…Ｒ光吸収フィルタ
ＥＲ…Ｒ光透過フィルタ
ＥＢ…Ｂ光透過フィルタ
Ｌ…光学的距離
Ｐ…画像画素
Ｒ，Ｇ，Ｂ…発光画素

Claims

Ｒ（赤），Ｇ（緑）及びＢ（青）の各画素が一定の順序で配列された表示装置であって、
前記Ｒ，Ｇ，Ｂのうちから選択された一つの色の光を吸収するフィルタを、他の選択しなかった色の画素の光出力側あるいは外光入射側に配置すると共に、各色画素領域に対応して光共振器を設け、前記光共振器が当該色の反射率が最小となるように構成したことを特徴とする表示装置。
前記フィルタがＧの光の吸収フィルタであり、これをＲ及びＢの画素の光出力側あるいは外光入射側に配置したことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
前記Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素が、反射層と透明層の間に有機ＥＬ層を挟んだ構造を有し、前記フィルタを前記透明層の光出力側あるいは外光入射側に配置したことを特徴とする請求項２記載の表示装置。
前記Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素が、反射層と半透明反射層の間に有機ＥＬ層を挟んだ構造を有し、前記フィルタを前記半透明反射層の光出力側あるいは外光入射側に配置したことを特徴とする請求項２記載の表示装置。
前記反射層と前記半透明反射層とが、当該画素で取り出したい光を取り出すための光共振器を構成することを特徴とする請求項４記載の表示装置。
前記光共振器中で生ずる反射光の位相シフトをΦ(rad) ，前記反射層と半透明反射層の間の光学的距離をＬ(nm)，取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλ（nm) としたとき、各々の値が、
２Ｌ／λ＋Φ／２π＝ｍ（ｍは整数）
の条件を満たすように設計されていることを特徴とする請求項５記載の表示装置。
前記光共振器の光学的距離Ｌが正の最小値となるように設定されたことを特徴とする請求項６記載の表示装置。
Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各画素が一定の順序で配列された表示装置のコントラスト低下防止方法であって、
前記Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの最も視感反射率の高い色を選択し、前記選択された色以外の色の画素の光出力側あるいは外光入射側にはそれぞれ該当する色の透過フィルタを配置するすると共に、各色画素領域に対応して光共振器を設け、前記光共振器が当該色の反射率が最小となるように構成し、前記選択された色の画素の光出力側あるいは外光入射側には前記透過フィルタを配置しないことにより、外光によるコントラストの低下を防止することを特徴とする表示装置のコントラスト低下防止方法。
前記Ｒの画素の光出力側あるいは外光入射側にＲの光の透過フィルタを配置すると共に、前記Ｂの画素の光出力側あるいは外光入射側にＢの光の透過フィルタを配置し、前記Ｇの画素の光出力側あるいは外光入射側にはフィルタを配置しないことを特徴とする請求項８記載の表示装置のコントラスト低下防止方法。
前記Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素が、反射層と半透明反射層の間に有機ＥＬ層を挟んだ構造を有し、前記透過フィルタを前記半透明反射層の光出力側あるいは外光入射側に配置することを特徴とする請求項９記載の表示装置のコントラスト低下防止方法。
前記反射層と前記半透明反射層とで、当該画素で取り出したい光を取り出すための光共振器を構成することを特徴とする請求項１０記載の表示装置のコントラスト低下防止方法。
前記光共振器中で生ずる反射光の位相シフトをΦ(rad) ，前記反射層と半透明反射層の間の光学的距離をＬ(nm)，取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλ（nm) としたとき、各々の値が、
２Ｌ／λ＋Φ／２π＝ｍ（ｍは整数）
の条件を満たすように設計することを特徴とする請求項１１記載の表示装置のコントラスト低下防止方法。
前記光共振器の光学的距離Ｌが正の最小値となるように設定することを特徴とする請求項１２記載の表示装置のコントラスト低下防止方法。